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2,4,6-tris-(4-hydroxybenzyl)phenol | 16070-10-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2,4,6-tris-(4-hydroxybenzyl)phenol
英文别名
2,4,6-Tris[(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol
2,4,6-tris-(4-hydroxybenzyl)phenol化学式
CAS
16070-10-3
化学式
C27H24O4
mdl
——
分子量
412.485
InChiKey
AYAYPFPBJZDUAV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    6.3
  • 重原子数:
    31
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.11
  • 拓扑面积:
    80.9
  • 氢给体数:
    4
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2,6-二甲基大茴香醚吡啶potassium permanganate四磷十氧化物磷酸 、 palladium 10% on activated carbon 、 氢气三溴化硼 、 sodium hydroxide 作用下, 以 甲醇二氯甲烷 为溶剂, 反应 44.0h, 生成 2,4,6-tris-(4-hydroxybenzyl)phenol
    参考文献:
    名称:
    一类四聚苄化合物的合成方法
    摘要:
    本发明涉及有机化学技术领域,具体涉及一类四聚苄化合物的合成方法。所述四聚苄类化合物结构如通式(I):(I)其中R1、R3、R5有且只有一个选自4‑羟基苄基、3,4‑二羟基苄基、吡啶‑3‑亚甲基、6‑羟基‑吡啶‑3‑亚甲基等;另外两个各自独立地选自H、羟基、甲基,甲酰胺基、苯甲酰胺基、对羟基苯甲酰胺基等;R2、R4各自独立地选自H、羟基、甲基,异丁基、叔丁基、甲酰胺基、乙酰胺基、3,4‑二羟基苯甲酰胺基等。
    公开号:
    CN109748780B
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文献信息

  • Optically active compound and photosensitive resin composition
    申请人:——
    公开号:US20030211421A1
    公开(公告)日:2003-11-13
    A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.
    一种光活性化合物与光敏剂结合使用,由以下公式(1)表示: A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中,A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元,J代表连接基团,X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团,m代表0或1,n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂(特别是光酸发生剂)一起通过光照可去除,也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性,用于光刻应用,因此,该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
  • OPTICALLY ACTIVE COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
    申请人:Kansai Research Institute, Inc.
    公开号:EP1375463A1
    公开(公告)日:2004-01-02
    A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1):         A-[(J)m-(X-Pro)]n     (1)    wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.
    光活性化合物与光敏剂结合使用,光敏剂由下式(1)表示: A-[(J)m-(X-Pro)]n (1) 其中 A 代表疏水单元,包括至少一种选自烃基和杂环基的疏水基团;J 代表连接基团;X-Pro 代表亲水基团,该亲水基团受保护基团 Pro 的保护,该保护基团可通过光照去除;m 代表 0 或 1;n 代表不小于 1 的整数。 保护基 Pro 可以通过与光敏剂(特别是光酸发生器)一起进行光照射而去除,也可以是疏水保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光束的光源具有很高的灵敏度,因此在抗蚀剂应用中,光活性化合物可用于形成具有高分辨率的图案。
  • Seto et al., Kogyo Kagaku zasshi / Journal of the Society of Chemical Industry, 1955, vol. 58, p. 382
    作者:Seto et al.
    DOI:——
    日期:——
  • US7534547B2
    申请人:——
    公开号:US7534547B2
    公开(公告)日:2009-05-19
  • 一类四聚苄化合物的合成方法
    申请人:中国医学科学院药物研究所
    公开号:CN109748780B
    公开(公告)日:2021-09-14
    本发明涉及有机化学技术领域,具体涉及一类四聚苄化合物的合成方法。所述四聚苄类化合物结构如通式(I):(I)其中R1、R3、R5有且只有一个选自4‑羟基苄基、3,4‑二羟基苄基、吡啶‑3‑亚甲基、6‑羟基‑吡啶‑3‑亚甲基等;另外两个各自独立地选自H、羟基、甲基,甲酰胺基、苯甲酰胺基、对羟基苯甲酰胺基等;R2、R4各自独立地选自H、羟基、甲基,异丁基、叔丁基、甲酰胺基、乙酰胺基、3,4‑二羟基苯甲酰胺基等。
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