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1,1-Di(2-phenoxyethoxy)cyclohexane | 115815-82-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,1-Di(2-phenoxyethoxy)cyclohexane
英文别名
2-[1-(2-phenoxyethoxy)cyclohexyl]oxyethoxybenzene
1,1-Di(2-phenoxyethoxy)cyclohexane化学式
CAS
115815-82-2
化学式
C22H28O4
mdl
——
分子量
356.462
InChiKey
WLUUYTGKTALCRL-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    488.0±35.0 °C(predicted)
  • 密度:
    1.11±0.1 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    5
  • 重原子数:
    26
  • 可旋转键数:
    10
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.45
  • 拓扑面积:
    36.9
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    环己酮 、 、 、 1.1-Dicyclohexyloxy-cyclohexan环己醇 、 、 己二酸,聚合2,2-二甲基-1,3-丙二醇和2,5-呋喃二酮,苯酸酯环己酮二甲缩酮 以to form 1,1-di(2-phenoxyethoxy)cyclohexane的产率得到1,1-Di(2-phenoxyethoxy)cyclohexane
    参考文献:
    名称:
    1,1-di[(alkylphenoxy)ethoxy]cyclohexanes
    摘要:
    本发明涉及一种酮缩物,其化学式为:其中,R'和R''独立地是碳数为8至20的烷基基团;m和n独立地是1至200的整数;r和s独立地是1至3的整数;以及通过使用1,1-二甲氧基环己烷或1,1-二乙氧基环己烷与(烷氧基苯氧基)乙醇型表面活性剂进行转酮缩反应制备该酮缩物的方法。该酮缩物至少部分可溶于水。
    公开号:
    US08846981B2
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文献信息

  • 1,1-DI[(ALKYLPHENOXY)ETHOXY]CYCLOHEXANES
    申请人:Bonham James A.
    公开号:US20130197274A1
    公开(公告)日:2013-08-01
    Disclosed is a ketal having the formula: wherein R′ and R″ independently are an alkyl group having from 8 to about 20 carbon atoms; m and n independently are an integer of from 1 to about 200; and r and s independently are an integer of from 1 to 3; and the method for preparing the ketal by transketalization using 1,1-dimethoxycyclohexane or 1,1-diethoxycyclohexane with an (alkoxyphenoxy)ethanol type of surfactant. The ketal is at least partially soluble in water.
    揭示了具有以下化学式的酮醇:其中R′和R″分别为具有8至约20个碳原子的烷基基团;m和n分别为1至约200的整数;r和s分别为1至3的整数;以及通过使用1,1-二甲氧基环己烷1,1-二乙氧基环己烷与(烷氧基苯氧基)乙醇型表面活性剂进行转酮缩合制备酮醇的方法。该酮醇至少部分可溶于
  • PLANOGRAPHIC PRINTING PLATE MATERIAL, AND CYCLIC UREIDE MOIETY-CONTAINING PHENOLIC RESIN AND ITS SYNTHETIC PROCESS
    申请人:MIYOSHI Masaki
    公开号:US20090075201A1
    公开(公告)日:2009-03-19
    Disclosed is a planographic printing plate material comprising an aluminum support and provided thereon, an image formation layer containing a cyclic ureide moiety-containing phenolic resin in which a phenolic resin has a cyclic ureide moiety through a linkage group, the cyclic ureide moiety being derived from a cyclic ureide and the linkage group being derived from a linkage compound having both a monohalogenated alkyl group and one selected from a vinyl group, a carbonyl group, an ester group and a sulfonic acid ester group.
  • POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE SILOXANE COMPOSITION AND CURED FILM FORMED BY USING THE SAME
    申请人:Merck Patent GmbH
    公开号:US20210116811A1
    公开(公告)日:2021-04-22
    [Object] To provide a positive type photosensitive composition capable of forming a cured film having high transparency [Means] The present invention provides a positive type photosensitive siloxane composition comprising: a polysiloxane, a diazonaphthoquinone derivative, an additive having a >N—C(═O)— or >N—C(═S)— structure and the capability of interacting with the polysiloxane, and a solvent. The polysiloxane and the additive interact with each other before exposure, but they lose the interaction after exposure.
  • US8846981B2
    申请人:——
    公开号:US8846981B2
    公开(公告)日:2014-09-30
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