2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonic acid | 40707-55-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonic acid
• 英文别名: p-HC6F4SO3H；2,3,5,6-Tetrafluor-benzolsulfonsaeure；1,2,4,5-Tetrafluorbenzolsulfonsaeure；2,3,5,6-Tetrafluorbenzolsulfonsaeure；2,3,5,6-Tetrafluorobenzene-1-sulfonic acid
• CAS: 40707-55-9
• 化学式: C₆H₂F₄O₃S
• 分子量: 230.14
• InChiKey: ACIDSZRFMFAMAG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.783±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  62.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonic acid 在 氯化亚砜 作用下， 反应 3.0h， 生成 2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  碳酸酐酶抑制剂：用含氟磺酰胺抑制肿瘤相关同工酶IX。发现了第一个亚纳摩尔型CA IX抑制剂。

  摘要：

  多氟化CAI对不同的碳酸酐酶（CA）同功酶（例如CA I，II和IV）显示出非常好的抑制特性，但是尚未测试此类化合物与跨膜，肿瘤相关同功酶CA IX的相互作用。因此，通过将2,3,5,6-四氟苯甲酰基-和2,3,5,6-四氟苯磺酰基-部分连接到具有可衍生氨基部分的芳族/杂环磺酰胺上，获得了一系列这样的化合物。这些化合物中的一些显示出优异的CA IX抑制特性，并且还具有优于CA IX的选择性比，而CA II是对磺酰胺抑制剂具有高亲和力的其他生理相关同工酶。第一亚纳摩尔和而选择性CA IX抑制剂已经发现，为2,3,5，偏甲酰胺的6-四氟苯甲酰基衍生物对hCA IX的抑制常数为0.8 nM，对CA IX的选择性比CA II为26.25。在本文报道的新衍生物中还检测到其他几种低纳摩尔CA IX抑制剂。基于对肿瘤相关的CA同工酶的选择性抑制，所报道的衍生物构成了开发新型抗肿瘤疗法的有价值的候选物。

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2004.01.095
• 作为产物：
  描述：

  1,2,4,5-四氟苯 在 氯磺酸 作用下， 反应 2.0h， 生成 2,3,5,6-tetrafluorobenzenesulfonic acid
  参考文献：
  名称：

  碳酸酐酶抑制剂：用含氟磺酰胺抑制肿瘤相关同工酶IX。发现了第一个亚纳摩尔型CA IX抑制剂。

  摘要：

  多氟化CAI对不同的碳酸酐酶（CA）同功酶（例如CA I，II和IV）显示出非常好的抑制特性，但是尚未测试此类化合物与跨膜，肿瘤相关同功酶CA IX的相互作用。因此，通过将2,3,5,6-四氟苯甲酰基-和2,3,5,6-四氟苯磺酰基-部分连接到具有可衍生氨基部分的芳族/杂环磺酰胺上，获得了一系列这样的化合物。这些化合物中的一些显示出优异的CA IX抑制特性，并且还具有优于CA IX的选择性比，而CA II是对磺酰胺抑制剂具有高亲和力的其他生理相关同工酶。第一亚纳摩尔和而选择性CA IX抑制剂已经发现，为2,3,5，偏甲酰胺的6-四氟苯甲酰基衍生物对hCA IX的抑制常数为0.8 nM，对CA IX的选择性比CA II为26.25。在本文报道的新衍生物中还检测到其他几种低纳摩尔CA IX抑制剂。基于对肿瘤相关的CA同工酶的选择性抑制，所报道的衍生物构成了开发新型抗肿瘤疗法的有价值的候选物。

  DOI：

  10.1016/j.bmcl.2004.01.095

文献信息

• Fluor-Benzolsulfonsäuretrimethylsilylester
  作者：Heiner Johannsen、Peter Sartori

  DOI：10.1055/s-1988-27668

  日期：——

  Trimethylsilylesters of Fluorobenzenesulfonic acids Fluorobenzenesulfonic acids were prepared by electrophilic sulfonation of fluorobenzenes 1. The acids are obtained as hydrates and converted to their trimethylsilyl esters 2 for characterization.

  三甲基硅醇酯的氟苯磺酸 通过氟苯的电亲核磺化反应制备了氟苯磺酸。这些酸以水合物的形式获得，并转化为其三甲基硅醇酯以进行表征。
• [EN] PENTAFLUOROPHENYL SULFONAMIDE COMPOUNDS, COMPOSITIONS AND USES THEREOF<br/>[FR] COMPOSÉS DE SULFONAMIDE PENTAFLUOROPHÉNYLE, COMPOSITIONS ET UTILISATIONS ASSOCIÉES
  申请人：DALRIADA THERAPEUTICS INC

  公开号：WO2019056120A1

  公开（公告）日：2019-03-28

  The present application relates to sulfonamide containing compounds of Formulae (I) and (II) and compositions containing said compounds effective in the treatment of cell proliferative disorders, in particular cancer, and various methods of use thereof.

  本申请涉及含有化合物的磺胺基的化合物的公式（I）和（II），以及含有该化合物的组合物，对细胞增殖性疾病，特别是癌症的治疗有效，并且相关的各种使用方法。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM USING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Fujii Kana

  公开号：US20120003586A1

  公开（公告）日：2012-01-05

  Provided are an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition; a resist film using the composition; and a pattern forming method. The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes (A) a resin capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, the resin containing a repeating unit represented by formula (I), a repeating unit represented by formula (II) and a repeating unit represented by formula (III), and (B) a compound capable of generating a fluorine atom-containing acid upon irradiation with an actinic ray or radiation: wherein each of R 1 and R 11 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group which may have a substituent, and R 12 represents a phenyl group which may have a substituent.

  提供了一种光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物；使用该组合物的光刻膜；以及一种图案形成方法。该光致射线敏感或辐射敏感的树脂组合物包括（A）一种树脂，能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度，该树脂含有由式（I）表示的重复单元、由式（II）表示的重复单元和由式（III）表示的重复单元；和（B）一种化合物，能够在光致射线或辐射照射下产生含氟酸基的酸：其中，R1和R11各自独立地表示氢原子或可能具有取代基的烷基，而R12表示可能具有取代基的苯基。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1953593A1

  公开（公告）日：2008-08-06

  It is intended to provide a radiation-sensitive resin composition, which comprises a radiation-sensitive acid generator excellent in resolution performance, heat stability, and storage stability, suppresses fluctuations in line width and deterioration in pattern profile attributed to standing waves, and produces a resist pattern improved in nano edge roughness and LEF. The radiation-sensitive resin composition is characterized by (A) a radiation-sensitive acid generator comprising: a sulfonium salt compound typified by 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluorobenzenesulfonate, 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate, or the like; and a sulfonimide compound. It is preferred that the composition should further comprise (B) a resin typified by a 4-hydroxystyrene/4-t-butoxystyrene copolymer, a 4-hydroxystyrene/t-butyl (meth)acrylate, or the like.

  本发明的目的是提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含一种在分辨率、热稳定性和储 存稳定性方面都很出色的辐射敏感酸发生器，它能抑制驻波引起的线宽波动和图案轮廓的恶化， 并能产生在纳米边缘粗糙度和 LEF 方面都有所改善的抗蚀图案。辐射敏感树脂组合物的特征在于 (A) 辐射敏感酸发生器，包括：锍盐化合物，如 2,4,6-三甲基二苯基锍 2,4-二氟苯磺酸盐、2,4,6-三甲基二苯基锍 4-三氟甲基苯磺酸盐或类似物；以及磺酰亚胺化合物。组合物最好还包括 (B) 一种树脂，其类型为 4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/（甲基）丙烯酸丁酯或类似物。
• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20020090569A1

  公开（公告）日：2002-07-11

  A radiation-sensitive resin composition comprising (A) a photoacid generator such as 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluorobenzenesulfonate or 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate and (B) a resin having an acetal structure typified by a poly(p-hydroxystyrene) resin in which a part of hydrogen atoms of phenolic hydroxyl groups have been replaced by 1-ethoxyethyl groups, 1-ethoxyethyl groups and t-butoxycarbonyl groups, or 1-ethoxyethyl groups and t-butyl groups. The resin composition is sensitive to deep ultraviolet rays and charged particles such as electron beams, exhibits excellent resolution performance and pattern shape-forming capability, and suppresses a nano-edge roughness phenomenon to a minimal extent.

  一种辐射敏感树脂组合物，包括(A)光酸发生器，如 2,4,6-三甲基二苯基锍 2,4-二氟苯磺酸盐或 2,4、(B) 具有缩醛结构的树脂，例如聚（对羟基苯乙烯）树脂，其中酚羟基的部分氢原子被 1-乙氧基乙基、1-乙氧基乙基和叔丁氧基羰基或 1-乙氧基乙基和叔丁基取代。这种树脂组合物对深紫外线和带电粒子（如电子束）敏感，具有优异的分辨性能和图案成型能力，并能在最小程度上抑制纳米边缘粗糙度现象。