3,5-diacetoxy-2,4,6-trimethylphenyl acetate | 100162-31-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: 3,5-diacetoxy-2,4,6-trimethylphenyl acetate
• 英文别名: 1,3,5-triacetoxy-2,4,6-trimethylbenzene；1,3,5-triacetoxy-2,4,6-trimethyl-benzene；1,3,5-Triacetoxy-2,4,6-trimethyl-benzol；Triacetyltrimethylphloroglucin；(3,5-diacetyloxy-2,4,6-trimethylphenyl) acetate
• CAS: 100162-31-0
• 化学式: C₁₅H₁₈O₆
• 分子量: 294.304
• InChiKey: JDEYVHCRYRBASO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  350.5±37.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.171±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  78.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  均三甲苯 在 三苯基膦氯金 、 溶剂黄146 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 32.0h， 生成 3,5-diacetoxy-2,4,6-trimethylphenyl acetate
  参考文献：
  名称：

  Gold-Catalyzed C-H Oxidative Polyacyloxylation Reaction of Hindered Arenes

  摘要：

  The synthesis of polyacyloxylated aromatic derivatives was achieved in moderate yields using a gold-catalyzed C-H activation strategy and di(acetoxy)iodobenzene as an oxidant.

  DOI：

  10.1055/s-0032-1316541

文献信息

• Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen auf der Basis von Polyphenolen und Acetalen
  申请人：CIBA-GEIGY AG

  公开号：EP0501919A1

  公开（公告）日：1992-09-02

  Es werden strahlungsempfindliche Zusammensetzungen enthaltend a) mindestens ein festes filmbildendes Polyphenol, b) mindestens eine Verbindung der Formel I worin    n 2, 3 oder 4 darstellt,    Ar ein n-wertiger Benzol- oder Naphthalinrest oder ein zweiwertiger Rest der Formel II Q die direkte Bindung, -O-, -SO-, -SO₂-, -CH₂-, -C(CH₃)(Phenyl)- oder -C(CH₃)₂- ist, R₁ und R₂ unabhängig voneinander C₁-C₈-Alkyl oder unsubstituiertes oder durch C₁-C₄-Alkyl substituiertes Phenyl oder Naphthyl bedeuten oder R₁ und R₂ zusammen 1,2-Phenylen oder -[C(R′)(R˝)]m- darstellen, R′ und R˝ unabhängig voneinander Wasserstoff, C₁-C₄-Alkyl oder Phenyl sind und m 2, 3 oder 4 ist, und. c) mindestens eine unter aktinischer Strahlung säurebildende Verbindung beschrieben. Diese Zusammensetzungen finden Anwendung als Negativresist, insbesondere zur Herstellung von Druckplatten, gedruckten Schaltungen und integrierten Schaltkreisen.

  包括辐射敏感成分 a) 至少一种固体成膜多酚、 b) 至少一种式 I 的化合物 其中 n 是 2、3 或 4、 Ar 是正价苯或萘基或式 II 的二价基 Q 是直接键、-O-、-SO-、-SO₂-、-CH₂-、-C(CH₃)(苯基)- 或-C(CH₃)₂-、R₁ 和 R₂ 相互独立地为 C₁-C₈ 烷基或未取代的或 C₁-C₄ 烷基取代的苯基或萘基，或 R₁ 和 R₂ 合在一起为 1,2-亚苯基或-[C(R′)(R˝)]m-、 R′ 和 R˝ 相互独立地为氢、C₁-C₄-烷基或苯基，且 m 为 2、3 或 4，且。 c) 描述了至少一种在辐照下形成酸的化合物。 这些组合物可用作负性抗蚀剂，特别是用于制造印制板、印刷电路和集成电路。
• Kotani, Eiichi; Kobayashi. Shigeki; Ishii, Yoko, Chemical and pharmaceutical bulletin, 1985, vol. 33, # 11, p. 4671 - 4679
  作者：Kotani, Eiichi、Kobayashi. Shigeki、Ishii, Yoko、Tobinaga, Seisho

  DOI：——

  日期：——
• Herzig; Pollak; Rohm, Monatshefte fur Chemie, 1900, vol. 21, p. 510
  作者：Herzig、Pollak、Rohm

  DOI：——

  日期：——
• Weidel; Wenzel, Monatshefte fur Chemie, 1898, vol. 19, p. 257
  作者：Weidel、Wenzel

  DOI：——

  日期：——
• Herzig; Wenzel, Monatshefte fur Chemie, 1914, vol. 35, p. 66
  作者：Herzig、Wenzel

  DOI：——

  日期：——