Cyclohex-3-encarbonsaeure-t-butylester | 15507-83-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: Cyclohex-3-encarbonsaeure-t-butylester
• 英文别名: 4-t-Butoxycarbonyl-cyclohexen；tert-Butyl-3-cyclohexen-1-carboxylat；3-cyclohexene-1-carboxylic acid tert-butyl ester；Tert-butyl cyclohex-3-ene-1-carboxylate
• CAS: 15507-83-2
• 化学式: C₁₁H₁₈O₂
• 分子量: 182.263
• InChiKey: PCPNNGDBPVWDDF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.73
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Cyclohex-3-encarbonsaeure-t-butylester 在 盐酸 、 (4-Ph)Triaz(NHPⁱPr₂)₂Mn(CO)₂Br 、 potassium tert-butylate 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 32.08h， 生成
  参考文献：
  名称：

  锰催化酰胺醇脱氢放氢合成恶唑

  摘要：

  据报道，由丰富多样且廉价的起始材料（例如酯和氨基醇）合成恶唑。我们的反应通过释放氢气进行，而分子锰催化剂最有效地介导它。除筛选底物和应用外，所有报道的恶唑衍生物都是新化合物，表明选择性芳基化和烷基化恶唑的合成存在困难。

  DOI：

  10.1002/cctc.202301042
• 作为产物：
  描述：

  3-环己烯-1-甲酸 在 氯化亚砜 、 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 3.0h， 生成 Cyclohex-3-encarbonsaeure-t-butylester
  参考文献：
  名称：

  一种酸敏性环氧单体及其合成方法和应用

  摘要：

  本发明公开了一种酸敏性环氧单体，化学式如式(1)～式(3)之一所示，R3为式A～式C之一，并公开了其合成方法，以及制备酸敏性聚合物的应用。本发明提供的具有酸敏性的环氧单体可以对pH值，尤其是酸性环境进行响应，使其得到的聚合物材料具有刺激响应性。因此酸敏性聚合物可以用于化学放大光刻胶领域，从而赋予其更多的功能性和更高的附加值。

  公开号：

  CN114835659A

文献信息

• Sineokov,A.P. et al., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1969, vol. 5, p. 93 - 95
  作者：Sineokov,A.P. et al.

  DOI：——

  日期：——
• Polymer, resist composition and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1132774B1

  公开（公告）日：2009-01-07
• Polymer, Positive Resist Composition and Method for Forming Resist Pattern
  申请人：Takeshita Masaru

  公开号：US20080063975A1

  公开（公告）日：2008-03-13

  A polymer, a positive resist composition, and a method for forming a resist pattern that are able to form a resist pattern with a high level of resolution and excellent etching resistance. The present invention uses a polymer that contains a structural unit (a1) represented by a general formula (a-1) shown below and a structural unit (a2) represented by a general formula (a-2) shown below, another polymer that contains the structural unit (a1) and a structural unit (a3) represented by a general formula (a-3) shown below, and another polymer that contains the structural unit (a1), the structural unit (a2), and the structural unit (a3).
• POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION WITH A POLYMER INCLUDING A FLUOROSULFONAMIDE GROUP AND PROCESS FOR ITS USE
  申请人：Li Wenjie

  公开号：US20080233514A1

  公开（公告）日：2008-09-25

  A positive photoresist composition comprises a radiation sensitive acid generator, and a polymer that includes a first repeating unit derived from a sulfonamide monomer including a fluorosulfonamide functionality, a second repeating unit having a pendant acid-labile moiety, and a third repeating unit having a lactone functionality. The positive photoresist composition may be used to form patterned features on a substrate, such as those used in the manufacture of a semiconductor device.
• US7604918B2
  申请人：——

  公开号：US7604918B2

  公开（公告）日：2009-10-20