(2-Propan-2-yl-2-adamantyl) 2,3-dihydroxy-2-methylpropanoate | 1422369-04-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羟基酸及其衍生物
• 英文名称: (2-Propan-2-yl-2-adamantyl) 2,3-dihydroxy-2-methylpropanoate
• 英文别名: (2-propan-2-yl-2-adamantyl) 2,3-dihydroxy-2-methylpropanoate
• CAS: 1422369-04-7
• 化学式: C₁₇H₂₈O₄
• 分子量: 296.407
• InChiKey: VVDKJNRFHIPCSL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.94
• 拓扑面积：
  66.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (2-Propan-2-yl-2-adamantyl) 2,3-dihydroxy-2-methylpropanoate 在 sodium tetrahydroborate 、 N,N'-羰基二咪唑 作用下， 以 氯仿 、 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 23.5h， 生成
  参考文献：
  名称：

  塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  提供含有盐的光刻胶组合物和制备光刻图案的方法，可在良好的线边粗糙度（LER）下制造光刻图案。 该盐由式（I）表示。【式（I）中，Q1和Q2分别独立地表示氟原子或C1-6的全氟烷基；R1和R2分别独立地表示H、氟原子或C1-6的全氟烷基；z表示0到6之间的任何整数，当z大于等于2时，多个R1和R2可以相同也可以不同；X1表示*−CO−O−（其中，*表示与C（R1）（R2）或C（Q1）（Q2）的结合位。）等；L1表示C1-36的二价烃基等；R3表示H或C1-6的烷基；Z+表示有机阳离子。】

  公开号：

  JP2019006761A
• 作为产物：
  描述：

  2-异丙基-2-金刚烷丙烯酸甲酯 在 四氧化锇 、 N-甲基吗啉氧化物 作用下， 以 氯仿 、 水 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 (2-Propan-2-yl-2-adamantyl) 2,3-dihydroxy-2-methylpropanoate
  参考文献：
  名称：

  SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN

  摘要：

  一种光阻剂组合物，包括由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，R1、R2和R3分别独立表示氢原子或C1-C10一价脂肪饱和碳氢基团，X1和X2分别独立表示单键、羰基或C1-C10双价脂肪饱和碳氢基团，其中氢原子可以被羟基取代，亚甲基基团可以被氧原子、磺酰基或羰基取代，A1表示C1-C30有机基，m1表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子，以及一种树脂，该树脂在酸的作用下几乎不溶或不溶，但在水性碱溶液中可溶。

  公开号：

  US20130040237A1

文献信息

• SALT, PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：MASUYAMA Tatsuro

  公开号：US20130040237A1

  公开（公告）日：2013-02-14

  A photoresist composition which comprises a salt represented by formula (I): wherein Q 1 and Q 2 each independently represent a fluorine atom or a C1-C6 perfluoroalkyl group, R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom or a C1-C10 monovalent aliphatic saturated hydrocarbon group, X 1 and X 2 each independently represent a single bond, a carbonyl group, or a C1-C10 divalent aliphatic saturated hydrocarbon group where a hydrogen atom can be replaced by a hydroxy group and where a methylene group can be replaced by an oxygen atom, a sulfonyl group or a carbonyl group, A 1 represents a C1-C30 organic group, m1 represents an integer of 1 to 4, and Z + represents an organic cation, and a resin which is hardly soluble or insoluble but soluble in an aqueous alkali solution by action of an acid.

  一种光阻剂组合物，包括由式(I)表示的盐：其中Q1和Q2分别独立表示氟原子或C1-C6全氟烷基基团，R1、R2和R3分别独立表示氢原子或C1-C10一价脂肪饱和碳氢基团，X1和X2分别独立表示单键、羰基或C1-C10双价脂肪饱和碳氢基团，其中氢原子可以被羟基取代，亚甲基基团可以被氧原子、磺酰基或羰基取代，A1表示C1-C30有机基，m1表示1到4的整数，Z+表示有机阳离子，以及一种树脂，该树脂在酸的作用下几乎不溶或不溶，但在水性碱溶液中可溶。
• US9051251B2
  申请人：——

  公开号：US9051251B2

  公开（公告）日：2015-06-09
• 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2018145179A

  公开（公告）日：2018-09-20

  【課題】良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）でレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物の提供。【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［式（Ｉ）中、Ｑ１及びＱ２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ１及びＲ２は、互いに独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。ｚは、０〜６のいずれかの整数を表す。Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は、互いに独立に、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−を表す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ３及びＬ４は、互いに独立に、単結合又は炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。Ｗは、２価の脂環式炭化水素基を表す。Ｒ3は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｒ4は、置換基を有していてもよい炭素数３〜２４の環状炭化水素基等を表す。］【選択図】なし

  提供含有盐和所述盐的光刻胶组合物，可以用良好的线条边缘粗糙度（LER）制造光刻图案。所述盐由式（I）表示。【式（I）中，Q1和Q2分别独立表示氟原子或碳数1〜6的全氟烷基。R1和R2分别独立表示氢原子、氟原子或碳数1〜6的全氟烷基。z表示0〜6之间的整数。X1、X2和X3分别独立表示−CO−O−、−O−CO−、−O−CO−O−或−O−。L1、L2、L3和L4分别独立表示单键或碳数1〜6的烷基。W表示双价脂环烃基。R3表示氢原子或碳数1〜6的烷基。R4表示带有取代基的碳数3〜24的环状烃基等。】【选择图】无