di-n-hexyl peroxide | 3903-89-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物 - 有机氧化物
• 英文名称: di-n-hexyl peroxide
• 英文别名: di-t-hexyl peroxide；t-hexyl peroxide；dihexyl peroxide；Dihexyl-peroxid；Di-n-hexylperoxid；1-hexylperoxyhexane
• CAS: 3903-89-7
• 化学式: C₁₂H₂₆O₂
• 分子量: 202.337
• InChiKey: ZHKBLALOBMBJLL-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  58 °C(Press: 0.5 Torr)
• 密度：
  0.845±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  11
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  18.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2909600000

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  di-n-hexyl peroxide 以34%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  CEKOVIC Z.; DIMITRIJEVIC L., GLAS. XEM. DRUSHT. BEOGRAD, 1981, 46, HO 4, 79-85

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1-碘己烷 在 双氧水 、 silver trifluoroacetate 作用下， 生成 di-n-hexyl peroxide
  参考文献：
  名称：

  一种方便且通用的烷基氢过氧化物和二烷基过氧化物的制备方法

  摘要：

  伯，仲和叔烷基氢过氧化物和二烷基过氧化物可以在三氟乙酸银存在下由合适的烷基溴或碘化物和过氧化氢或烷基氢过氧化物制备。

  DOI：

  10.1039/c39760001022

文献信息

• Preparation of Di-<i>n</i>-alkyl Peroxides: Phase-Transfer Reaction of Potassium Superoxide with Primary Alkyl Bromides
  作者：Thomas A. Foglia、Leonard S. Silbert

  DOI：10.1055/s-1992-26160

  日期：——

  Symmetrical saturated and unsaturated primary dialkyl peroxides 1 were prepared in a phase-transfer reaction by direct action of potassium superoxide, tetraethylammonium bromide and alkyl bromide in dimethylformamide solution. Applicability of the method to the preparation of unsymmetrical dialkyl peroxides was demonstrated by the example of butyl octyl peroxide (2). Yields generally exceeded 80% for symmetrical dialkyl peroxides with total carbon numbers above 12 carbon atoms. Peroxide content of the isolated dialkyl peroxides generally exceeded 90%.

  通过在二甲基甲酰胺溶液中，过氧基钾、溴化四乙基铵和烷基溴的直接作用，通过相转移反应制备了对称的饱和和不饱和二烷基过氧化物1。以丁基辛基过氧化物（2）为例，展示了该方法在制备非对称二烷基过氧化物中的适用性。对于总碳数超过12个碳原子的对称二烷基过氧化物，产率通常超过80%。分离得到的二烷基过氧化物的过氧化物含量普遍超过90%。
• Process and catalyst for oxidation of hydrocarbons
  申请人：Zhan Bi-Zeng

  公开号：US20070004944A1

  公开（公告）日：2007-01-04

  A process for the oxidation of hydrocarbons comprises contacting the hydrocarbon with an oxygen-containing gas in the presence of a catalyst comprising a microporous solid support, preferably a zeolite, having from 8- to 12-ring open windows and comprising non-framework metal cations selected from manganese, iron, cobalt, vanadium, chromium, copper, nickel, and ruthenium, and mixtures thereof, providing that the oxygen-containing gas does not contain significant amounts of added hydrogen. The catalyst is novel and forms part of the invention. The process may be used for oxidation of alkanes, cycloalkanes, benzene and alkylbenzenes, and is suitable for use in regioselective terminal oxidation of straight chain alkanes and for selective oxidation/separation of p-dialkylbenzenes from an alkylbenzene mixture, for example, p-xylene from an isomeric mixture of xylenes.

  一种用于氧化烃类的方法包括将烃类与含氧气体在催化剂的存在下接触，所述催化剂包括微孔固体支撑物，优选为沸石，具有8至12环开放窗口，并包括从锰、铁、钴、钒、铬、铜、镍和钌中选择的非骨架金属阳离子以及它们的混合物，前提是所述含氧气体不含有大量添加的氢气。该催化剂是新颖的，并且构成了该发明的一部分。该方法可用于烷烃、环烷烃、苯和烷基苯的氧化，并适用于直链烷烃的区域选择性末端氧化以及对二烷基苯从烷基苯混合物中的选择性氧化/分离，例如，从二甲苯异构体混合物中选择性氧化对二甲苯。
• Adamantane compounds and insulating film forming coating solutions
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20040127715A1

  公开（公告）日：2004-07-01

  The object of the present invention is to provide a novel compound which can prepare an insulating film having a low dielectric constant and excellent in the heat resistance. This object is achieved by an adamantane compound represented by the formula (1). 1 (wherein B represents a direct bond, an alkylene group having a carbon number of 1 to 6, an alkenylene group having a carbon number of 2 to 6, or an alkynylene group having a carbon number of 2 to 6, and X represents a monovalent organic group represented by the formula (2). 2

  本发明的目的是提供一种新型化合物，可以制备具有低介电常数且在耐热性方面表现优异的绝缘膜。该目的通过由式（1）表示的一种脂环烷化合物来实现。其中B代表直接键，具有1至6个碳原子的烷基基团，具有2至6个碳原子的烯烃基团，或具有2至6个碳原子的炔烃基团，X代表由式（2）表示的一价有机基团。
• Coating solution for forming insulating film
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：US20030143332A1

  公开（公告）日：2003-07-31

  An object of the present invention is to provide a coating solution which is capable of forming an insulating film exhibiting a low dielectric constant and superior insulating performance. The object is achieved by a coating solution for forming insulating film comprising at least one selected from the group consisting of a compound represented by the formula (1) and a resin resulting from polymerization of the compound of the formula (1). 1

  本发明的一个目的是提供一种能够形成具有低介电常数和优越绝缘性能的绝缘膜的涂层溶液。该目的通过一种用于形成绝缘膜的涂层溶液实现，所述涂层溶液包括至少选自以下群组中的一种的化合物，该群组由式（1）表示的化合物和由式（1）的化合物聚合而成的树脂。
• Film-forming composition, insulating material-forming composition, insulating film and electronic device
  申请人：Watanabe Katsuyuki

  公开号：US20050276964A1

  公开（公告）日：2005-12-15

  A film-forming composition comprising: a compound having a specific cage structure; a pore-forming agent; an adhesion promoter; and so on, an insulating film formed from the film-forming composition and an electronic device comprising the insulating film.

  一种成膜组合物，包括：具有特定笼状结构的化合物；孔形成剂；粘附促进剂等，由该成膜组合物形成的绝缘膜以及包括该绝缘膜的电子设备。