合成了各种带有附加电子给体胺氧化还原中心的
吲哚烯
方酸菁
染料,并对它们的氧化还原
化学进行了研究。循环伏安法,光谱电
化学法和DFT计算法的结合已用于表征单,双以及在一种情况下的三级配分的电子结构。由于
方酸桥的氧化还原电势较低,所有的单阳离子仍然保留着类似花菁的,离域的特征,因此是Robin-Day III类的化合物。因此,我们通过使用
吲哚烯酸
方酸部分作为两个供电子胺氧化还原中心之间的非常富电子的桥,从而激发了其他氧化还原中心之间的强耦合,扩展了先前对有机混合价体系的研究。我们合成了TA3在三芳基胺的氧化还原中心之间具有26个键的N–N距离,并且据我们所知是最长的双(三芳基胺)自由基阳离子被完全离域。我们进一步表明,通过用二
氰基亚甲基取代方环氧原子来改变
方酸染料的对称性对单阳离子的光学性质具有直接影响。在使用药物的情况下,事实证明,能量上最稳定的二茴香胺取代的
方酸是反
铁磁耦合的开壳单重态。