1,4-bis(1-ethoxyethoxy)benzene | 1706-74-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 1,4-bis(1-ethoxyethoxy)benzene
• 英文别名: 1,4-bis-(1-ethoxy-ethoxy)-benzene；1,4-Bis-(1-aethoxy-aethoxy)-benzol；1,4-Bis-<(1-ethoxy)ethoxy>benzol
• CAS: 1706-74-7
• 化学式: C₁₄H₂₂O₄
• 分子量: 254.326
• InChiKey: CEIXVPPHRZXTGZ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  36.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,4-bis(1-ethoxyethoxy)benzene 在 硫酸 、 叔丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 、 水 为溶剂， 反应 4.5h， 生成 2-phenyl-1-(2,5-dihydroxyphenyl)ethanol
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of 1,4-Phenanthrenequinones via Stannic Chloride-Induced Cyclizations

  摘要：

  DOI：

  10.1021/jo981352f
• 作为产物：
  描述：

  乙烯基乙醚 、 对苯二酚 生成 1,4-bis(1-ethoxyethoxy)benzene
  参考文献：
  名称：

  Kalabina et al., 1958, # 9, p. 39,41, 43

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Optically active compound and photosensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20030211421A1

  公开（公告）日：2003-11-13

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1): A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  一种光活性化合物与光敏剂结合使用，由以下公式（1）表示： A −[( J ) m −( X-Pro )] n (1) 其中，A代表至少包括一种从烃基和杂环基中选择的疏水基的疏水单元，J代表连接基团，X-Pro代表由光照可去除的保护基团Pro保护的亲水基团，m代表0或1，n代表不少于1的整数。 保护基团Pro可以与光敏剂（特别是光酸发生剂）一起通过光照可去除，也可以是疏水保护基团。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光源具有很高的敏感性，用于光刻应用，因此，该光活性化合物有利于形成具有高分辨率的图案。
• Quinoid Systems as Organic Semiconductors
  申请人：Berens Ulrich

  公开号：US20090261321A1

  公开（公告）日：2009-10-22

  A semiconducting layer comprising a non-polymeric quinoid heteroacene compound of the formula (I) wherein X stands for O, S or NR, each of R, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 being independently selected from hydrogen and an organic residue, or 2 or more thereof together forming one or more annealed rings, which may be substituted or unsubstituted, carbocyclic or helerocyclic, aromatic, quinoid or aliphatic, may be used e.g. for the manufacture of a diode, an organic field effect transistor, an organic thin film transistor, or a device containing a diode and/or an organic field effect transistor and/or organic thin film transistor.

  一种半导体层，包括式(I)的非聚合物醌类杂芳烃化合物，其中X代表O，S或NR，R，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，R8中的每一个都是独立选择的氢原子或有机残基，或者其中2个或2个以上在一起形成一个或多个退火环，这些环可以是取代或未取代的，碳环或杂环，芳香性，醌类或脂肪族的，例如可用于制造二极管、有机场效应晶体管、有机薄膜晶体管或包含二极管和/或有机场效应晶体管和/或有机薄膜晶体管的器件。
• OPTICALLY ACTIVE COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：Kansai Research Institute, Inc.

  公开号：EP1375463A1

  公开（公告）日：2004-01-02

  A photoactive compound is used in combination with a photosensitizer, represented by the following formula (1):         A-[(J)m-(X-Pro)]n     (1)    wherein A represents a hydrophobic unit comprising at least one kind of hydrophobic groups selected from a hydrocarbon group and a heterocyclic group, J represents a connecting group, X-Pro represents a hydrophilic group protected by a protective group Pro which is removable by light exposure, m represents 0 or 1, and n represents an integer of not less than 1. The protective group Pro may be removable by light exposure in association with the photosensitizer (especially, a photo acid generator), or may be a hydrophobic protective group. The hydrophilic group may be a hydroxyl group or a carboxyl group. The photoactive compound has high sensitivity to a light source of short wavelength beams, for resist application, therefore, the photoactive compound is advantageously used for forming a pattern with high resolution.

  光活性化合物与光敏剂结合使用，光敏剂由下式（1）表示： A-[(J)m-(X-Pro)]n (1) 其中 A 代表疏水单元，包括至少一种选自烃基和杂环基的疏水基团；J 代表连接基团；X-Pro 代表亲水基团，该亲水基团受保护基团 Pro 的保护，该保护基团可通过光照去除；m 代表 0 或 1；n 代表不小于 1 的整数。 保护基 Pro 可以通过与光敏剂（特别是光酸发生器）一起进行光照射而去除，也可以是疏水保护基。亲水基团可以是羟基或羧基。光活性化合物对短波长光束的光源具有很高的灵敏度，因此在抗蚀剂应用中，光活性化合物可用于形成具有高分辨率的图案。
• Kalabina et al., 1958, # 9, p. 39,40, 41
  作者：Kalabina et al.

  DOI：——

  日期：——
• QUINOID SYSTEMS AS ORGANIC SEMICONDUCTORS
  申请人：BASF SE

  公开号：EP2005497B1

  公开（公告）日：2014-10-08