ethyl 2-fluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate | 1277186-98-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: ethyl 2-fluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate
• 英文别名: Ethyl 2-fluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate；ethyl 2-fluoro-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)pentanoate
• CAS: 1277186-98-7
• 化学式: C₁₁H₁₇FO₄
• 分子量: 232.252
• InChiKey: RWKBQBSLRQDXDL-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.7
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.64
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  ethyl 2-fluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 以90%的产率得到2-fluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoic acid
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER AND COMPOUND

  摘要：

  提供一种辐射敏感的树脂组合物，可在液体浸没光刻工艺中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出极大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面表现出优越的排水性能，并且该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中引起动态接触角的显著降低，从而可以抑制显影缺陷的产生，并进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）一种含氟聚合物，其具有包括以下公式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）一种辐射敏感的酸发生剂。

  公开号：

  US20130122426A1
• 作为产物：
  描述：

  三乙胺 、 2-二甲氨基吡啶 、 ethyl 2-fluoro-3-hydroxypentanoate 、 甲基丙烯酰氯 、 、 碳酸氢钠 在 氮气 、 水 、 Brine 、 Sodium sulfate-III 作用下， 以 乙酸乙酯 、 四氢呋喃 为溶剂， 反应 2.17h， 以to give 6.38 g (yield: 60%) of ethyl 2-fluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate的产率得到ethyl 2-fluoro-3-(methacryloyloxy)pentanoate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER AND COMPOUND

  摘要：

  提供了一种辐射敏感的树脂组合物，该组合物在液体浸没光刻工艺中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中表现出极大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜的表面能够表现出优异的排水性能，并且该辐射敏感的树脂组合物能够导致在显影过程中动态接触角显著降低，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且进一步缩短了动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）具有以下式（1）所表示的结构单元（I）的聚合物，以及（B）辐射敏感的酸发生剂。

  公开号：

  US20140004463A9

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYMER AND POLYMERIZABLE COMPOUND
  申请人：ASANO Yuusuke

  公开号：US20120237875A1

  公开（公告）日：2012-09-20

  A radiation-sensitive resin composition includes a first polymer including an acid-labile group, an acid generator to generate an acid upon exposure to radiation, and a second polymer including a fluorine atom and a functional group shown by a general formula (x). The second polymer has a fluorine atom content higher than a fluorine atom content of the first polymer. R 1 represents an alkali-labile group. A represents an oxygen atom, —NR′—, —CO—O— # or —SO 2 —O— ## , wherein the oxygen atom represented by A is not an oxygen atom bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group, R′ represents a hydrogen atom or an alkali-labile group, and “#” and “##” indicates a bonding hand bonded to R 1 . -A-R 1 (x)

  一种辐射敏感树脂组合物包括第一聚合物，其中包括酸敏感基团，酸发生剂用于在辐射照射后生成酸，以及第二聚合物，其中包括氟原子和由通用公式（x）表示的功能基团。第二聚合物的氟原子含量高于第一聚合物的氟原子含量。R1代表碱性易裂解基团。A代表氧原子，-NR′—，-CO—O—#或-SO2—O—##，其中A代表的氧原子不是直接与芳香环、酰基或亚砜基结合的氧原子，R′代表氢原子或碱性易裂解基团，“#”和“##”表示与R1结合的键合手。-A-R1(x)
• Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, and polymer and compound
  申请人：Osaki Hitoshi

  公开号：US09040221B2

  公开（公告）日：2015-05-26

  A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a fluorine-containing polymer having a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

  提供了一种辐射敏感的树脂组合物，可以在液浸式光刻过程中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出很大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面能够展现出卓越的排水性能，同时该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中显著降低动态接触角，从而可以抑制显影缺陷的产生，并且能够进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）含氟聚合物，其具有包括下式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）辐射敏感的酸发生剂。
• Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, polymer and polymerizable compound
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP2781959A2

  公开（公告）日：2014-09-24

  A radiation-sensitive resin composition includes (A) a polymer that includes an acid-labile group, (B) an acid generator that generates an acid upon exposure to radiation, and (C) a polymer that includes a fluorine atom and a functional group shown by the following general formula (x), the polymer (C) having a fluorine atom content higher than that of the polymer (A).         — A—R1     (x) wherein R1 represents an alkali-labile group, and A represents an oxygen atom (excluding an oxygen atom that is bonded directly to an aromatic ring, a carbonyl group, or a sulfoxyl group), an imino group, -CO-O-*, or -SO2-O-* (wherein "*" indicates a bonding hand bonded to R1).

  一种辐射敏感树脂组合物包括：(A) 含有酸亲和基的聚合物；(B) 在辐射照射下产生酸的酸发生器；(C) 含有氟原子和以下通式 (x) 所示官能团的聚合物，聚合物 (C) 的氟原子含量高于聚合物 (A)。 - A-R1 (x) 其中 R1 代表耐碱基团，A 代表氧原子（不包括直接与芳香环、羰基或亚磺酰基键合的氧原子）、亚氨基、-CO-O-* 或 -SO2-O-* （其中 "*"表示与 R1 键合的键手）。
• US8728706B2
  申请人：——

  公开号：US8728706B2

  公开（公告）日：2014-05-20
• US9040221B2
  申请人：——

  公开号：US9040221B2

  公开（公告）日：2015-05-26