n-Hexyltrifluormethansulfonimid | 52374-19-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: n-Hexyltrifluormethansulfonimid
• 英文别名: 1,1,1-trifluoro-N-hexylmethanesulfonamide
• CAS: 52374-19-3
• 化学式: C₇H₁₄F₃NO₂S
• 分子量: 233.255
• InChiKey: AZGYIEDMFXACED-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  54.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  n-Hexyltrifluormethansulfonimid 在 次氯酸叔丁酯 作用下， 以 水 为溶剂， 以92 %的产率得到
  参考文献：
  名称：

  水中咪唑功能化笼促进的位点选择性 C(sp3)-H 氯化

  摘要：

  利用配位笼中的受限空腔来操纵反应途径可以很好地补充位点选择性反应的合成不足。然而，腔内过渡态的协调是一个重大挑战。为了解决这个问题，我们设计了一种具有规则八面体几何形状的咪唑功能化笼，由12个咪唑连接体和6个Cu 4 -杯[4]芳烃节点组成。作为催化剂，二异丙基苯基咪唑鎓官能团能够实现有效的N-氯化，并且所产生的空腔有利于氯原子转移的六元环状过渡态，促进酰胺/磺酰胺的位点选择性C(sp 3 )–H氯化水。我们的机理研究揭示了氯原子转移途径腔内决定速率的 N-Cl 活化模式。

  DOI：

  10.1021/acscatal.3c04111
• 作为产物：
  描述：

  正己胺 、 三氟甲烷磺酰氯 在 sodium hydroxide 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 生成 n-Hexyltrifluormethansulfonimid
  参考文献：
  名称：

  Simple deaminations. V. Preparation and some properties of N-alkyl-N,N-disulfonimides

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo00938a017

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER
  申请人：Ebata Takuma

  公开号：US20110223537A1

  公开（公告）日：2011-09-15

  A radiation-sensitive resin composition includes a polymer, a photoacid generator, and an acid diffusion controller. The polymer includes a first repeating unit shown by a following formula (a-1). The acid diffusion controller includes at least one of a base shown by a following formula (C-1) and a photodegradable base, wherein each R 1 represents a hydrogen atom or the like, R represents a monovalent group shown by an above formula (a′), each R 19 represents a chain hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms or the like, A represents a divalent chain hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms or the like, and m and n are integers from 0 to 3 (m+n=1 to 3), wherein each of R 2 and R 3 represents a monovalent chain hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or the like.
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Serizawa Ryuichi

  公开号：US20120082936A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  A radiation-sensitive resin composition includes an acid-labile group-containing resin, and a compound shown by the following general formula (i). R 1 represents a hydrogen atom or the like, R 2 represents a single bond or the like, R 3 represents a linear or branched unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or the like, and X + represents an onium cation.
• US8921027B2
  申请人：——

  公开号：US8921027B2

  公开（公告）日：2014-12-30