4-仲丁基-2-溴苯酚 | 63762-55-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-仲丁基-2-溴苯酚
• 英文名称: 2-bromo-4-(sec-butyl)phenol
• 英文别名: 2-bromo-4-butan-2-ylphenol
• CAS: 63762-55-0
• 化学式: C₁₀H₁₃BrO
• 分子量: 229.117
• InChiKey: ZAINGYFRUOVIGY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.2
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 危险等级：
  IRRITANT
• 危险品标志：
  Xi
• 海关编码：
  2908199090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-仲丁基-2-溴苯酚 在 bis-triphenylphosphine-palladium(II) chloride 、 三甲基乙酸钾 、 potassium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基乙酰胺 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 39.0h， 生成 2,10-di-sec-butylbis(benzofuro)[2,3-b:3’,2’-e]pyrazine
  参考文献：
  名称：

  Stimuli‐Responsive Properties on a Bisbenzofuropyrazine Core: Mechanochromism and Concentration‐Controlled Vapochromism

  摘要：

  摘要具有发光开关特性的刺激响应型有机材料在传感、安全和显示设备中的实际应用引起了广泛关注。本文合成了具有良好溶解性的弯曲型双苯并呋喃吡嗪衍生物 Bent-H 和 Bent-sBu，并详细研究了它们的物理和光学性质。Bent-H 具有三种结晶多晶型，它们因晶体堆积结构的不同而显示出不同的发光特性。此外，尽管 Bent-H 的骨架是刚性的，但它仍表现出机械变色发光特性。Bent-sBu 显示出独特的浓度依赖性汽相发光。在低浓度、中等浓度和高浓度的 CHCl3 蒸汽中，研磨的 Bent-sBu 分别转化为蓝色发光、绿色发光和绿色发光的高粘度溶液态。这一发现代表了有机溶剂随浓度变化的多相转变，对传感系统的应用具有极大的兴趣。

  DOI：

  10.1002/chem.202302605
• 作为产物：
  描述：

  对仲丁基苯酚 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 生成 4-仲丁基-2-溴苯酚
  参考文献：
  名称：

  Stimuli‐Responsive Properties on a Bisbenzofuropyrazine Core: Mechanochromism and Concentration‐Controlled Vapochromism

  摘要：

  摘要具有发光开关特性的刺激响应型有机材料在传感、安全和显示设备中的实际应用引起了广泛关注。本文合成了具有良好溶解性的弯曲型双苯并呋喃吡嗪衍生物 Bent-H 和 Bent-sBu，并详细研究了它们的物理和光学性质。Bent-H 具有三种结晶多晶型，它们因晶体堆积结构的不同而显示出不同的发光特性。此外，尽管 Bent-H 的骨架是刚性的，但它仍表现出机械变色发光特性。Bent-sBu 显示出独特的浓度依赖性汽相发光。在低浓度、中等浓度和高浓度的 CHCl3 蒸汽中，研磨的 Bent-sBu 分别转化为蓝色发光、绿色发光和绿色发光的高粘度溶液态。这一发现代表了有机溶剂随浓度变化的多相转变，对传感系统的应用具有极大的兴趣。

  DOI：

  10.1002/chem.202302605

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160280675A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent having a polarity converting group and an alkali-soluble resin, in which the polarity converting group is a group capable of decomposing by the action of an alkaline aqueous solution to generate a carboxylic acid or sulfonic acid on the side having a crosslinking group.

  感光树脂或辐射敏感树脂组合物包括具有极性转换基团和可溶于碱性树脂的交联剂，其中极性转换基团是一种能够通过碱性水溶液作用分解并在具有交联基团的侧面生成羧酸或磺酸的基团。
• Trisubstituted amine compound
  申请人：Nakamura Yoshinori

  公开号：US20090023729A1

  公开（公告）日：2009-01-22

  The present invention relates to a compound of the general formula (1): wherein, Y is a methylene group, and the like; A is an optionally substituted heterocyclic group, and the like; B is an optionally substituted heterocyclic group, and the like; R 1 is an optionally substituted alkyl group, wherein the alkyl group further may optionally be substituted by an optionally substituted homocyclic group, and the like; and R 2 is an optionally substituted amino group, and the like; or a pharmaceutically acceptable derivative thereof, which has an inhibitory activity against cholesteryl ester transfer protein (CETP), thereby being useful for prophylaxis and/or treatment of arteriosclerotic diseases, hyperlipemia or dyslipidemia, and the like.

  本发明涉及一种通式（1）的化合物：其中，Y是亚甲基基团等；A是可选取的取代的杂环基团等；B是可选取的取代的杂环基团等；R1是可选取的取代的烷基团，其中该烷基团还可选择性地被可选取的取代的同环基团等所取代；而R2是可选取的取代的氨基团等；或其药学上可接受的衍生物，其具有对胆固醇酯转移蛋白（CETP）的抑制活性，因此可用于预防和/或治疗动脉硬化性疾病、高脂血症或血脂异常等。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION, AND COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION
  申请人：Takahashi Hidenori

  公开号：US20110183258A1

  公开（公告）日：2011-07-28

  A positive resist composition comprising (A) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, and (C) a compound having a specific structure, which decomposes by the action of an acid to generate an acid, a pattern forming method using the positive resist composition, and a compound for use in the positive resist composition are provided as a positive resist composition exhibiting good performance in terms of pattern profile, line edge roughness, pattern collapse, sensitivity and resolution in normal exposure (dry exposure), immersion exposure and double exposure, a pattern forming method using the positive resist composition and a compound for use in the positive resist composition.

  本发明提供了一种正性光阻组合物，包括（A）一种在与光致发色剂或辐射照射时能够产生酸的化合物，（B）一种树脂，能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度，以及（C）一种具有特定结构的化合物，能够通过酸的作用分解产生酸。该正性光阻组合物在正常曝光（干曝光）、浸没曝光和双重曝光中表现出良好的图案形貌、线边粗糙度、图案坍塌、灵敏度和分辨率性能。同时，本发明提供了一种使用该正性光阻组合物的图案形成方法以及用于该正性光阻组合物的化合物。
• TRISUBSTITUTED AMINE COMPOUND
  申请人：NAKAMURA Yoshinori

  公开号：US20110092506A1

  公开（公告）日：2011-04-21

  The present invention relates to a compound of the general formula (1): wherein, Y is a methylene group, and the like; A is an optionally substituted heterocyclic group, and the like; B is an optionally substituted phenyl group, and the like; R 1 is an optionally substituted alkyl group, and the like; and R 2 is an optionally substituted amino group, and the like; or a pharmaceutically acceptable derivative thereof, which has an inhibitory activity against cholesteryl ester transfer protein (CETP), thereby being useful for prophylaxis and/or treatment of arteriosclerotic diseases, hyperlipemia or dyslipidemia, and the like.

  本发明涉及一种通式（1）的化合物：其中，Y是亚甲基基团等；A是可选取的取代杂环基团等；B是可选取的取代苯基团等；R1是可选取的取代烷基团等；R2是可选取的取代氨基团等；或其药学上可接受的衍生物。该化合物具有对胆固醇酯转移蛋白（CETP）的抑制活性，因此可用于预防和/或治疗动脉硬化性疾病、高脂血症或血脂异常等。
• ACTIVE LIGHT RAY SENSITIVE OR RADIOACTIVE RAY SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTIVE LIGHT RAY SENSITIVE OR RADIOACTIVE RAY SENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：KAWABATA Takeshi

  公开号：US20120082939A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  An active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern configuration, and good line edge roughness at the same time to a great extent, while having sufficiently good outgassing performance during exposure, and an active light ray sensitive or radioactive ray sensitive film formed by using the composition, and a pattern-forming method, are provided. The active light ray sensitive or radioactive ray sensitive resin composition according to the present invention includes a resin (P) containing a repeating unit (A) which decomposes by irradiation with active light ray or radioactive ray to generate an acid, and a repeating unit (C) containing a primary or secondary hydroxyl group.

  提供了一种活性光线敏感或放射线敏感的树脂组合物，其在很大程度上同时满足高灵敏度、高分辨率、良好的图案配置和良好的线边粗糙度，同时在曝光期间具有足够好的排气性能，以及使用该组合物形成的活性光线敏感或放射线敏感薄膜和形成图案的方法。本发明的活性光线敏感或放射线敏感的树脂组合物包括含有重复单元（A）的树脂（P），该重复单元通过活性光线或放射线辐射分解生成酸，并且含有主要或次要羟基的重复单元（C）。