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N',N'-dimethylpivaloylhydrazine | 29817-18-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
N',N'-dimethylpivaloylhydrazine
英文别名
N,N-Dimethyl-N'-pivaloyl-hydrazin;N',N'-dimethylpivalohydrazide;N',N',2,2-tetramethylpropanehydrazide
N',N'-dimethylpivaloylhydrazine化学式
CAS
29817-18-3
化学式
C7H16N2O
mdl
——
分子量
144.217
InChiKey
CSBFOUOQPHHERE-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 密度:
    0.916±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.2
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    2
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.86
  • 拓扑面积:
    32.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    N',N'-dimethylpivaloylhydrazine 、 cobalt(II) chloride 在 potassium hydride 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 17.0h, 以57%的产率得到
    参考文献:
    名称:
    Exceptional thermal stability and high volatility in mid to late first row transition metal complexes containing carbohydrazide ligands
    摘要:
    Treatment of metal(II) halides (metal = Cu, Ni, Co, Fe, Mn, Cr) with the potassium salts of carbohydrazides L-1-L-6 afforded Cu(L-1)(2) (75%), Cu(L-2)(2) (51%), Cu(L-3)(2) (23%), Co(L-1)(2) (57%), Cr(L-1)(2) (62%), Ni(L-1)(2) (76%), Ni(L-2)(2) (62%), Ni(L-3)(2) (62%), Ni(L-4)(2) (13%), Ni(L-5)(2) (11%), Ni(L-6)(2) (29%), [Fe(L-1)(2)](2) (28%), and [Mn(L-1)(2)](2) (12%) as crystalline solids, where L-1 = Me2NN=C(tBu)O-, L-2 = Me2NN=C(iPr)O-, L-3 = Me2NN=C(Me)O-, L-4 = (CH2)(5)NN=C(tBu)O-, L-5 = (CH2)(5)NN=C(iPr)O-, and L-6 = (CH2)(5)NN=C(Me)O-. These complexes were characterized by spectral and analytical techniques, and by X-ray crystal structure determinations for Cu(L-1)(2), Co(L-1)(2), Cr(L-1)(2), Ni(L-1)(2), and Fe(L-1)(2)](2). Cu(L-1)(2), Co(L-1)(2), Cr(L-1)(2), and Ni(L-1)(2) exist as square planar, monomeric complexes, whereas [Fe(L1)2]2 is a dimer. A combination of sublimation studies, thermal decomposition temperature determinations, and thermogravimetric/differential thermal analysis demonstrate that the Cu, Co, and Ni complexes Cu(L-1)(2), Cu(L-2)(2), Co(L-1)(2), Ni(L-1)(2), and Ni(L-2)(2) have the lowest sublimation temperatures and highest decomposition temperatures among the series. Additionally, these compounds have higher volatilities and thermal stabilities than commonly used ALD and CVD precursors. Hence, these new complexes have excellent properties for application as ALD precursors to Cu, Co, and Ni metal films. (C) 2012 Elsevier Ltd. All rights reserved.
    DOI:
    10.1016/j.poly.2012.07.034
  • 作为产物:
    描述:
    三甲基乙酰氯偏二甲肼二氯甲烷 为溶剂, 反应 3.75h, 以1.30 g的产率得到N',N'-dimethylpivaloylhydrazine
    参考文献:
    名称:
    用于电化学 C-H 氧化的 N-铵叶立德介体
    摘要:
    强 C(sp 3 )-H 键的位点特异性氧化在有机合成中具有无可争议的效用。从简化对代谢物的获取和先导化合物的后期多样化到截断逆合成计划,学术界和工业界都越来越需要新的试剂和方法来实现这种转变。当前化学试剂的一个主要缺点是在结构和反应性方面缺乏多样性,这阻碍了用于快速筛选的组合方法的使用。在这方面,定向进化仍然最有希望在各种复杂环境中实现复杂的 C-H 氧化。在此,我们提出了一个设计合理的平台,该平台使用N-铵叶立德作为电化学驱动的氧化剂,用于位点特异性、化学选择性 C(sp 3 )-H 氧化。通过采用以计算为指导的第一性原理方法,这些新的介质被识别出来,并使用无处不在的构建块和简单的合成技术迅速扩展到一个库中。基于叶立德的 C-H 氧化方法表现出可调的选择性,这通常是此类氧化剂独有的,可应用于农业和制药领域的实际问题。
    DOI:
    10.1021/jacs.1c03780
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文献信息

  • [EN] THERMALLY STABLE VOLATILE FILM PRECURSORS<br/>[FR] PRÉCURSEURS DE FILM MINCE VOLATILS ET THERMIQUEMENT STABLES
    申请人:UNIV WAYNE STATE
    公开号:WO2010132871A1
    公开(公告)日:2010-11-18
    A precursor for the deposition of a thin film by atomic layer deposition is provided. The compound has the formula MxLy where M is a metal and L is an amidrazone-derived ligand or an amidate-derived ligand. A process of forming a thin film using the precursors is also provided.
    提供了一种用原子层沉积法沉积薄膜的前体。该化合物的化学式为MxLy,其中M是金属,L是一种来自酰胺脲衍生配体或酰胺酸衍生配体的配体。还提供了一种使用这些前体形成薄膜的过程。
  • Inhibitors of VEGF receptor and HGF receptor signaling
    申请人:Saavedra Mario Oscar
    公开号:US20070004675A1
    公开(公告)日:2007-01-04
    The invention relates to the inhibition of VEGF receptor signaling and HGF receptor signaling. The invention provides compounds and methods for inhibiting VEGF receptor signaling and HGF receptor signaling. The invention also provides compositions and methods for treating cell proliferative diseases and conditions
    该发明涉及抑制VEGF受体信号和HGF受体信号。该发明提供了抑制VEGF受体信号和HGF受体信号的化合物和方法。该发明还提供了治疗细胞增殖性疾病和病况的组合物和方法。
  • KINASE INHIBITORS AND USES THEREOF
    申请人:Raeppel Stephane
    公开号:US20080255155A1
    公开(公告)日:2008-10-16
    This invention relates to compounds that inhibit protein tyrosine kinase activity. In particular the invention relates to compounds, compositions and methods for the inhibition of kinase activity. The invention also provides compounds, compositions and methods for treating cell proliferative diseases and conditions.
    本发明涉及抑制蛋白酪氨酸激酶活性的化合物。具体而言,本发明涉及抑制激酶活性的化合物、组合物和方法。本发明还提供用于治疗细胞增殖性疾病和病症的化合物、组合物和方法。
  • HYDRAZIDE COMPOUND AND THROMBOPOIETIN RECEPTOR ACTIVATOR
    申请人:Miyaji Katsuaki
    公开号:US20090253751A1
    公开(公告)日:2009-10-08
    Compounds effective for preventing, treatment or improving diseases against which activation of the thrombopoietin receptor is effective are provided. A compound represented by the formula (I) (wherein R 1 , R 2 , R 3 , L 1 , L 2 , X and Y are defined in the description), a tautomer, prodrug or pharmaceutically acceptable salt of the compound or a solvate thereof.
    提供了一种用于预防、治疗或改善激活血小板生成素受体有效对抗的疾病的化合物。该化合物由式(I)所表示(其中R1、R2、R3、L1、L2、X和Y在描述中被定义),该化合物的互变异构体、前药或药物可接受的盐或其溶剂化物。
  • THERMALLY STABLE VOLATILE FILM PRECURSORS
    申请人:Winter Charles H.
    公开号:US20120058270A1
    公开(公告)日:2012-03-08
    A precursor for the deposition of a thin film by atomic layer deposition is provided. The compound has the formula MxLy where M is a metal and L is an amidrazone-derived ligand or an amidate-derived ligand. A process of forming a thin film using the precursors is also provided.
    提供了一种用于原子层沉积薄膜的前体。该化合物的化学式为MxLy,其中M是金属,L是衍生自酰肼的配体或酰胺基配体。还提供了一种使用前体形成薄膜的过程。
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