2,2-bis(4-methoxy-3-bromophenyl)propane | 945548-25-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2-bis(4-methoxy-3-bromophenyl)propane
• 英文别名: 2-bromo-4-[2-(3-bromo-4-methoxyphenyl)propan-2-yl]-1-methoxybenzene
• CAS: 945548-25-4
• 化学式: C₁₇H₁₈Br₂O₂
• 分子量: 414.137
• InChiKey: FZEDTLLWDRJOBG-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.29
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,2-bis(4-methoxy-3-bromophenyl)propane 在 (1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene)palladium(II) dichloride 、 potassium hydrogen difluoride 、 potassium acetate 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 、 甲苯 为溶剂， 反应 36.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  芳族主链聚合物在铱催化的CH硼氢化中的范围和区域选择性

  摘要：

  芳香族主链聚合物的有效官能化是通过铱催化的芳香族C–H键的硼化和Suzuki–Miyaura偶联反应的结合而建立的。各种铱催化剂和硼化试剂的比较研究表明[Ir（OMe）（COD）] 2的活性明显高于[IrCl（COD）] 2的活性，而bis（pinacolato）diboron的效率高于pinacolborane。使用模拟聚（亚芳基醚砜）的重复单元结构的模型化合物研究了硼酸酯化的区域选择性。砜类化合物的C–H键比双酚类化合物的C–H键更具反应性，由于空间位阻和电子效应，硼化反应优先发生在砜部分的间位。硼酸化的聚合物的玻璃化转变温度随着频哪醇硼酸酯基团浓度的增加而增加。频哪醇硼酸酯基团可以方便地转化为硼酸[B（OH）2 ]和三氟硼酸钾（BF 3K），也可以用作通过Suzuki-Miyaura偶联合成各种功能化聚合物的多功能反应位点。

  DOI：

  10.1021/ma302588a
• 作为产物：
  描述：

  双酚A二甲醚 在 溴 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 2,2-bis(4-methoxy-3-bromophenyl)propane
  参考文献：
  名称：

  芳族主链聚合物在铱催化的CH硼氢化中的范围和区域选择性

  摘要：

  芳香族主链聚合物的有效官能化是通过铱催化的芳香族C–H键的硼化和Suzuki–Miyaura偶联反应的结合而建立的。各种铱催化剂和硼化试剂的比较研究表明[Ir（OMe）（COD）] 2的活性明显高于[IrCl（COD）] 2的活性，而bis（pinacolato）diboron的效率高于pinacolborane。使用模拟聚（亚芳基醚砜）的重复单元结构的模型化合物研究了硼酸酯化的区域选择性。砜类化合物的C–H键比双酚类化合物的C–H键更具反应性，由于空间位阻和电子效应，硼化反应优先发生在砜部分的间位。硼酸化的聚合物的玻璃化转变温度随着频哪醇硼酸酯基团浓度的增加而增加。频哪醇硼酸酯基团可以方便地转化为硼酸[B（OH）2 ]和三氟硼酸钾（BF 3K），也可以用作通过Suzuki-Miyaura偶联合成各种功能化聚合物的多功能反应位点。

  DOI：

  10.1021/ma302588a

文献信息

• MOLECULAR GLASS PHOTORESISTS CONTAINING BISPHENOL A FRAMEWORK AND METHOD FOR PREPARING THE SAME AND USE THEREOF
  申请人：Yang Guoqiang

  公开号：US20150037735A1

  公开（公告）日：2015-02-05

  The present invention provides a class of molecular glass photoresist (I and II) comprising bisphenol A as a main structure and their preparation. The molecular glass photoresist is formulated with a photoacid generator, a cross-linking agent, a photoresist solvent, and other additives into a positive or negative photoresist. A photoresist with a uniform thickness is formed on a silicon wafer by spin-coating. The photoresist formulation can be used in modern lithography, such as 248 nm photolithography, 193 nm photolithography, extreme-ultraviolet (EUV) lithography, nanoimprint lithography, electron beam lithography, and particularly in the EUV-lithography technique.

  本发明提供了一类分子玻璃光刻胶（I和II），其主要结构包括双酚A，并提供了它们的制备方法。该分子玻璃光刻胶由光酸发生剂、交联剂、光刻胶溶剂和其他添加剂配制而成，可制备成正向或负向光刻胶。通过旋涂在硅片上形成均匀厚度的光刻胶。该光刻胶配方可用于现代光刻技术，如248纳米光刻、193纳米光刻、极紫外（EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻，特别是EUV光刻技术中。
• Molecular glass photoresists containing bisphenol a framework and method for preparing the same and use thereof
  申请人：Yang Guoqiang

  公开号：US09454076B2

  公开（公告）日：2016-09-27

  The present invention provides a class of molecular glass photoresist (I and II) comprising bisphenol A as a main structure and their preparation. The molecular glass photoresist is formulated with a photoacid generator, a cross-linking agent, a photoresist solvent, and other additives into a positive or negative photoresist. A photoresist with a uniform thickness is formed on a silicon wafer by spin-coating. The photoresist formulation can be used in modern lithography, such as 248 nm photolithography, 193 nm photolithography, extreme-ultraviolet (EUV) lithography, nanoimprint lithography, electron beam lithography, and particularly in the EUV-lithography technique.

  本发明提供了一类分子玻璃光刻胶(I和II)，其主要结构为双酚A，以及它们的制备方法。将光刻胶配方与光酸发生剂、交联剂、光刻溶剂和其他添加剂混合成正或负光刻胶。通过旋涂在硅晶片上形成具有均匀厚度的光刻胶。该光刻胶配方可用于现代光刻技术，例如248 nm光刻、193 nm光刻、极紫外(EUV)光刻、纳米压印光刻、电子束光刻，特别是在EUV光刻技术中。
• Chemosensing of nitroaromatics with a new segmented conjugated quaterphenylene polymer
  作者：Pablo G. Del Rosso、Marcela F. Almassio、Raúl O. Garay

  DOI：10.1016/j.tetlet.2011.07.055

  日期：2011.9

  A new approach for introducing porosity in fluorescent polymer films to increase sensing performance is presented. A novel segmented conjugated polymer composed of p-quaterphenylene segments tethered by their meta positions along the polymer main chain by 2,2-isopropylene spacers was synthesized. The bent nature of its microstructure generates amorphous morphologies that let analytes diffuse rapidly within the films. Fluorescence quenching studies with polymer films and methanol solutions of nitroaromatics showed high sensitivity, fast response and reversibility of the fluorescence quenching. Thus, half of the maximum quench (Q(50%)) occurred with nitrobenzene at the micromolar range in less than 1 min in a reversible manner. (C) 2011 Elsevier Ltd. All rights reserved.
• US9454076B2
  申请人：——

  公开号：US9454076B2

  公开（公告）日：2016-09-27