1-Ethyl-tetrazolyl-5-essigsaeure-methylester | 21744-61-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 唑类
• 英文名称: 1-Ethyl-tetrazolyl-5-essigsaeure-methylester
• 英文别名: (1-ethyl-1H-tetrazol-5-yl)-acetic acid methyl ester；Methyl 2-(1-ethyltetrazol-5-yl)acetate
• CAS: 21744-61-6
• 化学式: C₆H₁₀N₄O₂
• 分子量: 170.171
• InChiKey: HHZLEXIOUXNLLT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.3
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  69.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-Ethyl-tetrazolyl-5-essigsaeure-methylester 在 对甲苯磺酰叠氮 、 三乙胺 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 以47%的产率得到1-ethyl-5-(methoxycarbonyldiazomethyl)tetrazole
  参考文献：
  名称：

  L'abbe, Gerrit; Gelinne, Marleen; Toppet, Suzanne, Journal of Heterocyclic Chemistry, 1988, vol. 25, p. 1741 - 1744

  摘要：

  DOI：

文献信息

• LABBE, GERRIT;GELINNE, MARLEEN;TOPPET, SUZANNE, J. HETEROCYCL. CHEM., 25,(1988) N, C. 1741-1744
  作者：LABBE, GERRIT、GELINNE, MARLEEN、TOPPET, SUZANNE

  DOI：——

  日期：——
• Metal-polishing liquid and chemical mechanical polishing method using the same
  申请人：Yamashita Katsuhiro

  公开号：US20070186484A1

  公开（公告）日：2007-08-16

  The invention provides a metal polishing liquid comprising an oxidizing agent and colloidal silica in which a part of a surface of the colloidal silica is covered with aluminum atoms, and a Chemical Mechanical Polishing method using the same. An amino acid, a compound having an isothiazoline-3-one skeleton, an organic acid, a passivated film forming agent, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and a water-soluble polymer may be contained. A metal polishing liquid which is used in Chemical Mechanical Polishing in manufacturing of a semiconductor device, attains low dishing of a subject to be polished, and can perform polishing excellent in in-plane uniformity of a surface to be polished.
• US7857985B2
  申请人：——

  公开号：US7857985B2

  公开（公告）日：2010-12-28