triphenylsulfonium 2-((5-carboxyadamantan-2-yl)oxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate | 1262854-10-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: triphenylsulfonium 2-((5-carboxyadamantan-2-yl)oxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate
• CAS: 1262854-10-3
• 化学式: C₁₃H₁₅F₂O₇S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 616.704
• InChiKey: CBVKSAWXQLXOPM-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.73
• 重原子数：
  42.0
• 可旋转键数：
  7.0
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.35
• 拓扑面积：
  120.8
• 氢给体数：
  1.0
• 氢受体数：
  6.0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylsulfonium 2-((5-carboxyadamantan-2-yl)oxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate 在 对甲苯磺酸 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 22.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  提供具有良好线边粗糙度的盐，可用于制造感光胶图案。这种盐由式（I）表示。【在式中，R1和R2分别表示-OH基或(R-1)基；Qr1和Qr2表示F原子或全氟烷基；Rr1和Rr2表示H、F原子或全氟烷基；zr是0至6的整数；Xr1表示-CO-O-、-O-CO-等；Lr1表示单键或-CH2-，可被取代为-O-、-S-、-CO-或-S(O)2-的二价饱和烷基；ZR+表示有机阳离子；Ar1和Ar2表示可具有取代基的芳香烃环。】【选择图】无

  公开号：

  JP2019059715A
• 作为产物：
  描述：

  triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(1H-imidazol-1-yl)-2-oxoethane-1-sulfonate 在 盐酸 作用下， 以 甲醇 、 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 triphenylsulfonium 2-((5-carboxyadamantan-2-yl)oxy)-1,1-difluoro-2-oxoethane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  JP6135146

  摘要：

  公开号：

文献信息

• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2019147796A

  公开（公告）日：2019-09-05

  【課題】良好なマスクエラーファクタ（ＭＥＦ）でレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｑ１、Ｑ２、Ｑ１’及びＱ２’は、其々Ｆ又はペルフルオロアルキル基；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１’及びＲ２’は、其々Ｈ、Ｆ等；ｚ及びｚ’は其々０〜６の整数；Ｘ１及びＸ１’は、其々＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−等；Ｌ１は、置換／非置換の炭化水素基；Ｒ３及びＲ４は、其々Ｈ、式（１ａ）又は式（２ａ）で表される基；Ｒaa1、Ｒaa2及びＲaa3は、其々アルキル基等；Ｒaa1’及びＲaa2’は、Ｈ又はアルキル基；Ｒaa3’はアルキル基；ＸｃはＯ又はＳ；Ｚ＋及びＺ’＋は、其々有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  提供可用于制造具有良好掩模误差因子（MEF）的光刻胶图案的盐和光刻胶组合物。所述盐由式（I）表示。[Q1、Q2、Q1'和Q2'分别为F或全氟烷基；R1、R2、R1'和R2'分别为H、F等；z和z'分别为0~6的整数；X1和X1'分别为*−CO−O−、*−O−CO−等；L1为取代/非取代的烃基；R3和R4分别为H、由式（1a）或式（2a）表示的基；Raa1、Raa2和Raa3分别为烷基等；Raa1'和Raa2'为H或烷基；Raa3'为烷基；Xc为O或S；Z+和Z'+分别表示有机阳离子。][选择图]无
• JP6175777
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——