4-acetamido-2-iodobenzoic acid | 126116-23-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-acetamido-2-iodobenzoic acid
• 英文别名: 4-acetylamino-2-iodo-benzoic acid；4-Acetylamino-2-jod-benzoesaeure；2-Jod-4-acetamino-benzoesaeure
• CAS: 126116-23-2
• 化学式: C₉H₈INO₃
• 分子量: 305.072
• InChiKey: WWPPHCDMKVLXRV-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  213-214 °C
• 沸点：
  473.8±40.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.941±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  66.4
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-acetamido-2-iodobenzoic acid 在 N-乙基哌啶 、 盐酸 、 氯甲酸乙酯 、 对甲苯磺酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 5.75h， 生成 4-(N,O-diacetyl-L-tyrosyl)amino-2-iodobenzoic acid
  参考文献：
  名称：

  Protiva, Jiri; Krecek, Vaclav; Maca, Bohumil, Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1989, vol. 54, # 4, p. 1012 - 1018

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  对乙酰氨基苯甲酸 在 bis[dichloro(pentamethylcyclopentadienyl)iridium(III)] 、 碘 、 silver(I) acetate 、 三乙胺 作用下， 反应 18.0h， 以78%的产率得到4-acetamido-2-iodobenzoic acid
  参考文献：
  名称：

  IrIII催化的具有无偏CH键的苯甲酸的选择性邻位单碘氧化反应。

  摘要：

  提出了铱催化的带有两个等效CH键的苯甲酸的选择性邻一碘化反应。各种富电子和贫电子的底物在温和条件下进行反应，单/二选择性> 20：1。重要的是，C-H碘化发生选择性的邻位的羧酸部分在轴承竞争配位定位基团的基材。该反应在室温下进行，不需要惰性气氛或排除水分。机理研究表明，与底物有关的可逆CH活化/原型脱金属步骤，与底物有关的周转限制步骤以及Ag I的关键作用 在使碘化产物失活以进一步反应中使用添加剂。

  DOI：

  10.1002/chem.202002204

文献信息

• Eco-friendly Oxidative Iodination of Various Arenes with a Urea-Hydrogen Peroxide Adduct (UHP) as the Oxidant
  作者：Lech Skulski、Piotr Lulinski、Anna Kryska、Maciej Sosnowski

  DOI：10.1055/s-2004-815955

  日期：——

  Three easy eco-friendly laboratory procedures are presented for the oxidative iodination of various activated and deactivated arenes with molecular iodine, in the presence of UHP (percarbamide), a stable, strongly H-bonded, solid urea-hydrogen peroxide adduct as the oxidant.

  本文介绍了三种简便的环保实验室流程，利用稳定的、强氢键结合的固体尿素-过氧化氢加合物UHP（过碳酰胺）作为氧化剂，在分子碘的存在下，对各种活化和非活化芳烃进行氧化碘化反应。
• Radhakrishnamurti, P. S.; Panda, B. K., Indian Journal of Chemistry, Section A: Inorganic, Physical, Theoretical and Analytical, 1983, vol. 22, # 9, p. 770 - 773
  作者：Radhakrishnamurti, P. S.、Panda, B. K.

  DOI：——

  日期：——
• Willgerodt; Gartner, Chemische Berichte, 1908, vol. 41, p. 2819
  作者：Willgerodt、Gartner

  DOI：——

  日期：——
• PROTIVA, JIRI;KRECEK, VACLAV;MACA, BOHUMIL;URBAN, JIRI;BUDESINSKY, MILOS;+, COLLECT. CZECHOSL. CHEM. COMMUN., 54,(1989) N, C. 1012-1018
  作者：PROTIVA, JIRI、KRECEK, VACLAV、MACA, BOHUMIL、URBAN, JIRI、BUDESINSKY, MILOS、+

  DOI：——

  日期：——
• RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20200301274A1

  公开（公告）日：2020-09-24

  A chemically-amplified negative resist composition includes: (A) a quencher containing an onium salt shown by the following formula (A-1); (B) a base polymer containing repeating units shown by the following formulae (B1) and (B2); and (C) a photo-acid generator which generates an acid. Thus, the present invention provides: a negative resist composition which can form a favorable profile with high sensitivity and low LWR and CDU in a pattern; and a resist patterning process using the composition.