3-nitro N-vinylcarbazole | 1147-69-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吲哚及其衍生物
• 英文名称: 3-nitro N-vinylcarbazole
• 英文别名: 3-nitro-N-vinylcarbazole；3-nitro-9-vinyl-carbazole；3-Nitro-1-vinylcarbazol；3-Nitro-9-vinylcarbazol；3-Nitro-9-vinylcarbazole；9-ethenyl-3-nitrocarbazole
• CAS: 1147-69-9
• 化学式: C₁₄H₁₀N₂O₂
• 分子量: 238.246
• InChiKey: FNALUOMDZYDJLK-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.8
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  50.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-nitro N-vinylcarbazole 、 氯仿 在 sodium hydroxide 、 苄基三乙基氯化铵 作用下， 反应 3.0h， 以78%的产率得到1-(N-3'-nitrocarbazyl)-2,2-dichlorocyclopropane
  参考文献：
  名称：

  Pielichowski, Jan; Olszanska, Marta, Polish Journal of Chemistry, 1983, vol. 57, # 1-3, p. 265 - 271

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Plasma developable negative resist compositions for electron beam, X-ray and optical lithography
  申请人：TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED

  公开号：EP0130088A2

  公开（公告）日：1985-01-02

  A negative resist composition including a polymeric matrix material, a polymerizable monomer, and an onium salt radiation sensitive initiator. The monomer is polymerized by irradiating the resist with an e-beam, x-ray, or ultraviolet source and heating the exposed resist. The resist is developed by a dry etchant such as plasma or a reactive ion etchant.

  一种阴性抗蚀剂组合物，包括聚合物基体材料、可聚合单体和铟盐辐射敏感引发剂。 用电子束、X 射线或紫外线源照射抗蚀剂并加热暴露的抗蚀剂，使单体聚合。 抗蚀剂通过干蚀刻剂（如等离子体或活性离子蚀刻剂）显影。
• PIELICHOWSKI, J.;OLSZANSKA, M., POL. J. CHEM., 1983, 57, N 1-3, 265-271
  作者：PIELICHOWSKI, J.、OLSZANSKA, M.

  DOI：——

  日期：——
• JPH03157471A
  申请人：——

  公开号：JPH03157471A

  公开（公告）日：1991-07-05
• US4007317A
  申请人：——

  公开号：US4007317A

  公开（公告）日：1977-02-08
• US4038468A
  申请人：——

  公开号：US4038468A

  公开（公告）日：1977-07-26

表征谱图