2-phenyl-crotononitrile | 38586-17-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-phenyl-crotononitrile
• 英文别名: 2-Phenyl-crotononitril；α-Phenyl-crotonnitril；α-Phenylcrotonitril；2-Phenylcrotononitril；2-Phenyl-2-butenonitrile；2-phenylbut-2-enenitrile
• CAS: 38586-17-3
• 化学式: C₁₀H₉N
• 分子量: 143.188
• InChiKey: ZYBPSQSGQRMLDY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  122-124 °C(Press: 12 Torr)
• 密度：
  0.996±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.1
• 拓扑面积：
  23.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-phenyl-crotononitrile 在 乙醇 、 硫酸 、 水 、 苄基三甲基氢氧化铵 、 溶剂黄146 、 铂 作用下， 生成 格鲁米特
  参考文献：
  名称：

  生物学家Abbauversuche III。合成尼古丁酯†

  摘要：

  为了研究“ Doriden”的生物降解，已合成了一些戊二酰亚胺，它们是推测的中间产物。

  DOI：

  10.1002/hlca.19570400217
• 作为产物：
  描述：

  苯乙腈 在 乙醇 、 sodium ethanolate 、 乙醛 作用下， 生成 2-phenyl-crotononitrile
  参考文献：
  名称：

  SUBSTITUTED PHENYLACETONITRILES AND DERIVATIVES. 1-PHENYL-1-CYANOCYCLOPROPANE, ALPHA-PHENYL-GAMMA-HYDROXYBUTYRONITRILE, ALPHA-PHENYL-GAMMA-CHLOROBUTYRONITRILE AND ALPHA-PHENYLCROTONONITRILE¹

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01344a050

文献信息

• Hydrocyanation and hydrogenation of acetylenes catalysed by cyanocobaltates
  作者：Takuzo Funabiki、Yasuyuki Yamazaki、Yoshihiro Sato、Satohiro Yoshida

  DOI：10.1039/p29830001915

  日期：——

  [Co(CN)3(bipy)H]–. The preliminary formation of a [π-acetylene–Co(CN)4]3– complex is assumed to explain the fact that the complex is active only at CN : Co < 5 : 1. Hydrocyanation is explained by the reductive coupling of the vinyl and cyano ligands of [σ-vinyl–Co(CN)5]3– which is formed by the reaction of the π-acetylene complex, rather than acetylene itself, with [Co(CN)5H]3–.

  乙炔通过在CN：Co <5：1处制备的氰基钴酸盐进行区域选择性氢氰化，通过不饱和腈通过不使用氰化氢的方法生成饱和仲腈，然后将其部分氢化为烯烃或饱和烃。在2,2'-联吡啶存在下，乙炔的氢化作用占主导地位，反映出高活性氢化物络合物[Co（CN）3（bipy）H] –的形成。假定[π-乙炔-Co（CN）4 ] 3-配合物的初步形成是为了解释该配合物仅在CN：Co <5：1时才有活性。和[σ-乙烯基–Co（CN）5 ] 3–的氰基配体它是由π-乙炔络合物（而不是乙炔本身）与[Co（CN）5 H] 3–反应形成的。
• 2- and 3-chloropyrroles and process for preparing the same
  申请人：Nihon Bayer Agrochem K.K.

  公开号：US05210218A1

  公开（公告）日：1993-05-11

  Novel 2- or 3-chloropyrroles represented by the general formula: ##STR1## wherein R.sup.1 represents hydrogen atom, chlorine atom, alkyl group, or aryl group which may optionally be substituted, with the proviso that any one of the two groups represented by R.sup.1 is chlorine atom, R.sup.2 represents alkyl group or aryl group which may optionally be substituted, and R.sup.3 represents tertiary alkyl group which may be substituted by phenyl, or phenyl which may optionally be substituted, and processes for preparing the same.

  通式为：##STR1## 的小说2或3-氯吡咯，其中R.sup.1代表氢原子、氯原子、烷基或芳基，其可以选择性地被取代，但是R.sup.1所代表的两个基团中的任意一个是氯原子，R.sup.2代表可以选择性地被取代的烷基或芳基，R.sup.3代表可以被苯基取代的三级烷基或可以选择性地被取代的苯基，以及制备这些化合物的方法。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
• Organic Compounds
  申请人：Bachmann Jean-Pierre

  公开号：US20080306170A1

  公开（公告）日：2008-12-11

  The use of 2-phenyl-2-alkene nitriles as fragrance ingredients and fragrance applications comprising them. These fragrance applications can be e.g. perfumes, household products, laundry products, body care products and cosmetics.

  使用2-苯基-2-烯基腈作为香料成分和含有它们的香料应用。这些香料应用可以是香水、家居产品、洗衣产品、身体护理产品和化妆品等。