1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl chloroacetate | 24499-60-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl chloroacetate
• 英文别名: 1,1,1,3,3,3-Hexafluorisopropylchloracetat；1,1,1,3,3,3-Hexafluoropropan-2-yl 2-chloroacetate
• CAS: 24499-60-3
• 化学式: C₅H₃ClF₆O₂
• 分子量: 244.521
• InChiKey: ZYJJUWKSBFMOMC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  109-112 °C
• 密度：
  1.536±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl chloroacetate 在 sodium 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 60.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  羧酰胺的二烷氧基次膦酰基取代的烯醇

  摘要：

  异氰酸酯XNCO（例如X = p -An，Ph，i -Pr）与（MeO）2 P（O）CH 2 CO 2 R [R = Me，CF 3 CH 2，（CF 3）2 CH]的反应得到15个正式的“酰胺”（MeO）2 P（O）CH（CO 2 R）CONHX（6/7），以及（CF 3 CH 2 O）2 P（O）CH 2 CO 2 R [R = Me ，CF 3 CH 2 ]他们给8个类似的酰胺/烯醇17 / 18。X射线晶体学的两个6/7，R =（CF 3）2 CH系统显示Z-烯醇的酰胺结构（MeO）2 P（O）C（CO 2 CH（CF 3）2）C（OH）NHX在图7中，OH为顺式且氢键合至OP（OMe）2基团。R ＝ Me，CF 3 CH 2的固体膦酸酯具有酰胺6结构。用1 H，13 C，19 F和31对溶液中的结构进行了研究1 H NMR谱。它们在很大程度上取决于取代基R和溶剂，在某种程度上取决

  DOI：

  10.1021/jo0710679
• 作为产物：
  描述：

  六氟异丙醇 、 氯乙酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 以61%的产率得到1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl chloroacetate
  参考文献：
  名称：

  羧酰胺的二烷氧基次膦酰基取代的烯醇

  摘要：

  异氰酸酯XNCO（例如X = p -An，Ph，i -Pr）与（MeO）2 P（O）CH 2 CO 2 R [R = Me，CF 3 CH 2，（CF 3）2 CH]的反应得到15个正式的“酰胺”（MeO）2 P（O）CH（CO 2 R）CONHX（6/7），以及（CF 3 CH 2 O）2 P（O）CH 2 CO 2 R [R = Me ，CF 3 CH 2 ]他们给8个类似的酰胺/烯醇17 / 18。X射线晶体学的两个6/7，R =（CF 3）2 CH系统显示Z-烯醇的酰胺结构（MeO）2 P（O）C（CO 2 CH（CF 3）2）C（OH）NHX在图7中，OH为顺式且氢键合至OP（OMe）2基团。R ＝ Me，CF 3 CH 2的固体膦酸酯具有酰胺6结构。用1 H，13 C，19 F和31对溶液中的结构进行了研究1 H NMR谱。它们在很大程度上取决于取代基R和溶剂，在某种程度上取决

  DOI：

  10.1021/jo0710679

文献信息

• Topcoat compositions and pattern-forming methods
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US10042259B2

  公开（公告）日：2018-08-07

  Topcoat compositions comprise: a matrix polymer; a surface active polymer comprising a polymerized unit formed from a monomer of the following general formula (I): wherein: R1 represents H, F, methyl or fluorinated methyl; R2 represents optionally substituted C1 to C8 alkylene or optionally substituted C1 to C8 fluoroalkylene, optionally comprising one or more heteroatom; R3 represents H, F, optionally substituted C1 to C10 alkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; R4 represents optionally substituted C1 to C8 alkyl, optionally substituted C1 to C8 fluoroalkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; X represents O, S or NR5, wherein R5 is chosen from hydrogen and optionally substituted C1 to C5 alkyl; and a is 0 or 1; and a solvent. Also provided are coated substrates and pattern-forming methods which make use of the topcoat compositions. The invention has particular applicability in photolithographic processes as a photoresist topcoat layer in the manufacture of semiconductor devices.

  面漆组合物包括：基质聚合物；表面活性聚合物，该聚合物由以下通式 (I) 的单体聚合而成： 其中R1 代表 H、F、甲基或氟化甲基； R2 代表任选取代的 C1 至 C8 亚烷基或任选取代的 C1 至 C8 氟亚烷基，任选包含一个或多个杂原子； R3 代表 H、F、任选取代的 C1 至 C10 烷基或任选取代的 C5 至 C15 芳基，任选包含一个或多个杂原子；R4 代表任选取代的 C1 至 C8 烷基、任选取代的 C1 至 C8 氟烷基或任选取代的 C5 至 C15 芳基，任选包含一个或多个杂原子；X 代表 O、S 或 NR5，其中 R5 选自氢和任选取代的 C1 至 C5 烷基；a 为 0 或 1；以及溶剂。本发明还提供了涂层基底和图案形成方法，这些基底和方法都使用了本发明的面漆组合物。本发明特别适用于光刻工艺，作为制造半导体器件的光刻胶面涂层。
• TOPCOAT COMPOSITIONS AND PATTERN-FORMING METHODS
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20180118970A1

  公开（公告）日：2018-05-03

  Topcoat compositions comprise: a matrix polymer; a surface active polymer comprising a polymerized unit formed from a monomer of the following general formula (I): wherein: R 1 represents H, F, methyl or fluorinated methyl; R 2 represents optionally substituted C1 to C8 alkylene or optionally substituted C1 to C8 fluoroalkylene, optionally comprising one or more heteroatom; R 3 represents H, F, optionally substituted C1 to C10 alkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; R 4 represents optionally substituted C1 to C8 alkyl, optionally substituted C1 to C8 fluoroalkyl or optionally substituted C5 to C15 aryl, optionally comprising one or more heteroatom; X represents O, S or NR 5 , wherein R 5 is chosen from hydrogen and optionally substituted C1 to C5 alkyl; and a is 0 or 1; and a solvent. Also provided are coated substrates and pattern-forming methods which make use of the topcoat compositions. The invention has particular applicability in photolithographic processes as a photoresist topcoat layer in the manufacture of semiconductor devices.
• CN116041184
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• Dialkoxyphosphinyl-Substituted Enols of Carboxamides
  作者：Jinhua Song、Hiroshi Yamataka、Zvi Rappoport

  DOI：10.1021/jo0710679

  日期：2007.9.1

  p-An, Ph, i-Pr) with (MeO)2P(O)CH2CO2R [R = Me, CF3CH2, (CF3)2CH] gave 15 formal “amides” (MeO)2P(O)CH(CO2R)CONHX (6/7), and with (CF3CH2O)2P(O)CH2CO2R [R = Me, CF3CH2] they gave eight analogous amide/enols 17/18. X-ray crystallography of two 6/7, R = (CF3)2CH systems revealed Z-enols of amides structures (MeO)2P(O)C(CO2CH(CF3)2)C(OH)NHX 7 where the OH is cis and hydrogen bonded to the OP(OMe)2 group

  异氰酸酯XNCO（例如X = p -An，Ph，i -Pr）与（MeO）2 P（O）CH 2 CO 2 R [R = Me，CF 3 CH 2，（CF 3）2 CH]的反应得到15个正式的“酰胺”（MeO）2 P（O）CH（CO 2 R）CONHX（6/7），以及（CF 3 CH 2 O）2 P（O）CH 2 CO 2 R [R = Me ，CF 3 CH 2 ]他们给8个类似的酰胺/烯醇17 / 18。X射线晶体学的两个6/7，R =（CF 3）2 CH系统显示Z-烯醇的酰胺结构（MeO）2 P（O）C（CO 2 CH（CF 3）2）C（OH）NHX在图7中，OH为顺式且氢键合至OP（OMe）2基团。R ＝ Me，CF 3 CH 2的固体膦酸酯具有酰胺6结构。用1 H，13 C，19 F和31对溶液中的结构进行了研究1 H NMR谱。它们在很大程度上取决于取代基R和溶剂，在某种程度上取决