1-iodo-4-(tertpentyl)benzene | 860556-27-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-iodo-4-(tertpentyl)benzene
• 英文别名: 4-iodo-tert-amylbenzene；1-(1,1-dimethylpropyl)-4-iodo-benzene；1-Jod-4-tert-pentyl-benzol；(1,1-dimethyl-propyl)-4-iodo-benzene；1-Iodo-4-tert-pentyl-benzene；1-iodo-4-(2-methylbutan-2-yl)benzene
• CAS: 860556-27-0
• 化学式: C₁₁H₁₅I
• 分子量: 274.145
• InChiKey: MUOQEVVQYOEKOB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  261.4±19.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.408±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  溶于二氯甲烷、乙酸乙酯、己烷

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.45
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-iodo-4-(tertpentyl)benzene 在 lithium aluminium tetrahydride 、 palladium diacetate 、 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲醇 、 乙腈 为溶剂， 反应 7.0h， 生成 1-((S)-(((S)-2-methyl-3-(4-tert-pentyl)phenyl)propyl)amino(phenyl)methyl)naphthalene-2-ol
  参考文献：
  名称：

  贝蒂基于结晶诱导的取代醛脱氨的基础：对映体纯阿莫罗芬和苯丙吗啉的合成†

  摘要：

  由外消旋的O-保护的2-取代的4-羟基丁醛和对映体纯的Betti's碱衍生的萘并恶嗪的酸促进结晶诱导的非对映异构体转化（CIDT）可以使起始醛与ee的反硝化作用高达96％。或者，用氢化锂铝将非对映异构体富集的萘并恶嗪还原可得到对映体富集的伯胺。后一种方法的实用性通过将其应用于对映体富集的苯丙咪唑和ee高达99.5％的对映体纯阿莫罗芬的首次合成得到了证明。

  DOI：

  10.1039/c6ob02765b
• 作为产物：
  描述：

  叔戊基苯 在 sodium periodate 、 硫酸 、 碘 、 溶剂黄146 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 5.0h， 以97%的产率得到1-iodo-4-(tertpentyl)benzene
  参考文献：
  名称：

  一种盐酸阿莫罗芬中间体的清洁制备方法

  摘要：

  一种盐酸阿莫罗芬中间体的清洁制备方法本发明涉及一种盐酸阿莫罗芬中间体的清洁制备方法，即4‑碘代叔戊基苯的制备方法，它由叔戊基苯经碘代反应制得目标产物。本发明提供了一种合成盐酸阿莫罗芬中间体的新制备方法，具有原辅料无毒、低毒，价廉易得，操作简单，成本低，适合工业化生产，其质量可达到满意水平。

  公开号：

  CN110498729A

文献信息

• [EN] TRICYCLIC PYRAZOL AMINE DERIVATIVES<br/>[FR] DÉRIVÉS TRICYCLIQUES DE PYRAZOLAMINE
  申请人：MERCK SERONO SA

  公开号：WO2011058149A1

  公开（公告）日：2011-05-19

  This invention relates to compounds of Formula (I*) as Pi3k inhibitors for treating autoimmune diseases, inflammatory disorders, multiple sclerosis and other diseases like cancers.

  这项发明涉及到 Formula (I*) 的化合物作为 Pi3k 抑制剂，用于治疗自身免疫疾病、炎症性疾病、多发性硬化等疾病，以及癌症等其他疾病。
• Process for producing 3-[4-(1,1-dimethyl-propyl)-phenyl]2-methyl-propionaldehyde and cis-4{3-[4-(1,1-dimethyl-propyl)-phenyl]2-methyl-propyl}-2,6-dimethyl-morpholine (amorolfine)
  申请人：Galderma S.A.

  公开号：EP1842848A1

  公开（公告）日：2007-10-10

  The present invention discloses a new process for the preparation of 3-[4-(1,1-dimethyl-propyl)-phenyl]-2-methyl-propionaldehyde and for the preparation of cis-4-3-[4-(1,1-dimethyl-propyl)-phenyl]-2-methyl-propyl}-2,6-dimethyl-morpholine (Amorolfine).

  本发明公开了一种制备3-[4-(1,1-二甲基丙基)-苯基]-2-甲基-丙醛和制备顺式-4-3-[4-(1,1-二甲基丙基)-苯基]-2-甲基丙基}-2,6-二甲基吗啉（阿莫罗芬）的新工艺。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US20100233617A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A photosensitive composition includes: (A) a resin containing a repeating unit corresponding to a compound represented by the following formula (I); the resin being capable of producing an acid group upon irradiation with an actinic ray or radiation: Z-A-X—B—R   (I) wherein Z represents a group capable of becoming an acid group resulting from leaving of a cation upon irradiation with an actinic ray or radiation; A represents an alkylene group; X represents a single bond or a heteroatom-containing divalent linking group; B represents a single bond, an oxygen atom or —N(Rx)-; Rx represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; R represents a monovalent organic group substituted by Y; when B represents —N(Rx)-, R and Rx may combine with each other to form a ring; and Y represents a polymerizable group.

  一种感光组合物包括：（A）含有与下式（I）所表示的化合物对应的重复单元的树脂；该树脂能够在受到光敏射线或辐射照射后产生酸基团：Z-A-X—B—R   （I）其中Z代表一个能够在受到光敏射线或辐射照射后由阳离子离去而形成酸基团的基团；A代表一个烷基基团；X代表一个单键或含杂原子的二价连接基团；B代表一个单键、一个氧原子或—N（Rx）-；Rx代表一个氢原子或一个一价有机基团；R代表一个通过Y取代的一价有机基团；当B代表—N（Rx）-时，R和Rx可以结合在一起形成一个环；Y代表一个可聚合的基团。
• RESIST COMPOSITION CONTAINING NOVEL SULFONIUM COMPOUND, PATTERN-FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION, AND NOVEL SULFONIUM COMPOUND
  申请人：KAMIMURA Sou

  公开号：US20090042124A1

  公开（公告）日：2009-02-12

  A resist composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein each of R 1 to R 13 independently represents a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of R 1 to R 13 is a substituent containing an alcoholic hydroxyl group; Z represents a single bond or a divalent linking group; and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种抗性组合物包括(A)由以下公式（I）所代表的化合物：其中R1至R13中的每一个独立地代表氢原子或取代基，前提是R1至R13中至少有一个是含有醇羟基的取代基；Z代表单键或二价连接基团；X-代表含有质子受体功能基团的阴离子。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COMPOUND FOR USE IN THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：Kawanishi Yasutomo

  公开号：US20080081288A1

  公开（公告）日：2008-04-03

  A photosensitive composition includes (A) a compound represented by the following formula (I): wherein R 1 to R 13 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, Z represents a single bond or a divalent linking group, and X − represents an anion containing a proton acceptor functional group.

  一种光敏组合物包括(A) 由下式(I)所表示的化合物：其中R1至R13各自独立地表示氢原子或取代基，Z表示单键或二价连接基团，X-表示含有质子受体功能基团的阴离子。