2-Cyclohexyl-5-tetrazolcarbonsaeure | 55408-12-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 2-Cyclohexyl-5-tetrazolcarbonsaeure
• 英文别名: 2-cyclohexyl-2H-tetrazole-5-carboxylic acid；2-Cyclohexyltetrazole-5-carboxylic acid
• CAS: 55408-12-3
• 化学式: C₈H₁₂N₄O₂
• 分子量: 196.209
• InChiKey: RGUCMWOSYGDKTG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  80.9
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Cyclohexyl-5-tetrazolcarbonsaeure 以72%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  MODERHACK D., CHEM. BER. , 1975, 108, NO 3, 887-896

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  5－甲酸乙酯四氮唑 、 溴代环己烷 以12%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  MODERHACK D., CHEM. BER. , 1975, 108, NO 3, 887-896

  摘要：

  DOI：

文献信息

• POLISHING COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SAME, POLISHING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE
  申请人：FUJIMI INCORPORATED

  公开号：US20190085208A1

  公开（公告）日：2019-03-21

  To provide a polishing composition capable of polishing objects to be polished, such as simple substance silicon, silicon compounds, and metals, at a high polishing removal rate. The polishing composition contains a polishing removal accelerator containing a compound having a ring structure configured to contain four or more nitrogen atoms, abrasives, and a liquid medium.