9,9'-(biphenyl-4,4'-diyl)bis(fluoren-9-ol) | 427165-44-4

• 物质功能分类: 医药中间体 - 嘧啶类化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 英文名称: 9,9'-(biphenyl-4,4'-diyl)bis(fluoren-9-ol)
• 英文别名: 9,9'-(biphenyl-4,4'-diyl)bis(fluoro-9-ol)；9,9’-(biphenyl-4,4’-diyl)bis(9H-fluoren-9-ol)；9,9'-(biphenyl-4,4'-diyl)bis(9H-fluoren-9-ol)；9,9'(Biphenyl-4,4'-diyl)difluoren-9-ol；9-[4-[4-(9-hydroxyfluoren-9-yl)phenyl]phenyl]fluoren-9-ol
• CAS: 427165-44-4
• 化学式: C₃₈H₂₆O₂
• 分子量: 514.623
• InChiKey: COCUJCCLTHFNHJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  500℃ at 101.3kPa
• 密度：
  1.141 at 20℃
• LogP：
  4.88 at 23.8℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.5
• 重原子数：
  40
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  8.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  9,9'-(biphenyl-4,4'-diyl)bis(fluoren-9-ol) 在 氢碘酸 作用下， 以 溶剂黄146 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 9,9'-[4,4'-(1,1'-biphenyl)ylene]bis(9H-fluorene)
  参考文献：
  名称：

  C 2对称双（芴基）配合物：四种配合物模型作为丙烯同种异构聚合的潜在催化剂

  摘要：

  提出了C 2对称的双（芴基）锆配合物的四种可能的结构。已经制备了三种双（芴基）锆茂金属配合物并测试了丙烯和乙烯的聚合反应。外消旋/内消旋-二氯[ η 10 - （1,2-乙二基）双（似乎是乙烯最活跃的聚合催化剂。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(95)06008-k
• 作为产物：
  描述：

  9-芴酮 、 4,4'-二溴联苯 在 正丁基锂 作用下， 以 乙醚 、 正己烷 为溶剂， 生成 9,9'-(biphenyl-4,4'-diyl)bis(fluoren-9-ol)
  参考文献：
  名称：

  C 2对称双（芴基）配合物：四种配合物模型作为丙烯同种异构聚合的潜在催化剂

  摘要：

  提出了C 2对称的双（芴基）锆配合物的四种可能的结构。已经制备了三种双（芴基）锆茂金属配合物并测试了丙烯和乙烯的聚合反应。外消旋/内消旋-二氯[ η 10 - （1,2-乙二基）双（似乎是乙烯最活跃的聚合催化剂。

  DOI：

  10.1016/0022-328x(95)06008-k

文献信息

• Inclusion Compounds of Diol Hosts Featuring Two 9-Hydroxy-9-fluorenyl or Analogous Groups Attached to Linear Spacer Units
  作者：Edwin Weber、Silke Nitsche、Andreas Wierig、Ingeborg Csöregh

  DOI：10.1002/1099-0690(200203)2002:5<856::aid-ejoc856>3.0.co;2-r

  日期：2002.3

  A series of new clathrate host molecules 1−15, each containing two 9-hydroxy-9-fluorenyl or analogous terminal groups attached to linear central units of different lengths and structural compositions, has been synthesized. Their crystalline inclusion compounds with a variety of organic guests − including amines, alcohols, ketones, and other dipolar aprotic compounds or aromatic hydrocarbons − are reported

  合成了一系列新的包合物主体分子 1-15，每个分子包含两个 9-羟基-9-芴基或类似的端基，连接到不同长度和结构组成的线性中心单元上。报告了它们与各种有机客体（包括胺、醇、酮和其他偶极非质子化合物或芳烃）的结晶包合物（229 个包合物实例），并比较了它们的性质。一种游离主体化合物和六种不同化合物类别的选定包合物的晶体结构已通过 X 射线衍射确定，显示出不同的超分子相互作用模式。
• 化合物、化合物的制备方法及有机膜形成用组 合物
  申请人：信越化学工业株式会社

  公开号：CN110627600B

  公开（公告）日：2022-07-01

  本发明提供化合物、该化合物的制备方法及使用了该化合物的有机膜形成用组合物，该化合物能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物，耐热性及形成于基板的图案的嵌入或平坦化特性优异，且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物在分子内具有2个以上下述通式(1‑1)所示的结构。式中，Ar表示可具有取代基的芳香环或含有氮原子及硫原子中的1个以上的芳香环，2个Ar可彼此连接而形成环结构；虚线为与Y的结合键，Y为具备可具有取代基的芳香环或杂芳香环、且结合键位于芳香环结构或杂芳香环结构的碳原子数为6～30个的2价或3价有机基团；R为氢原子或碳原子数为1～68的1价基团。
• Biphenyl derivative, resist bottom layer material, bottom layer forming method, and patterning process
  申请人：Kori Daisuke

  公开号：US08835697B2

  公开（公告）日：2014-09-16

  A biphenyl derivative having formula (1) is provided wherein Ar1 and Ar2 denote a benzene or naphthalene ring, and x and z each are 0 or 1. A material comprising the biphenyl derivative or a polymer comprising recurring units of the biphenyl derivative is spin coated and heat treated to form a resist bottom layer having improved properties, optimum values of n and k, step coverage, etch resistance, heat resistance, solvent resistance, and minimized outgassing.

  提供具有式（1）的联苯衍生物，其中Ar1和Ar2表示苯或萘环，x和z分别为0或1。包括该联苯衍生物的材料或包含该联苯衍生物重复单元的聚合物经旋涂和热处理，形成具有改进性能、最佳值的n和k、阶梯覆盖、蚀刻抗性、耐热性、耐溶剂性和最小化气体排放的抗蚀底层。
• 化合物及有机膜形成用组合物
  申请人：信越化学工业株式会社

  公开号：CN110615732B

  公开（公告）日：2023-08-08

  本发明提供一种化合物，其能够形成不仅在空气中、而且在惰性气体中的成膜条件下也固化而不产生副产物，耐热性及形成在基板上的图案的嵌入或平坦化特性优异，且基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机下层膜。该化合物为下述通式(1‑1)所示的化合物。[化学式1]式中，AR1、AR2表示芳香环或含有氮原子、硫原子中的1个以上的芳香环，2个AR1、AR1与AR2、2个AR2可连接；AR3为苯环、萘环、噻吩环、吡啶环或二嗪环；A为有机基团，B为阴离子性离去基团，Y为2价有机基团，p为1或2，q为1或2，r为0或1，s为2～4；s＝2时，Z为单键、2价原子或2价有机基团，s＝3或4时，Z为3价或4价的原子或有机基团。
• COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMING ORGANIC FILM, SUBSTRATE FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR APPARATUS, METHOD FOR FORMING ORGANIC FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20190300498A1

  公开（公告）日：2019-10-03

  A compound including two or more partial structures shown by the following general formula (1-1) in the molecule, wherein each Ar independently represents an aromatic ring optionally having a substituent or an aromatic ring that contains at least one nitrogen atom optionally having a substituent, and two Ars are optionally bonded with each other to form a ring structure; the broken line represents a bond with an organic group; B represents an anionic leaving group that is capable of forming a reactive cation due to effect of either or both of heat and acid. This provides a compound that is capable of curing under the film forming conditions in air or an inert gas without forming byproducts, and forming an organic under layer film that has good dry etching durability during substrate processing not only excellent characteristics of gap filling and planarizing a pattern formed on a substrate.

  该化合物包括分子中由以下一般式（1-1）所示的两个或更多个部分结构，其中每个Ar独立地表示一个芳香环，可以具有取代基，或者是一个含有至少一个氮原子的芳香环，可以具有取代基，两个Ar可以选择地彼此连接以形成一个环结构；虚线代表与有机基团的键合；B代表一种能够由于热和酸的作用而形成反应性阳离子的阴离子离去基团。这提供了一种能够在空气或惰性气体中的成膜条件下固化而不形成副产物的化合物，并形成具有良好干法刻蚀耐久性的有机底层膜，在衬底加工过程中不仅具有填隙和平坦化在衬底上形成的图案的优异特性。