γ-L-Glutamyl-γ-aminobuttersaeure | 3183-72-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: γ-L-Glutamyl-γ-aminobuttersaeure
• 英文别名: gamma-Glutamyl-gamma-aminobutyrate；(2S)-2-azaniumyl-5-(3-carboxypropylamino)-5-oxopentanoate
• CAS: 3183-72-0
• 化学式: C₉H₁₆N₂O₅
• 分子量: 232.236
• InChiKey: MKYPKZSGLSOGLL-LURJTMIESA-N

物化性质

• 熔点：
  189-190 °C
• 沸点：
  591.0±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.316±0.06 g/cm3(Predicted)
• 物理描述：
  Solid

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -4.1
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.67
• 拓扑面积：
  130
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 海关编码：
  2924199090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  γ-L-Glutamyl-γ-aminobuttersaeure 在 盐酸羟胺 、 sodium maleate 、 magnesium chloride 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 0.33h， 生成 L-谷氨酸gamma-单羟肟酸 、 4-氨基丁酸
  参考文献：
  名称：

  γ-谷氨酰转肽酶对药物的潜伏作用。

  摘要：

  L-噻唑烷-4-羧酸，4-氨基丁酸，1-氨基环戊烷羧酸，2-氨基苯酚和对氟-L-苯丙氨酸的N-γ-谷氨酰基衍生物（化合物6、8、9、10和使用间苯二甲酰谷氨酸酐合成12）。确定了它们被γ-谷氨酰转肽酶（γ-GT）切割的相对速率，以便评估在某些病理条件下该酶选择性释放的可能性。化合物6、8和9不易被γ-GT溶剂化，但是化合物10和12以及3-和4-氨基苯酚的N-γ-谷氨酰化衍生物易于裂解。

  DOI：

  10.1021/jm00351a003
• 作为产物：
  描述：

  5-氧代-1-[(对甲苯基)磺酰基]-L-脯氨酸 在 盐酸 、 氨 、 sodium amide 、 三乙胺 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 苯 为溶剂， 生成 γ-L-Glutamyl-γ-aminobuttersaeure
  参考文献：
  名称：

  1341. L-谷氨酰基-γ-氨基丁酸及相关化合物

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9650007305

文献信息

• [EN] AMINO ACID DERIVATIVES AND THEIR USE AS FLAVOR MODIFIERS<br/>[FR] DÉRIVÉS D'ACIDES AMINÉS ET LEUR UTILISATION EN TANT QUE MODIFICATEURS DE GOÛT
  申请人：FIRMENICH & CIE

  公开号：WO2021209345A1

  公开（公告）日：2021-10-21

  The present invention provides derivatives of glutamine of formula (I) and derivatives of arginine of formula (II), and the use of such compounds as flavor modifiers. The invention further provides the use of such derivatives of glutamine and arginine to enhance the salty and umami taste of ingestible compositions as ingestible compositions that include such derivatives of glutamine and arginine and bulking agents.

  本发明提供了公式(I)的谷氨酰衍生物和公式(II)的精氮酸衍生物，以及将这些化合物用作风味调节剂的用途。该发明进一步提供了利用这些谷氨酰和精氮酸衍生物增强可摄入组合物的咸味和鲜味的用途，作为包含这些谷氨酰和精氮酸衍生物以及增稠剂的可摄入组合物。
• CONJUGATE-BASED ANTIFUNGAL AND ANTIBACTERIAL PRODRUGS
  申请人：Bapat Abhijit S.

  公开号：US20140364595A1

  公开（公告）日：2014-12-11

  The invention provides conjugate-based antifungal or antibacterial prodrugs formed by coupling at least one anti-fungal agent or antibacterial agent with at least one linker and/or carrier. The prodrugs are of formula: (i) (AFA) m -X-(L) n ; (ii) [(AFA) m′ -X] p -L; (iii) AFA-[X-(L) n′ ] q ; or (iv) (AFA) m″ -X, wherein: AFA is an antifungal agent or an antibacterial agent; L is a carrier; X is a linker; m ranges from 1 to 10; n ranges from 2 to 10; m′ is 1 to 10; p is 1 to 10; n′ is 1 to 10; and q is 1 to 10, provided that q′ and n are not both 1; and m″ is 1 to 10. The invention also provides nanoparticles comprising the conjugate-based prodrugs. Additionally, the invention also provides non-conjugated antifungal and antibacterial agents in the form of nanoparticles.

  该发明提供了由至少一种抗真菌剂或抗菌剂与至少一种连接剂和/或载体偶联形成的基于共轭的抗真菌或抗菌前药。这些前药的公式为：(i) (AFA) m -X-(L) n ; (ii) [(AFA) m′ -X] p -L; (iii) AFA-[X-(L) n′ ] q ; 或 (iv) (AFA) m″ -X，其中：AFA是抗真菌剂或抗菌剂；L是载体；X是连接剂；m范围从1到10；n范围从2到10；m′为1到10；p为1到10；n′为1到10；q为1到10，前提是q'和n不同时为1；m″为1到10。该发明还提供了包含基于共轭的前药的纳米粒子。此外，该发明还提供了以纳米粒子形式的非共轭抗真菌和抗菌剂。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING (CMP) COMPOSITION, METHOD AND SYSTEM FOR COBALT-CONTAINING SUBSTRATE
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：EP3257910A1

  公开（公告）日：2017-12-20

  Chemical mechanical polishing (CMP) compositions, methods and systems for polish cobalt or cobalt-containing substrates are provided. The CMP compositions comprise α-alanine, abrasive particles, a salt of phosphate, corrosion inhibitor, oxidizer and water. The cobalt chemical mechanical polishing compositions provide high removal rate of Co as well as very high selectivity of Co film vs. dielectric film, such as TEOS, SixNy (with 1.0 < x <3.0, 1.33 < y <4.0), low-k, and ultra low-k films.

  提供了用于抛光钴或含钴基底的化学机械抛光（CMP）组合物、方法和系统。CMP 组合物由 α-丙氨酸、研磨颗粒、磷酸盐、缓蚀剂、氧化剂和水组成。钴化学机械抛光组合物具有很高的钴去除率，以及钴膜与介质膜（如 TEOS、SixNy（1.0 < x <3.0，1.33 < y <4.0）、低-k 和超低-k 膜）的极高选择性。
• ADDITIVES FOR BARRIER CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：EP3263667A1

  公开（公告）日：2018-01-03

  A barrier chemical mechanical planarization polishing composition is provided that includes suitable chemical additives. The suitable chemical additives are silicate compound and high molecular weight polymers/copolymers. There is also provided a chemical mechanical polishing method using the barrier chemical mechanical planarization polishing composition.

  提供了一种阻隔化学机械平面抛光组合物，其中包括合适的化学添加剂。合适的化学添加剂是硅酸盐化合物和高分子量聚合物/共聚物。还提供了一种使用阻隔化学机械平面抛光组合物的化学机械抛光方法。
• Additives for barrier chemical mechanical planarization
  申请人：Versum Materials US, LLC

  公开号：US10253216B2

  公开（公告）日：2019-04-09

  A barrier chemical mechanical planarization polishing composition is provided that includes suitable chemical additives. The suitable chemical additives are silicate compound and high molecular weight polymers/copolymers. There is also provided a chemical mechanical polishing method using the barrier chemical mechanical planarization polishing composition.

  提供了一种阻隔化学机械平面抛光组合物，其中包括合适的化学添加剂。合适的化学添加剂是硅酸盐化合物和高分子量聚合物/共聚物。还提供了一种使用阻隔化学机械平面抛光组合物的化学机械抛光方法。