描述了(PR 3)3 RhCl络合物对
氯化
乙烯和
氟化乙烯的催化脱卤作用。C-Cl和C-F键在三乙基
硅烷(Et 3 SiH)或二氢(H 2)存在下被催化剂活化。除底物偏爱外,光谱研究表明氢化
铑是重要的中间体。脱氢反应的动力学参数和产物分布使用NMR光谱法测定。获得了依次去除
氯的证据,并且发现脱卤速率随卤素含量的降低而增加。还表明,该催化体系对sp 2-的偏好高于sp 3-杂化的碳-卤素键。使用(PPh 3)3 RhCl和H 2或Et 3 SiH进行的脱
氯反应支持插入/β
氯化物消除机理。但是,这两个系统显示出明显的差异。基于这些差异,提出Et 3 SiH的主要途径涉及
铑(I),而提出H 2系统主要涉及
铑(III)。使用D 2,Et 3 SiD和(PPh 3)3 RhD的同位素标记研究支持了这一点,这些研究产生了不同的脱
氯产物立体
化学。使用D 2时,仅符合以下条件的产品观察到了顺-β-
氯化物消除,而使用Et