N,N-dimethyl-endo-bicyclo<2.2.1>hept-5-ene-2-carboxamide | 25171-46-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: N,N-dimethyl-endo-bicyclo<2.2.1>hept-5-ene-2-carboxamide
• 英文别名: N,N-dimethyl-exo-bicyclo<2.2.1>hept-5-ene-2-carboxamide；N,N-dimethyl-endo-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide；N,N-dimethyl-exo-bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide；N,N-Dimethylbicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide
• CAS: 25171-46-4
• 化学式: C₁₀H₁₅NO
• 分子量: 165.235
• InChiKey: VHDXYZOZULHRIL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.7
• 拓扑面积：
  20.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2924299090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N-dimethyl-endo-bicyclo<2.2.1>hept-5-ene-2-carboxamide 在 吩噻嗪 作用下， 380.0~420.0 ℃ 、10.0 kPa 条件下， 生成 N,N-二甲基丙烯酰胺
  参考文献：
  名称：

  Ｎ−置換（メタ）アクリルアミドの製造方法

  摘要：

  将其翻译成中文，直接给您结果： 【问题】提供一种工业化生产高收率、高纯度的诺尔伯伦烯羧酸酰胺衍生物和N-取代（甲基）丙烯酰胺的方法，以丙烯酸为起始物质。 【解决方法】利用丙烯酸和环戊二烯的狄尔斯-阿尔德反应生成物，即诺尔伯伦烯羧酸衍生物，通过在无机物中主要成分为二氧化硅的催化剂存在下，进行胺化合物和酰胺化反应，获得诺尔伯伦烯羧酸酰胺衍生物。此外，通过诺尔伯伦烯羧酸酰胺衍生物的气相热分解反应，使环戊二烯脱离，从而获得目标化合物N-取代（甲基）丙烯酰胺。 【选择图】无

  公开号：

  JP2015101553A
• 作为产物：
  描述：

  环戊二烯 、 N,N-二甲基丙烯酰胺 以 乙酸乙酯 为溶剂， 生成 N,N-dimethyl-endo-bicyclo<2.2.1>hept-5-ene-2-carboxamide 、 N,N-dimethyl-endo-bicyclo<2.2.1>hept-5-ene-2-carboxamide
  参考文献：
  名称：

  Enhanced bulk catalyst dissolution for self-healing materials

  摘要：

  我们开发了一个模型来帮助选择能够快速溶解自愈合材料中催化剂的愈合单体。该模型预测了格拉布斯催化剂在一个小型的开环偏聚（ROMP）活性降冰片烯基愈合单体库中的溶解速率。通过实验为格拉布斯催化剂和愈合单体分配了几组汉森参数，并观察到参数与催化剂相似的愈合单体和单体混合物能够快速溶解催化剂。该模型在预测粘度大不相同的愈合单体的溶解趋势方面能力有限。

  DOI：

  10.1039/c0jm00521e

文献信息

• [EN] IMIDAZO [4, 5 - B] PYRIDINE DERIVATIVES AS ALK AND JAK MODULATORS FOR THE TREATMENT OF PROLIFERATIVE DISORDERS<br/>[FR] DÉRIVÉS IMIDAZO [4,5-B] PYRIDINE COMME MODULATEURS D'ALK ET DE JAK POUR LE TRAITEMENT DE TROUBLES PROLIFÉRATIFS
  申请人：CEPHALON INC

  公开号：WO2013116291A1

  公开（公告）日：2013-08-08

  This application relates to compounds of the Formula I as defined herein, and/or salts thereof. This application further relates to compositions and methods of using these compounds and/or salts thereof. The compounds of Formula I are useful as ALK and JAK modulators for the treatment of proliferative disorders.

  这项申请涉及到本文所定义的Formula I化合物及/或其盐。此申请进一步涉及到使用这些化合物和/或其盐的组合物和方法。Formula I化合物可用作ALK和JAK调节剂，用于治疗增殖性疾病。
• RESIN MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD FOR PRODUCING RESIST UNDERLAYER FILM, AND LAYERED PRODUCT
  申请人：Mitsui Chemicals, Inc.

  公开号：EP3693793A1

  公开（公告）日：2020-08-12

  Provided is a resin material for forming an underlayer film which is used to form a resist underlayer film used in a multi-layer resist process, the resin material including a cyclic olefin polymer (I), in which a temperature at an intersection between a storage modulus (G') curve and a loss modulus (G") curve in a solid viscoelasticity of the resin material for forming an underlayer film which is as measured under conditions of a measurement temperature range of 30°C to 300°C, a heating rate of 3°C/min, and a frequency of 1 Hz in a nitrogen atmosphere in a shear mode using a rheometer is higher than or equal to 40°C and lower than or equal to 200°.

  本发明提供了一种用于形成底层膜的树脂材料，该底层膜可用于形成多层光刻胶工艺中使用的光刻胶底层膜，该树脂材料包括环烯烃聚合物 (I)、其中，用于形成底层膜的树脂材料的固体粘弹性中的存储模量（G'）曲线和损失模量（G"）曲线的交点温度高于或等于 40°C，且低于或等于 200°C；该固体粘弹性是在测量温度范围为 30°C 至 300°C、加热速率为 3°C/min 和频率为 1 Hz 的条件下，在氮气环境中使用流变仪以剪切模式测得的。
• 感放射線性樹脂組成物
  申请人：ジェイエスアール株式会社

  公开号：JP2002202604A

  公开（公告）日：2002-07-19

  (57)【要約】\n【課題】 特にＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）に代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等に優れるのみならず、スペース幅の増減による線幅変動が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。\n【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、（Ａ１）Ｎ，Ｎ−ジメチルノルボルネン−５−カルボン酸アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン−８−カルボン酸アミド等に代表される（置換）カルボン酸アミド基を有するノルボルネン系繰返し単位を含有する樹脂、あるいは（Ａ２）Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等に代表される（置換）（メタ）アクリルアミド系繰返し単位を含有し、かつ脂環族骨格を有する樹脂、並びに（Ｂ）感放射線性酸発生剤を含有する。

  (57) [摘要] n [主题] 作为对远紫外线，特别是以 ArF 准分子激光（波长：193 nm）为代表的远紫外线敏感的化学放大光刻胶，提供了一种不仅对辐射具有高透明度，而且具有优异的灵敏度、分辨率和图案形状，以及因空间宽度的增减而导致的线宽变化小的辐射敏感光刻胶。提供了树脂组合物。含有具有（取代）羧酸酰胺基团（如十二碳-3-烯-8-羧酸酰胺）的降冰片烯重复单元的树脂，或 (A2) N,N(A2) 含有（取代的）(甲基)丙烯酰胺基重复单元（如二甲基（甲基）丙烯酰胺 或类似物）并具有脂环族骨架的树脂，以及 (B) 辐射敏感性酸生成剂。
• IMIDAZO [4, 5 - B]PYRIDINE DERIVATIVES AS ALK AND JAK MODULATORS FOR THE TREATMENT OF PROLIFERATIVE DISORDERS
  申请人：Cephalon, Inc.

  公开号：EP2809671A1

  公开（公告）日：2014-12-10
• RESIN MATERIAL FOR FORMING UNDERLAYER FILM, RESIST UNDERLAYER FILM, METHOD OF PRODUCING RESIST UNDERLAYER FILM, AND LAMINATE
  申请人：MITSUI CHEMICALS, INC.

  公开号：US20200241419A1

  公开（公告）日：2020-07-30

  Provided is a resin material for forming an underlayer film which is used to form a resist underlayer film used in a multi-layer resist process, the resin material including a cyclic olefin polymer (I), in which a temperature at an intersection between a storage modulus (G′) curve and a loss modulus (G″) curve in a solid viscoelasticity of the resin material for forming an underlayer film which is as measured under conditions of a measurement temperature range of 30° C. to 300° C., a heating rate of 3° C./min, and a frequency of 1 Hz in a nitrogen atmosphere in a shear mode using a rheometer is higher than or equal to 40° C. and lower than or equal to 200°.