摩熵化学
数据库官网
小程序
打开微信扫一扫
首页 分子通 化学资讯 化学百科 反应查询 关于我们
请输入关键词

1-(1-Cyclohexyloxyethoxy)-4-methylbenzene | 81141-10-8

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1-(1-Cyclohexyloxyethoxy)-4-methylbenzene
英文别名
1-(1-cyclohexyloxyethoxy)-4-methylbenzene
1-(1-Cyclohexyloxyethoxy)-4-methylbenzene化学式
CAS
81141-10-8
化学式
C15H22O2
mdl
——
分子量
234.338
InChiKey
QXZPMNNANYVCHS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.5
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.6
  • 拓扑面积:
    18.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    对甲酚环己基乙烯醚对甲苯磺酸 作用下, 以 乙醚 为溶剂, 反应 1.0h, 以67.4%的产率得到1-(1-Cyclohexyloxyethoxy)-4-methylbenzene
    参考文献:
    名称:
    Dusek, Jiri; Sklenar, Vladimir; Jonas, Jaroslav, Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1981, vol. 46, # 11, p. 2912 - 2923
    摘要:
    DOI:
点击查看最新优质反应信息

文献信息

  • AROMATIC POLYACETALS AND ARTICLES COMPRISING THEM
    申请人:DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
    公开号:US20150025278A1
    公开(公告)日:2015-01-22
    A polymer includes repeat units having the structure wherein R 1 , R 2 , Ar 1 , Ar 2 , and Ar 3 are defined herein. The polymer can be prepared by Suzuki polycondensation. The acetal and/or ketal functionality in the polymer backbone make the backbone-cleavable in acid. The polymer is useful in applications including lithographic photoresists.
    一种聚合物包括重复单元,其结构为其中R1,R2,Ar1,Ar2和Ar3如本文所定义。该聚合物可以通过铃木缩合反应制备。聚合物主链中的缩醛和/或缩酮官能团使得主链在酸性环境下可被断裂。该聚合物在包括光刻胶在内的应用中具有用途。
  • METHOD OF FORMING POLYARYL POLYMERS
    申请人:Dow Global Technologies LLC
    公开号:US20150031847A1
    公开(公告)日:2015-01-29
    In a method of forming a polyacetal or polyketal, a specific acetal- or ketal-containing bis(aryl)acetal is coupled with itself or a comonomer in the presence of a catalyst and a base. The polymerization reaction tolerates hydroxyl and other functional groups on the bis(aryl)acetal. Among other applications, the polyacetals and polyketals are useful components of photoresist compositions.
  • US8962779B2
    申请人:——
    公开号:US8962779B2
    公开(公告)日:2015-02-24
  • US9206276B2
    申请人:——
    公开号:US9206276B2
    公开(公告)日:2015-12-08
  • US9410016B2
    申请人:——
    公开号:US9410016B2
    公开(公告)日:2016-08-09
查看更多