汞柱(OTeF的反应5)2与过量的NSF的3在0℃下导致NSF的形成3个加合物具有的组合物[
汞柱(OTeF 5)2 ·N≡SF 3 ] ∞(1),[Hg(上OTeF 5)2 ·2N≡SF 3 ] 2(2),和Hg 3(OTeF 5)6 ·4N≡SF 3(3)。当反应在室温下进行时,发生氧/
氟复分解反应,生成F 2。OSN-衍
生物[
汞柱(OTeF 5)(N═SOF 2)·N≡SF 3 ] ∞(4)和[
汞柱3(OTeF 5)5(N═SOF 2)·2N≡SF 3 ] 2(5) 。所提出的导致F 2 OSN-基团形成的反应途径是通过NSF 3的
硫(VI)原子上的F 5 TeO-基团的亲核攻击而发生的,然后消除TeF 6。通过19 F NMR光谱确认
六氟化碲的形成。NSF 3分子末端被N配位至
汞,而F 2 OSN
配体被N桥连至两个
汞原子。通过低温单晶X射线衍射和低温拉曼光谱表征该化合物系列。在这个结