4-甲基-7H-苯并[de]蒽-7-酮 | 6409-46-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 菲及其衍生物
• 中文名称: 4-甲基-7H-苯并[de]蒽-7-酮
• 英文名称: 4-methylbenzanthrone
• 英文别名: 7H-Benz[de]anthracen-7-one, 4-methyl-；4-methylbenzo[a]phenalen-7-one
• CAS: 6409-46-7
• 化学式: C₁₈H₁₂O
• mdl: MFCD00819785
• 分子量: 244.293
• InChiKey: XYHDOOKVEKKVFS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.7
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.06
• 拓扑面积：
  17.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 海关编码：
  2914399090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-甲基-7H-苯并[de]蒽-7-酮 在 硒酸 、 溶剂黄146 作用下， 生成 7-oxo-7H-benz[de]anthracene-4-carbaldehyde
  参考文献：
  名称：

  DE557249

  摘要：

  公开号：
• 作为产物：
  描述：

  4-phenacylmercapto-benz[de]anthracen-7-one 在 sodium sulfide 作用下， 生成 4-甲基-7H-苯并[de]蒽-7-酮
  参考文献：
  名称：

  Derivatives of benzanthrone

  摘要：

  公开号：

  US01815143A1

文献信息

• 一种螺环化合物和应用以及使用其的有机电 致发光器件和电子装置
  申请人：陕西莱特光电材料股份有限公司

  公开号：CN111454161B

  公开（公告）日：2021-09-17

  本申请属于有机材料领域，涉及一种螺环化合物和应用以及使用其的有机电致发光器件和电子装置。该螺环化合物具有如下式1所示的结构：其中，表示化学键，基团A具有式2所示的结构；Ar2选自由式a’、式b’、式c’、式d’所示的结构所组成的组。本申请的该螺环化合物作为空穴传输材料应用于OLED器件中，能够获得良好的器件性能，较低的电压。
• 苯并蒽酮衍生物及其制备方法与其在功能色素中的应用
  申请人：上海甘田光学材料有限公司

  公开号：CN111410603B

  公开（公告）日：2022-12-16

  本发明公开了一种苯并蒽酮衍生物，通式如式I或IV所示：式I或IV中，R1、R2、R3各自独立的选自氢、卤素、酯基、酰基、支链或直链的C1～C20烷基、直链或支链的C1～C20的烷氧基、支链或直链的全氟C1～C20烷基、支链或直链的全氟C1～C20烷氧基、取代或未取代的C4～C40芳基、取代或未取代的C4～C40杂芳基。本发明提供的结构新颖的苯并蒽酮衍生物，制备方法简单，无毒无害，苯并蒽酮衍生物具有黄色荧光，可以用作潜在的有机功能材料，且是一种重要的染料中间体。
• Palladium-Catalyzed Site-Selective Benzocyclization of Naphthoic Acids with Diaryliodonium Salts: Efficient Access to Benzanthrones
  作者：Chenwei Xue、Limin Wang、Jianwei Han

  DOI：10.1021/acs.joc.0c02192

  日期：2020.12.4

  Dual activation of both C–I and vicinal C–H bonds of diaryliodonium salts allowing for diarylation is a subject of rapid construction of π-extended frameworks. Here, we report palladium-catalyzed cascade of C8-arylation/intramolecular Friedel–Crafts acylation of α-naphthoic acids in the synthesis of benzanthrone derivatives. The step-economical protocol tolerates various substrates, which resulted

  允许二芳基化的二芳基碘鎓盐的C–I和邻位C–H键的双重激活是π-扩展骨架快速构建的主题。在这里，我们报道了苯并蒽醌衍生物的合成中钯催化的α-萘甲酸C 8-芳基化/分子内Friedel-Crafts酰化级联反应。经济可行的方案可耐受各种底物，从而为开发功能性多环支架提供了潜在的分子库。该方法依靠一锅法中强酸与钯催化剂的协同作用形成两个键。
• CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST MATERIAL, PATTERN-FORMING METHOD, COMPOUND, AND PRODUCTION METHOD OF COMPOUND
  申请人：OSAKA UNIVERSITY

  公开号：US20170052449A1

  公开（公告）日：2017-02-23

  A pattern-forming method comprises patternwise exposing a predetermined region of a resist material film made from a photosensitive resin composition comprising a chemically amplified resist material to a first radioactive ray that is ionizing radiation or nonionizing radiation having a wavelength of no greater than 400 nm. The resist material film patternwise exposed is floodwise exposed to a second radioactive ray that is nonionizing radiation having a wavelength greater than the wavelength of the nonionizing radiation for the patternwise exposing and greater than 200 nm. The chemically amplified resist material comprises a base component, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The generative component comprises a radiation-sensitive sensitizer generating agent. The radiation-sensitive sensitizer generating agent comprises a compound represented by formula (A).

  一种图案形成方法包括将一种化学放大型光刻胶材料制成的感光树脂组成物的预定区域图案暴露于第一种放射性射线中，该放射性射线是电离辐射或波长不大于400 nm的非电离辐射。图案化暴露的光刻胶材料膜被洪水式暴露于第二种放射性射线中，该放射性射线是波长大于图案化暴露的非电离辐射的波长和大于200 nm的非电离辐射。该化学放大型光刻胶材料包括基础组分和能够在暴露时生成辐射敏感的敏化剂和酸的生成组分。生成组分包括辐射敏感的敏化剂生成剂。辐射敏感的敏化剂生成剂包括由式(A)表示的化合物。
• Chemically amplified resist material and resist pattern-forming method
  申请人：JSR CORPORATION

  公开号：US10018911B2

  公开（公告）日：2018-07-10

  A chemically amplified resist material comprises a polymer component that is capable of being made soluble or insoluble in a developer solution by an action of an acid, and a generative component that is capable of generating a radiation-sensitive sensitizer and an acid upon an exposure. The radiation-sensitive acid-and-sensitizer generating agent or the radiation-sensitive acid generating agent included in the generative component comprises the first compound that is radiation-sensitive and second compound that is radiation-sensitive. The first compound includes a first onium cation and a first anion, and the second compound includes a second onium cation and a second anion that is different from the first anion. Each of an energy released upon reduction of the first onium cation to a radical and an energy released upon reduction of the second onium cation to a radical is less than 5.0 eV.

  一种化学放大抗蚀剂材料包括一种在酸的作用下能溶于或不溶于显影液的聚合物成分，以及一种在曝光时能产生辐射敏感敏化剂和酸的生成成分。生成组件中的辐射敏感性酸和敏化剂生成剂或辐射敏感性酸生成剂包括辐射敏感性第一化合物和辐射敏感性第二化合物。第一化合物包括第一鎓阳离子和第一阴离子，第二化合物包括第二鎓阳离子和不同于第一阴离子的第二阴离子。第一鎓阳离子还原成自由基时释放的能量和第二鎓阳离子还原成自由基时释放的能量均小于 5.0 eV。