bis(3-nitrophenyl)iodonium triflate | 206861-49-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: bis(3-nitrophenyl)iodonium triflate
• 英文别名: di(3-nitrophenyl)iodonium trifluoromethanesulfonate；di(m-nitrophenyl)iodonium trifluoromethanesulfonate；Bis(3-nitrophenyl)iodanium;trifluoromethanesulfonate
• CAS: 206861-49-6
• 化学式: CF₃O₃S*C₁₂H₈IN₂O₄
• 分子量: 520.181
• InChiKey: DSYVASDTVQZAOF-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.32
• 重原子数：
  27
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  157
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-甲基吡咯 、 bis(3-nitrophenyl)iodonium triflate 在 tris(bipyridine)ruthenium(II) dichloride hexahydrate 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 12.0h， 以85%的产率得到1-methyl-2-(3-nitrophenyl)-1H-pyrrole
  参考文献：
  名称：

  Room-Temperature Arylation of Arenes and Heteroarenes with Diaryl­iodonium Salts by Photoredox Catalysis

  摘要：

  Aryl radicals produced by irradiation of diaryliodonium salts with visible light under the catalysis of [Ru(bpy)(3)](2+) undergo coupling with a wide range of arenes and heteroarenes, affording various biaryls through direct C-H arylation at room temperature.

  DOI：

  10.1055/s-0032-1318155
• 作为产物：
  描述：

  1-碘-3-硝基苯 、 三氟甲磺酸 、 3-硝基苯硼酸 在 间氯过氧苯甲酸 、 三氟化硼乙醚 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 1.67h， 以42%的产率得到bis(3-nitrophenyl)iodonium triflate
  参考文献：
  名称：

  钯（II）催化与二芳基碘鎓盐从糖中立体合成C-糖苷

  摘要：

  描述了有效的钯（II）介导的二芳基碘鎓盐对糖的C-糖基化，为合成具有优异立体选择性的2,3-二脱氧C-芳基糖苷提供了新的策略。所述Ç不同范围的烯糖的-glycosylation，包括d -glucal，d -galactal，d -allal，大号-rhamnal，大号-fucal，大号-arabinal，d -maltal，和d -lactal，有效地发生，并且相应的C-β-糖苷以中等至良好的产率获得。由于丰富的官能团相容性，广泛的底物范围和出色的α-立体选择性，该方案被认为是对碳水化合物化学领域的重要补充。

  DOI：

  10.1039/d0ob00247j

文献信息

• Palladium Catalyzed Regioselective Cyclization of Arylcarboxylic Acids via Radical Intermediates with Diaryliodonium Salts
  作者：Guoqiang An、Limin Wang、Jianwei Han

  DOI：10.1021/acs.orglett.1c03016

  日期：2021.11.19

  Palladium-catalyzed C2-arylation/intramolecular acylation with arylcarboxylic acids was developed by using diaryliodonium salts. The protocol has the advantage of good step-economy by two chemical bonds formation in one pot.

  通过使用二芳基碘鎓盐开发了钯催化的 C 2 -芳基化/与芳基羧酸的分子内酰化。该协议的优点是在一锅中形成两个化学键，具有良好的阶梯经济性。
• Construction of 2,3-quaternary fused indolines from alkynyl tethered oximes and diaryliodonium salts through a cascade strategy of <i>N</i>-arylation/cycloaddition/[3,3]-rearrangement
  作者：Xiao-Pan Ma、Kun Li、Si-Yi Wu、Cui Liang、Gui-Fa Su、Dong-Liang Mo

  DOI：10.1039/c7gc02844j

  日期：——

  A variety of 2,3-quaternary fused indolines could be prepared in good yields with high diastereoselectivity from alkynyl tethered oximes and diaryliodonium salts under mild metal-free conditions. The reaction initially goes through a selective N-arylation to provide alkynyl tethered nitrones and regioselectively undergoes an intramolecular (3 + 2) cycloaddition followed by a [3,3]-sigmatropic rearrangement

  在温和的无金属条件下，可以从炔基系肟和二芳基碘鎓盐以高收率和高非对映选择性制备各种2,3-季稠二氢吲哚。该反应首先通过选择性N-芳基化反应提供炔基束缚的硝酮，然后区域选择性地进行分子内（3 + 2）环加成反应，然后进行[3,3]-σ重排，从而形成2,3-季稠二氢吲哚。锅时尚。该方法的特点是容易获得的廉价材料，多重键的形成，克级可缩放的制备以及熔融的吲哚啉支架的多样性。
• Novel carbazole derivative and chemically amplified radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20020172885A1

  公开（公告）日：2002-11-21

  A carbazole derivative of the following formula (1), 1 wherein R 1 and R 2 individually represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, or R 1 and R 2 form, together with the carbon atom to which R 1 and R 2 bond, a divalent organic group having a 3-8 member carbocyclic structure or a 3-8 member heterocyclic structure, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group. The carbazole derivative is suitable as an additive for increasing sensitivity of a chemically amplified resist. A chemically amplified radiation-sensitive resin composition, useful as a chemically amplified resist, comprising the carbazole derivative is also disclosed.

  以下是该段文字的中文翻译： 一种具有以下式（1）的咔唑衍生物，其中R1和R2分别代表氢原子或一价有机基团，或者R1和R2与其结合的碳原子一起形成具有3-8个成员碳环结构或3-8个成员杂环结构的二价有机基团，R3代表氢原子或一价有机基团。该咔唑衍生物适用作为增加化学增感抗蚀性的添加剂。还公开了一种化学增感辐射敏感树脂组合物，该组合物用作化学增感抗蚀剂，包括该咔唑衍生物。
• Novel anthracene derivative and radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030194634A1

  公开（公告）日：2003-10-16

  A novel anthracene derivative useful as an additive to a radiation-sensitive resin composition is disclosed. The anthracene derivative has the following formula (1), 1 wherein R 1 groups individually represent a hydroxyl group or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, n is an integer of 0-9, X is a single bond or a divalent organic group having 1-12 carbon atoms, and R 2 represents a monovalent acid-dissociable group. The radiation-sensitive resin composition comprises the anthracene derivative of the formula (1), a resin insoluble or scarcely soluble in alkali, but becomes alkali soluble in the presence of an acid, and a photoacid generator. The composition is useful as a chemically-amplified resist for microfabrication utilizing deep ultraviolet rays, typified by a KrF excimer laser and ArF excimer laser.

  揭示了一种作为辐射敏感树脂组合物添加剂有用的新型蒽衍生物。该蒽衍生物具有以下化学式（1），其中R1基分别表示一个羟基或具有1-20个碳原子的一价有机基团，n是0-9的整数，X是一个单键或具有1-12个碳原子的二价有机基团，R2表示一价酸可解离基团。辐射敏感树脂组合物包括化学式（1）的蒽衍生物，一种在碱性条件下不溶或几乎不溶但在存在酸时变为碱溶的树脂，以及光酸发生剂。该组合物可用作化学放大光刻胶，用于利用KrF准分子激光和ArF准分子激光等深紫外线进行微加工。
• Acid generator, sulfonic acid, sulfonic acid derivatives and radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030113658A1

  公开（公告）日：2003-06-19

  A novel photoacid generator containing a structure of the following formula (I), 1 wherein R is a monovalent organic group with a fluorine content of 50 wt % or less, a nitro group, a cyano group, or a hydrogen atom, and Z 1 and Z 2 are individually a fluorine atom or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1-10 carbon atoms, is provided. When used in a chemically amplified radiation-sensitive resin composition, the photoacid generator exhibits high transparency, comparatively high combustibility, and no bioaccumulation, and produces an acid exhibiting high acidity, high boiling point, moderately short diffusion length in the resist coating, and low dependency to mask pattern density.

  提供一种新型光酸发生剂，其含有以下式(I)的结构，其中R是一种具有50重量％或以下氟含量，硝基，氰基或氢原子的一价有机基团，Z1和Z2分别是氟原子或具有1-10个碳原子的线性或支链全氟烷基团。当用于化学增感辐射敏感树脂组成物中时，该光酸发生剂表现出高透明度，相对高的可燃性和无生物积累，并产生具有高酸度，高沸点，适度短的扩散长度在抗蚀涂层中，并且对掩模图案密度的依赖性低的酸。