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Docosa-10,12-diynedioic acid bis-[(1-phenyl-ethyl)-amide] | 78577-96-5

中文名称
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中文别名
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英文名称
Docosa-10,12-diynedioic acid bis-[(1-phenyl-ethyl)-amide]
英文别名
N,N'-bis-(alpha-methylbenzyl)-10,12-docosadiyndiamide;N,N'-bis(1-phenylethyl)docosa-10,12-diynediamide
Docosa-10,12-diynedioic acid bis-[(1-phenyl-ethyl)-amide]化学式
CAS
78577-96-5
化学式
C38H52N2O2
mdl
——
分子量
568.843
InChiKey
NXEPDNYCEKBKGN-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    10
  • 重原子数:
    42
  • 可旋转键数:
    21
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.53
  • 拓扑面积:
    58.2
  • 氢给体数:
    2
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    10,12-二十二碳二炔二酸三乙胺氯甲酸甲酯α-苯乙胺 、 在 盐酸碳酸氢钠magnesium sulfate 、 ether-petroleum ether 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 2.35h, 以yielded 842 mg (74% crude yield) of a white solid, which的产率得到Docosa-10,12-diynedioic acid bis-[(1-phenyl-ethyl)-amide]
    参考文献:
    名称:
    Photoresistive compositions
    摘要:
    提供了利用二乙炔基材料作为其组分的摄影和光刻系统。这些材料包括至少两个相互共轭的乙炔键,提供了高灵敏度和高分辨率的组合,从而导致卓越的摄影和光刻特性。根据发明的优选实施例,基底被涂覆至少一层聚合物化合物,其中包含二乙炔基物种,该层被组织成具有二乙炔基物种的基本规则阵列的多个域。在其他实施例中,通过使用适当构成的硅烷物种实现二乙炔基层与基底的共价键结合,从而提供了基底和光刻层之间高度有益的粘附。
    公开号:
    US04439514A1
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文献信息

  • Photographic articles comprising a compound having acetylenic bonds and methods for producing the articles
    申请人:UNIVERSITY PATENTS, INC.
    公开号:EP0077577A2
    公开(公告)日:1983-04-27
    This invention provide a novel photoresistive article having significantly improved properties of resultion when used as a photoresist. The article comprising a substrate and a layer carried by said substrate of a photopolymerizable composition which layer comprises at least one material having at least two acetylenic bonds, at least two of said bonds being in conjugation with one another and having a plurality of discrete domains. In one embodiment of the invention, within the discrete domain, a majority of the molecules of the material are oriented in an irregular array. The domains may have an average dimension of less than 10,000 angstom units and provides enhanced resolution of micro-structural lines in an image projected thereon.
    本发明提供了一种新型光致抗蚀剂制品,该制品在用作光致抗蚀剂时,其结果性能得到明显改善。 该制品包括基底和由所述基底承载的一层可光聚合的组合物,该层包括至少一种具有至少两个乙炔键的材料,其中至少两个键彼此共轭,并具有多个离散畴。 在本发明的一个实施例中,在离散畴内,材料的大部分分子以不规则阵列的方式定向。 这些畴的平均尺寸可小于 10,000 个角单位,并可提高投射到其上的图像中的微观结构线的分辨率。
  • Photographic or photolithographic article and method of forming a photoresist
    申请人:UNIVERSITY PATENTS, INC.
    公开号:EP0022618B1
    公开(公告)日:1985-12-04
  • US4439514A
    申请人:——
    公开号:US4439514A
    公开(公告)日:1984-03-27
  • US4581315A
    申请人:——
    公开号:US4581315A
    公开(公告)日:1986-04-08
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