4-(tert-butyl)-2,6-diisopropylaniline | 143783-78-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-(tert-butyl)-2,6-diisopropylaniline
• 英文别名: 2,6-diisopropyl-4-tert-butylaniline；4-tert-butyl-2,6-diisopropylaniline；4-tert-Butyl-2,6-di(propan-2-yl)aniline
• CAS: 143783-78-2
• 化学式: C₁₆H₂₇N
• 分子量: 233.397
• InChiKey: PXBQVCDVWOKOMP-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  293.2±19.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.902±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.2
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.62
• 拓扑面积：
  26
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-(tert-butyl)-2,6-diisopropylaniline 在 氯 作用下， 以98.2%的产率得到4-tert-butyl-2,6-diisopropylphenyl isocyanate
  参考文献：
  名称：

  4-substituted bis(2,6-diisopropylphenyl)-carbodiimides, their

  摘要：

  4,4'-二取代双(2,6-二异丙基苯基)碳二亚胺的化学式（I），其中R是1-甲基-1-苯乙基，苯氧基或叔丁基。一种制备它们的方法，它们可用作稳定剂，防止含酯基的聚加成和聚缩合产物的水解降解，并且新型的4-(1-甲基-1-苯乙基)-2,6-二异丙基-4-苯氧基-2,6-二异丙基和4-叔丁基-2,6-二异丙基苯基异氰酸酯可用于它们的制备。

  公开号：

  US05532414A1
• 作为产物：
  描述：

  氯代叔丁烷 、 2,6-二异丙基苯胺 在 aluminum (III) chloride 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以63%的产率得到4-(tert-butyl)-2,6-diisopropylaniline
  参考文献：
  名称：

  金属-配体协同催化中的四核锶和钡氧化硅/酰胺簇

  摘要：

  的一锅反应-2,6-我镨2 -苯胺（DIPP-NH 2）与（ME 2的SiO）3和Sr [N（森达3）2 ] 2（SRN'' 2 ）得到由以下组成的四核簇四个阴离子[OSiMe 2 N-DIPP] 2–和四个Sr 2+离子各自被一个THF配体溶剂化。通过胺和金属的变化研究了该方法的一般适用性。具有较小取代基的苯胺导致不溶的未表征的配位聚合物，而体积较大的苯胺产生了无法纯化的可溶性产物混合物。伯烷基胺均未产生可分离的产物。在DIPP‐NH 2的对位引入t Bu基团然而，给出了具有增加的溶解度的同构簇。用钡可以获得类似的簇。发现Sr和Ba簇均是用于多种转化的活性催化剂：分子内烯烃加氢胺化，烯烃疏水化，吡啶硼氢化，吡啶氢化硅烷化和烯烃氢化硅烷化。Ba催化剂通常比Sr催化剂更具活性。对位的t Bu取代基也具有加速作用，这可能是由于溶解度提高所致。

  DOI：

  10.1002/ejic.201800231

文献信息

• [EN] PROCESS FOR THE ALKYLATION OF ARYLAMINES<br/>[FR] PROCÉDÉ POUR L'ALKYLATION D'ARYLAMINES
  申请人：LONZA AG

  公开号：WO2011012300A1

  公开（公告）日：2011-02-03

  The present invention which provides an in situ process for preparing of a catalytically active complex for the alkylation of arylamines, a catalytically active complex mixture prepared by said process, a method for separately preparing a defined catalytically active complex out of the mixture of said in situ formed catalytically active complex, the use of said in situ or separately prepared catalytically active complex for the alkylation of arylamines, and a process in the alkylation of arylamines by using said in situ or separately prepared catalytically active complex and recycling said catalytically active complex in the reaction.

  本发明提供了一种原位制备催化活性复合物的方法，用于芳胺烷基化反应，该方法制备的催化活性复合物混合物，一种从所述原位形成的催化活性复合物混合物中单独制备定义的催化活性复合物的方法，使用所述原位或单独制备的催化活性复合物用于芳胺烷基化反应，以及通过使用所述原位或单独制备的催化活性复合物在反应中循环再生所述催化活性复合物的芳胺烷基化反应过程。
• BENZAMIDE DERIVATIVE COMPOUND, METHOD FOR PREPARING SAME, AND PHARMACEUTICAL COMPOSITION FOR TREATING OR PREVENTING INFLAMMATORY DISEASE CONTAINING SAME AS ACTIVE INGREDIENT
  申请人：SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION

  公开号：US20200339534A1

  公开（公告）日：2020-10-29

  The present invention relates to a benzamide derivative compound, a method for preparing the same, and a pharmaceutical composition for treating or preventing an inflammatory disease containing the same as an active ingredient. The benzamide derivative compound according to the present invention inhibits the expression of PDE4 and regulates the expression of an inflammatory disease-related substance such as IL-4 (interleukin-4), IL-5 (interleukin-4), IFN-γ (interferon-γ), IL-17 (interluekin-17), IgE (immunoglobulin E), and TNF-α (tumor necrosis factor-α), and thus may be utilized as a pharmaceutical composition for treating or preventing an inflammatory disease.

  本发明涉及一种苯甲酰胺衍生物化合物，其制备方法以及用作治疗或预防炎症性疾病的药物组合物，其中该苯甲酰胺衍生物化合物抑制PDE4的表达并调节炎症性疾病相关物质的表达，例如IL-4（白细胞介素-4），IL-5（白细胞介素-5），IFN-γ（干扰素-γ），IL-17（白细胞介素-17），IgE（免疫球蛋白E）和TNF-α（肿瘤坏死因子-α），因此可以用作治疗或预防炎症性疾病的药物组合物的活性成分。
• Verfahren zur Herstellung von 4-substituierten 2,6-Dialkylanilinen
  申请人：LONZA AG

  公开号：EP0492473A1

  公开（公告）日：1992-07-01

  Es wird ein neues Verfahren zur Herstellung von 4-substituierten 2,6-Dialkylanilinen der allgemeinen Formel beschrieben. Dazu wird ein 2,6-Dialkylanilin mit α-Methylstyrol, mit Diisobutylen oder mit Isobuten in Gegenwart eines Katalysators umgesetzt.

  一种制备通式为 4-取代的 2,6-二烷基苯胺的新工艺 的新工艺。为此，2,6-二烷基苯胺在催化剂存在下与α-甲基苯乙烯、二异丁烯或异丁烯反应。
• Neue Bis-(4-substituierte-2,6-diisopropyl-phenyl)-carbodiimide, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung sowie die zu ihrer Herstellung verwendbaren 4-substituierten, 2,6-Diisopropyl-phenylisocyanate
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0597382A1

  公开（公告）日：1994-05-18

  Gegenstände der Erfindung sind neue 4,4'-disubstituierte Bis-(2,6-diisopropyl-phenyl)-carbodiimide der Formel (I) in der R einen 1-Methyl-1-phenyl-ethyl-, einen Phenoxy- oder einen tert.-Butylrest bedeutet, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Stabilisatoren gegen den hydrolytischen Abbau von Estergruppen enthaltenden Polyadditions- und Polykondensationsprodukten sowie die zu ihrer Herstellung verwendbaren neuen 4-(1-Methyl-1-phenyl-ethyl)-2,6-diisopropyl-, 4-Phenoxy-2,6-diisopropyl- und 4-tert.-Butyl-2,6-diisopropyl-phenylisocyanate.

  本发明的目的是新的 4,4'-二取代双-(2,6-二异丙基苯基)碳二亚胺，其式为 (I) 其中 R 表示 1-甲基-1-苯基-乙基、苯氧基或叔丁基。这些化合物可用于制备新型 4-(1-甲基-1-苯基-乙基)-2,6-二异丙基-、4-苯氧基-2,6-二异丙基-和 4-叔丁基-2,6-二异丙基-苯基异氰酸酯。
• Composition for forming a resist upper-layer film and method for producing a semiconductor device using the composition
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10042258B2

  公开（公告）日：2018-08-07

  This composition for forming an extreme-ultraviolet (EUV) or electron-beam upper-layer resist film including (a) a polymer (P) and (b) a solvent, the solvent containing 1 to 13 mass % of a C4-12 ketone compound with respect to the entire solvent, is used in the lithography process of a procedure for manufacturing a semiconductor device. Without needing to be intermixed with a resist, and particularly on the occasion of EUV exposure, the composition for forming an EUV or electron-beam upper-layer resist film blocks undesirable exposure light, e.g., ultraviolet (UV) or deep ultraviolet (DUV) rays, and selectively transmits only the EUV rays, and can be developed using a developing solution after exposure.

  这种用于形成极紫外（EUV）或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物包括（a）聚合物（P）和（b）溶剂，溶剂中的C4-12酮化合物占整个溶剂的1-13质量％，用于半导体设备制造过程中的光刻工艺。这种用于形成 EUV 或电子束上层抗蚀剂薄膜的组合物无需与抗蚀剂混合，尤其是在进行 EUV 曝光时，可阻挡不希望的曝光光（例如紫外线 (UV) 或深紫外线 (DUV)），并选择性地只透射 EUV 射线，曝光后可使用显影液进行显影。