triphenylsulfonium 1-((3-hydroxy-1-adamantyl)methoxycarbonyl)difluoromethanesulfonate | 912290-04-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: triphenylsulfonium 1-((3-hydroxy-1-adamantyl)methoxycarbonyl)difluoromethanesulfonate
• 英文别名: difluoro-(3-hydroxy-adamantane-1-ylmethoxycarbonyl)methanesulfonic acid-triphenylsulfonium salt；triphenylsulfonium 1-((3-hydroxyadamantyl)methoxycarbonyl)difluoromethanesulfonate；1,1-difluoro-2-[(3-hydroxy-1-adamantyl)methoxy]-2-oxoethanesulfonate;triphenylsulfanium
• CAS: 912290-04-1
• 化学式: C₁₃H₁₇F₂O₆S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 602.72
• InChiKey: MMTQYTFKDNOQOV-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.78
• 重原子数：
  41
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.39
• 拓扑面积：
  113
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triphenylsulfonium 1-((3-hydroxy-1-adamantyl)methoxycarbonyl)difluoromethanesulfonate 以 乙腈 为溶剂， 反应 20.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这段文本描述了提供一种可以制造具有良好线条边缘粗糙度的光刻图案的盐、酸发生剂、树脂和光刻胶组合物的目的。其中包括由式（Ｉ）表示的盐。在式中，Ｑ１和Ｑ２分别表示氟原子或全氟烷基，Ｒ１和Ｒ２分别表示氢原子、氟原子或全氟烷基，ｚ表示0〜6的整数，Ｘ1表示＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−或＊−Ｏ−，Ｌ１表示具有单键或取代基的二价碳氢基，Ａｒ表示具有取代基的芳香族碳氢基，Ｒ３表示碳氢基，Ｒ４表示氢原子或碳氢基，Ｒ５表示氢原子或甲基基团，ＺＩ＋表示有机阳离子。

  公开号：

  JP2019099553A
• 作为产物：
  描述：

  difluorobromoethanoic acid 3-hydroxyadamantan-1-ylmethyl ester 在 sodium pyrosulfate 、 sodium carbonate 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 triphenylsulfonium 1-((3-hydroxy-1-adamantyl)methoxycarbonyl)difluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  一种ArF光刻胶用光引发剂三苯基硫鎓盐的制备方法及其应用

  摘要：

  本申请涉及有机合成领域，具体提供一种三苯基硫鎓盐的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：以二氟溴乙酸和醇为原料，经缩合反应得到二氟溴乙酸酯；步骤二：将所述二氟溴乙酸酯和焦硫酸钠发生取代反应得到磺酸钠；步骤三：将所述磺酸钠与三苯基氯化硫反应，得到三苯基硫鎓盐。本申请的目的在于提供一种新的合成方法，具有操作简单，安全，收率高，易纯化，便于工业化生产。

  公开号：

  CN114736120A

文献信息

• SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：ICHIKAWA Koji

  公开号：US20100304293A1

  公开（公告）日：2010-12-02

  A salt represented by the formula (a): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom etc., X 1 represents a single bond etc., X 2 represents a single bond etc., Y 1 represents a C3-C6 alicyclic hydrocarbon group etc., with the proviso that —X 2 —Y 1 group has one or more fluorine atoms, and Z + represents an organic counter cation, and a photoresist composition comprising the salt represented by the formula (a) and a resin comprising a structural unit having an acid-labile group and being insoluble or poorly soluble in an aqueous alkali solution but becoming soluble in an aqueous alkali solution by the action of an acid.

  由公式(a)表示的盐：其中Q1和Q2各自独立代表氟原子等，X1代表单键等，X2代表单键等，Y1代表C3-C6的脂环烃基等，但条件是—X2—Y1基团具有一个或多个氟原子，以及Z+代表有机反离子，以及包含由公式(a)表示的盐的光阻剂组合物和包含具有酸不稳定的基团并且在水性碱液中不溶或微溶于但在酸性作用下水性碱液中变得可溶的树脂的结构单元。
• SALT AND PROCESS FOR PRODUCING ACID GENERATOR
  申请人：YOSHIDA Isao

  公开号：US20110201823A1

  公开（公告）日：2011-08-18

  A salt represented by the formula (I0): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, L 1 represents a divalent C1-C17 hydrocarbon group in which one or more —CH 2 — can be replaced by —O— or —CO—, m represents 1 or 2, and Z m+ represents m-valent organic or inorganic cation.

  根据您提供的化学公式(I0)，其翻译成中文为： 其中Q1和Q2各自独立代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基团，L1代表一个二价的C1-C17碳氢化合物基团，在该基团中，一个或多个—CH2—可以被—O—或—CO—所替换，m代表1或2，而Zm+代表m价有机或无机阳离子。
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2019019120A

  公开（公告）日：2019-02-07

  【課題】良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造できる塩及び該塩を含有するレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［式（Ｉ）中、Ｑ１及びＱ２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｒ１及びＲ２は、互いに独立に、水素原子等を表す。ｚは、０〜６のいずれかの整数を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲ１及びＲ２は互いに同一であっても異なってもよい。Ｘ１は、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−を表す。Ｌ１は、置換基を有していてもよい炭素数１〜３６の２価の炭化水素基等を表す。Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子等を表す。Ｌ２は、単結合等を表す。Ｒ５は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２４の芳香族炭化水素基を表す。Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］【選択図】なし

  提供含有盐和所述盐的光刻胶组合物，可制造具有良好线边粗糙度（LER）的光阻图案。【解决方案】所述盐由式（I）表示。[在式（I）中，Q1和Q2分别独立地表示氟原子等。R1和R2分别独立地表示氢原子等。z表示0〜6之间的任何整数，当z大于或等于2时，多个R1和R2可以相同也可以不同。X1表示*−CO−O−、*−O−CO−、*−O−CO−O−或−O−。L1表示具有取代基的1〜36个碳原子的二价烃基等。R3和R4分别独立地表示氢原子等。L2表示单键等。R5表示具有取代基的6〜24个碳原子的芳香族烃基。Z+表示有机阳离子。][选择图]无
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same
  申请人：Harada Yukako

  公开号：US20060194982A1

  公开（公告）日：2006-08-31

  The present invention provides a salt of the formula (I) wherein X represents —OH or —Y—OH, n shows an integer of 1 to 9, A + represents an organic counter ion, Y represents a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. The present invention also provides a chemically amplified resist composition comprising the salt of the formula (I).

  本发明提供了一种公式(I)的盐，其中X代表—OH或—Y—OH，n表示1至9的整数，A+代表有机反离子，Y代表具有1至6个碳原子的二价饱和脂肪烃基团。本发明还提供了一种化学放大抗蚀剂组合物，该组合物包含公式(I)的盐。
• Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified positive resist composition containing the same
  申请人：Shigematsu Junji

  公开号：US20080086014A1

  公开（公告）日：2008-04-10

  The present invention provides a salt represented by the formula (I): wherein X represents a C3-C30 divalent group containing at least one divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 divalent group may be substituted with —O— or —CO—, Y represents a C3-C30 cyclic hydrocarbon group which may be substituted with at least one group selected from a C1-C6 alkoxy group, a C1-C4 perfluoroalkyl group, a C1-C6 hydroxyalkyl group, a hydroxyl group and a cyano group, and at least one —CH 2 — in the C3-C30 cyclic hydrocarbon group may be substituted with —O— or —CO—, Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, and A + represents an organic counter ion.

  本发明提供了一种由公式(I)表示的盐：其中X代表含至少一个二价脂环烃基的C3-C30二价基团，并且C3-C30二价基团中的至少一个—CH2—可以被—O—或—CO—取代，Y代表一个C3-C30环烃基，该环烃基可以至少被选自C1-C6烷氧基、C1-C4全氟烷基、C1-C6羟基烷基、羟基和氰基的至少一个取代基取代，并且C3-C30环烃基中的至少一个— —可以被—O—或—CO—取代，Q1和Q2各自独立地代表一个氟原子或一个C1-C6全氟烷基，以及A+代表一个有机反离子。