N-cyclohexyl-carbamate de succinimidyle | 80672-61-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯烷类
• 英文名称: N-cyclohexyl-carbamate de succinimidyle
• 英文别名: (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) N-cyclohexylcarbamate
• CAS: 80672-61-3
• 化学式: C₁₁H₁₆N₂O₄
• 分子量: 240.259
• InChiKey: PEJKNOOOHMCWTM-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  159-160 °C
• 密度：
  1.29±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.73
• 拓扑面积：
  75.7
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-cyclohexyl-carbamate de succinimidyle 在 亚硝酰氯 作用下， 以 吡啶 为溶剂， 反应 1.0h， 以80%的产率得到N-cyclohexyl N-nitrosocarbamate de succinimidyle
  参考文献：
  名称：

  Oiry; Martinez; Imbach, European Journal of Medicinal Chemistry, 1981, vol. 16, # 6, p. 539 - 543

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  N-羟基丁二酰亚胺 、 环己基异氰酸酯 以 吡啶 为溶剂， 反应 24.0h， 以90%的产率得到N-cyclohexyl-carbamate de succinimidyle
  参考文献：
  名称：

  Oiry; Martinez; Imbach, European Journal of Medicinal Chemistry, 1981, vol. 16, # 6, p. 539 - 543

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Resist composition
  申请人：Sumitomo Chemical Company, Limited

  公开号：US06245478B1

  公开（公告）日：2001-06-12

  A resist composition exhibiting an improved profile performance without impairing the resolution, the sensitivity, etc. which comprises a binder component; a radiation-sensitive component; and a succinimide compound represented by the following formula (I): wherein Q1 represents an alkyl group which may be optionally substituted with alkoxy, halogen or nitro, an alicyclic hydrocarbon residue, an aryl group, or an aralkyl group; and Q2, which may be the same as or different from Q1, represents hydrogen, an alkyl group which may be optionally substituted with alkoxy, halogen or nitro, an alicyclic hydrocarbon residue, an aryl group, or an aralkyl group.

  一种抗蚀组合物，表现出改善的轮廓性能，而不损害分辨率、灵敏度等，包括粘合剂成分；辐射敏感成分；以及由以下式（I）表示的琥珀酰亚胺化合物：其中Q1表示一种可以选择性地用烷氧基、卤素或硝基取代的烷基、脂环烃残基、芳基或芳基烷基；而Q2，可以与Q1相同或不同，表示氢、可以选择性地用烷氧基、卤素或硝基取代的烷基、脂环烃残基、芳基或芳基烷基。
• METHOD OF FORMING PATTERN AND COMPOSITION FOR FORMING OF ORGANIC THIN-FILM FOR USE THEREIN
  申请人：Shimizu Daisuke

  公开号：US20100233635A1

  公开（公告）日：2010-09-16

  A method for forming a pattern contains (1) a step of forming an underlayer film containing (A) a radiation-sensitive acid generator capable of generating an acid upon exposure to radiation rays or (B) a radiation-sensitive base generator capable of generating a base upon exposure to radiation rays on a substrate; (2) a step of irradiating the underlayer film with radiation rays through a mask with a predetermined pattern to obtain an exposed underlayer film portion having been selectively exposed through the predetermined pattern; (3) a step of forming (C) an organic thin film on the underlayer film so as to attain chemical bonding of the exposed underlayer film portion with the organic thin-film formed on the exposed underlayer film portion; and (4) a step of removing the organic thin film formed on areas of the underlayer film other than the exposed underlayer film portion.

  一种形成图案的方法包括：（1）在基板上形成一个底层薄膜，该底层薄膜包含（A）一种辐射敏感的酸发生剂，能够在辐射射线的作用下产生酸，或者（B）一种辐射敏感的碱发生剂，能够在辐射射线的作用下产生碱；（2）通过一个预定图案的掩模，用辐射射线照射底层薄膜，以获得已通过预定图案选择性暴露的底层薄膜部分；（3）在底层薄膜上形成一层有机薄膜，以实现暴露的底层薄膜部分与形成在暴露的底层薄膜部分上的有机薄膜的化学键合；（4）去除除暴露的底层薄膜部分外的底层薄膜区域上形成的有机薄膜。
• PHOTOCURABLE COMPOSITION
  申请人：Cemedine Co., Ltd.

  公开号：EP3023462A1

  公开（公告）日：2016-05-25

  A rapid-curing photocurable composition exerting excellent adhesion performance even with a low cumulative light quantity and being curable in a short time, thus ensuring excellent workability, is provided. A photocurable composition is made to includes:(A) a crosslinkable silicon group-containing organic polymer; (B) a photobase generator; and (C1) a silicon compound having an Si-F bond and/or (C2) one or more fluorine-based compounds selected from the group consisting of boron trifluoride, a boron trifluoride complex, a fluorinating agent, and an alkali metal salt of a polyfluoro compound. The (B) photobase generator is preferably a photolatent tertiary amine.

  本发明提供了一种快速固化光固化组合物，该组合物即使在累积光量较低的情况下也能发挥出色的粘合性能，并能在短时间内固化，从而确保出色的施工性能。光固化组合物包括：(A) 可交联的含硅基团的有机聚合物；(B) 光基发生器；以及 (C1) 具有 Si-F 键的硅化合物和/或 (C2) 一种或多种氟基化合物，这些化合物选自由三氟化硼、三氟化硼络合物、氟化剂和多氟化合物的碱金属盐组成的组。(B)光碱发生器最好是具有光惰性的叔胺。
• Convenient Methods for Syntheses of Active Carbamates, Ureas and Nitrosoureas Using N,N′-disuccinimido Carbonate (DSC)
  作者：Kazuyoshi Takeda、Yoshie Akagi、Atsuko Saiki、Toshiko Tsukahara、Haruo Ogura

  DOI：10.1016/s0040-4039(00)85958-4

  日期：1983.1
• OIRY, J.;MARTINEZ, J.;IMBACH, J. -L.;WINTERNITZ, F., EUR. J. MED. CHEM.-CHIM. THER., 1981, 16, N 6, 539-543
  作者：OIRY, J.、MARTINEZ, J.、IMBACH, J. -L.、WINTERNITZ, F.

  DOI：——

  日期：——