1-(2,2,2-trichloroethyl)-4-chlorobenzene | 3883-14-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-(2,2,2-trichloroethyl)-4-chlorobenzene
• 英文别名: β,β,β-Trichlorethyl-p-chlorbenzol；2,2,2,-Trichlor-1-<4-chlor-phenyl>-ethan；1-Chloro-4-(2,2,2-trichloroethyl)benzene
• CAS: 3883-14-5
• 化学式: C₈H₆Cl₄
• 分子量: 243.948
• InChiKey: JBAZZQADYIIBMU-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  281.3±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.448±0.06 g/cm3(Predicted)
• 溶解度：
  可溶于丙酮（少量）、氯仿（少量）、DMSO（少量）、乙酸乙酯（少量）

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

安全信息

• 海关编码：
  2903999090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(2,2,2-trichloroethyl)-4-chlorobenzene 在 硫酸 作用下， 反应 8.0h， 以118 g的产率得到对氯苯乙酸
  参考文献：
  名称：

  一种苯乙酸化合物的制备方法

  摘要：

  本发明涉及化学合成领域，特别是涉及一种苯乙酸化合物的制备方法。本发明提供一种苯乙酸化合物的制备方法，所述苯乙酸化合物的结构式如式I所示，所述制备方法包括如下步骤：（1）重氮化加成反应：将式II化合物在含有偏二氯乙烯、酸、重氮化试剂、相转移催化剂和铜系催化剂的体系中反应生成式III化合物：（2）水解反应：将式III化合物在酸存在的条件下水解生成式I化合物。本发明所提供的制备方法原料简单易得、操作简便，原料成本低、反应条件温和、危险性低，无需使用价格高昂的贵金属催化剂和复杂的工业操作手段，产品质量稳定，因此宜于实现大规模工业化生产。

  公开号：

  CN107417509B
• 作为产物：
  描述：

  1,1-二氯乙烯 、 对氯苯胺 在 硫酸 、 甲基三辛基氯化铵 、 sodium nitrite 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 2.0h， 以366.4 g的产率得到1-(2,2,2-trichloroethyl)-4-chlorobenzene
  参考文献：
  名称：

  一种苯乙酸化合物的制备方法

  摘要：

  本发明涉及化学合成领域，特别是涉及一种苯乙酸化合物的制备方法。本发明提供一种苯乙酸化合物的制备方法，所述苯乙酸化合物的结构式如式I所示，所述制备方法包括如下步骤：（1）重氮化加成反应：将式II化合物在含有偏二氯乙烯、酸、重氮化试剂、相转移催化剂和铜系催化剂的体系中反应生成式III化合物：（2）水解反应：将式III化合物在酸存在的条件下水解生成式I化合物。本发明所提供的制备方法原料简单易得、操作简便，原料成本低、反应条件温和、危险性低，无需使用价格高昂的贵金属催化剂和复杂的工业操作手段，产品质量稳定，因此宜于实现大规模工业化生产。

  公开号：

  CN107417509B

文献信息

• Singlet vs Triplet Reactivity of Photogenerated α,<i>n</i>-Didehydrotoluenes
  作者：Chiara Pedroli、Davide Ravelli、Stefano Protti、Angelo Albini、Maurizio Fagnoni

  DOI：10.1021/acs.joc.7b00610

  日期：2017.7.7

  respectively, in the formation of triplet α,2- and α,4-DHTs, whose diradical reactivity led to both radical and polar products. On the other hand, irradiation of the meta-precursor led to the singlet α,3-DHT isomer. The latter showed a marked preference for the formation of polar products and this was rationalized, as supported by computational evidence, via the involvement of a zwitterionic species arising through

  α，n的反应性质子介质（有机/水混合物）中的β-二氢甲苯（DHTs）是通过计算和实验相结合的方法进行研究的。这些中间体是通过在（氯苄基）三甲基硅烷中发生的光诱导双消除过程生成的，并导致形成不同的产物分布，具体取决于测试的异构体。邻位和对位衍生物的辐射分别导致三重态α，2-和α，4-DHTs的形成，其双自由基反应性同时导致自由基和极性产物。另一方面，间亚前体的辐射导致单重态α，3-DHT异构体。后者对极性产物的形成表现出明显的偏爱，并且得到了计算证据的支持，这是合理的，
• Homolytic displacement at carbon
  作者：Peter Bougeard、B.Dass Gupta、Michael D. Johnson

  DOI：10.1016/s0022-328x(00)83473-7

  日期：1981.2

  Benzylbis(dimethylglyoximato)pyridinecobalt(III) reacts with bromotrichloromethane at from 50 to 90°C in chloroform to give good yields of trichloroethylbenzene, which are higher when imidazole is present in the reaction mixture. Methyl- and polymethyl-substituted benzylbis(dimethylglyximato)pyridinecobalt(III) complexes give higher yields of the corresponding trichloroethylarenes (85–90%), whereas

  苄基双（二甲基乙二酰肟基）吡啶钴（III）在50-90°C的氯仿中与溴三氯甲烷反应，可产生良好的三氯乙苯收率，当反应混合物中存在咪唑时，三氯乙苯的收率更高。甲基和多甲基取代的苄基双（二甲基甘氨酸）吡啶钴（III）配合物可提供较高的三氯乙基芳烃收率（85-90％），而4-氯苄基双（二甲基乙酰胺肟）吡啶钴（III）则收率较低，4-硝基苄基双（二甲基乙酰胺肟）吡啶钴当在反应过程中存在咪唑时，吡啶钴（III）仅生成4-硝基-三氯乙基芳烃。在苄基钴氧肟和三氯甲磺酰氯的加热下以及在钨灯通过全耐热装置的照射下，观察到类似的反应。
• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：——

  公开号：US20020009668A1

  公开（公告）日：2002-01-24

  A radiation-sensitive resin composition comprising an acid-labile group-containing resin and a photoacid generator is disclosed. The resin has a structure of the formula (1), 1 wherein R 1 represents a hydrogen atom, a monovalent acid-labile group, an alkyl group having 1-6 carbon atoms which does not have an acid-labile group, or an alkylcarbonyl group having 2-7 carbon atoms which does not have an acid-labile group, X 1 represents a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-4 carbon atoms, and R 2 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1-10 carbon atoms, or a linear or branched fluorinated alkyl group having 1-10 carbon atoms. The resin composition exhibits high transmittance of radiation, high sensitivity, resolution, and pattern shape, and is useful as a chemically amplified resist in producing semiconductors at a high yield.

  公开了一种辐射敏感的树脂组合物，包括一个含有酸敏感基团的树脂和一个光酸发生剂。该树脂的结构式为(1)，其中R1代表氢原子、一价酸敏感基团、不含酸敏感基团的1-6个碳原子的烷基或不含酸敏感基团的2-7个碳原子的烷基酰基，X1代表线性或支链的含有1-4个碳原子的氟化烷基，R2代表氢原子、含有1-10个碳原子的线性或支链烷基，或含有1-10个碳原子的线性或支链氟化烷基。该树脂组合物表现出辐射的高透过率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用于在高产率下生产半导体中的化学放大图案。
• Resist composition
  申请人：Kawaguchi Yasuhide

  公开号：US20050202345A1

  公开（公告）日：2005-09-15

  A resist composition which can easily form a resist pattern excellent in transparency for vacuum ultraviolet rays such as an F 2 excimer laser or the like and dry etching characteristics and further excellent in sensitivity, resolution, flatness, thermal resistance and the like, is provided. The resist composition, characterized by comprising (A) a fluorine-containing polymer having an acidic group blocked with a blocking group containing a cycloalkyl group, an organic group having one or more of cycloalkyl groups, a bicycloalkyl group or the like, (B) an acid generating compound capable of generating an acid by irradiation with a light, and (C) an organic solvent.

  提供了一种抗蚀性组合物，该组合物可以轻松形成透明度优异的抗真空紫外线（例如F2准分子激光器）或干法刻蚀特性，并且在灵敏度、分辨率、平整度、耐热性等方面也具有优异的抗蚀性图案。该抗蚀性组合物的特征在于包含（A）一种含有具有环烷基、一个或多个环烷基或双环烷基等有机基团的阻断基的酸性基团的氟含量高的聚合物，（B）一种能够通过光辐射产生酸的酸发生化合物，以及（C）一种有机溶剂。
• 1-dimethylcarbamoyl-3-substituted-5-substituted-1H-1,2,4-triazoles
  申请人：SHELL INTERNATIONALE RESEARCH MAATSCHAPPIJ B.V.

  公开号：EP0337815A1

  公开（公告）日：1989-10-18

  Certain novel 1-dimethylcarbamoyl-3-substituted-5-­substituted-1H-1,2, 4-triazoles are insecticidally active and can be used, optionally in compositions also containing agronomically acceptable diluent or carrier, to combat insects, especially insects of the order Homoptera.

  某些新型 1-二甲基氨基甲酰基-3-取代-5-取代-1H-1,2,4-三唑具有杀虫活性，可用于防治昆虫，特别是同翅目昆虫。