4-n-pentylcyclohexylmercaptan | 631897-79-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醇
• 英文名称: 4-n-pentylcyclohexylmercaptan
• 英文别名: 4-Pentylcyclohexane-1-thiol
• CAS: 631897-79-5
• 化学式: C₁₁H₂₂S
• 分子量: 186.362
• InChiKey: QBWCKLHTSPGPNW-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  253.8±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.89±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.7
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  1
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4-n-pentylcyclohexylmercaptan 、 二氯甲烷 在 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 2.5h， 生成 formaldehyde bis(4-n-pentylcyclohexylthio)acetal
  参考文献：
  名称：

  Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  含有长链烷基环己基基团的磺酰基重氮甲烷化合物是一种新颖且有用的光酸发生剂。包含这些化合物的化学增强型抗蚀组合物适用于微细加工，因为具有许多优点，包括提高分辨率、改善焦点宽度、最小化线宽变化或形状退化，即使在长期PED后也是如此，最小化涂层、显影和剥离后残留的碎屑，并在显影后改善图案轮廓。

  公开号：

  US20030224298A1
• 作为产物：
  描述：

  4-n-pentylcyclohexyl bromide 在 magnesium 、 sulfur 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 14.0h， 以34%的产率得到4-n-pentylcyclohexylmercaptan
  参考文献：
  名称：

  Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  含有长链烷基环己基基团的磺酰基重氮甲烷化合物是一种新颖且有用的光酸发生剂。包含这些化合物的化学增强型抗蚀组合物适用于微细加工，因为具有许多优点，包括提高分辨率、改善焦点宽度、最小化线宽变化或形状退化，即使在长期PED后也是如此，最小化涂层、显影和剥离后残留的碎屑，并在显影后改善图案轮廓。

  公开号：

  US20030224298A1

文献信息

• US6713612B2
  申请人：——

  公开号：US6713612B2

  公开（公告）日：2004-03-30
• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030224298A1

  公开（公告）日：2003-12-04

  Sulfonyldiazomethane compounds containing a long-chain alkylcyclohexyl group are novel and useful as photoacid generators. Chemical amplification type resist compositions comprising the same are suited for microfabrication because of many advantages including improved resolution, improved focus latitude, minimized line width variation or shape degradation even on long-term PED, minimized debris left after coating, development and peeling, and improved pattern profile after development.

  含有长链烷基环己基基团的磺酰基重氮甲烷化合物是一种新颖且有用的光酸发生剂。包含这些化合物的化学增强型抗蚀组合物适用于微细加工，因为具有许多优点，包括提高分辨率、改善焦点宽度、最小化线宽变化或形状退化，即使在长期PED后也是如此，最小化涂层、显影和剥离后残留的碎屑，并在显影后改善图案轮廓。