[1,1'-Biphenyl]-2,3,4,5-tetracarboxylic acid | 69066-95-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: [1,1'-Biphenyl]-2,3,4,5-tetracarboxylic acid
• 英文别名: 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid
• CAS: 69066-95-1
• 化学式: C₁₆H₁₀O₈
• 分子量: 330.24
• InChiKey: JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  149
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  dimethyl 4-chlorophthalate 、 溴化钠 、 在 锌 、 氯化镍 氮气 、 80.C 、 氯仿 、 氯化钠 、 sodium hydroxide 、 水 作用下， 以 N,N-二甲基乙酰胺 为溶剂， 反应 14.0h， 以to afford 3.2 g of biphenyltetracarboxylic acid (97% yield)的产率得到[1,1'-Biphenyl]-2,3,4,5-tetracarboxylic acid
  参考文献：
  名称：

  Process for the preparation of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid

  摘要：

  双苯四羧酸酯及其衍生物是通过在无水极性溶剂中，在预先制备的三苯基膦-氯化镍或三烷基膦-氯化镍催化剂、锌粉还原剂和碱金属卤化物促进剂存在下进行4-卤代邻苯二甲酸酯的偶联反应制备的。该酯可以在碱性溶液中水解得到相应的酸。酸可以与乙酸酐加热或沸腾，得到双苯二酐。

  公开号：

  US05081281A1

文献信息

• ALKALI-DEVELOPABLE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BETA-DIKETONE COMPOUND
  申请人：Yamada Takashi

  公开号：US20100129753A1

  公开（公告）日：2010-05-27

  An alkali developable photosensitive resin composition contains (J) a photopolymerizable unsaturated compound having a structure resulting from the addition reaction of (B) a compound having a β-diketone moiety or a compound having a β-ketoester group to the (meth)acryloyl group of (A) a compound having at least two (meth)acryloyl groups and a hydroxyl group and subsequent esterification of the hydroxyl group of the resulting addition product with (C) a polybasic acid anhydride. The compound having a β-diketone moiety is preferably a novel β-diketone compound represented by general formula (I): wherein R 1 is a C1-C20 alkyl group; R 2 represents R 11 , OR 11 , COR 11 , SR 11 , CONR 12 R 13 , or CN; R 11 , R 12 , and R 13 are each hydrogen, a C1-C20 alkyl group, etc.; a is 0 to 3; and b is 0 to 4.

  一种可由碱显影的光敏树脂组合物，含有（J）一种光聚合不饱和化合物，该化合物的结构是由（B）含β-二酮基团或含β-酮酯基团的化合物与（A）含至少两个(甲基)丙烯酰基团和一个羟基的化合物中的(甲基)丙烯酰基团发生加成反应，并随后将所得加成产物的羟基与（C）多元酸酐进行酯化反应得到的。含β-二酮基团的化合物最好是表示为通用公式（I）的一种新型β-二酮化合物：其中R1是C1-C20烷基团；R2代表R11、OR11、COR11、SR11、CONR12R13或CN；R11、R12和R13分别是氢、C1-C20烷基团等；a是0到3；b是0到4。
• NOVOLAC RESIN AND RESIST FILM
  申请人：DIC Corporation

  公开号：US20180334523A1

  公开（公告）日：2018-11-22

  Provided are a novolac resin having developability, heat resistance, and dry etching resistance, and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist film. A novolac resin including, as a repeating unit, a structural moiety represented by Structural Formula (1) or (2): (in the formula, Ar represents an arylene group, R 1 's each independently represent any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom, m's each independently represent an integer of 1 to 3, and X is any one of a hydrogen atom, a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group) in which at least one of X's present in the resin is any one of a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group.

  提供一种具有可开发性、耐热性和干法蚀刻抗性的新戊醛树脂，以及一种光敏组合物、可固化组合物和抗蚀膜。一种新戊醛树脂包括以下结构单元： （在公式中，Ar代表芳基，R 1 分别独立地代表氢原子、烷基、烷氧基和卤素原子中的任意一种，m分别独立地代表1至3的整数，X代表氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种），树脂中至少有一个X是三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种。
• [EN] 1, 2, 3-TRIAZOLE DERIVATIVES FOR USE AS STEAROYL-COA DESATURASE INHIBITORS<br/>[FR] DÉRIVÉS DE 1,2,3-TRIAZOLE DESTINÉS À ÊTRE UTILISÉS COMME INHIBITEURS DE LA STÉAROYL-COA DÉSATURASE
  申请人：SMITHKLINE BEECHAM CORP

  公开号：WO2009060053A1

  公开（公告）日：2009-05-14

  The present invention relates to substituted triazole compounds of the formula (I) and pharmaceutically acceptable salts thereof, to pharmaceutical compositions containing them and their use in medicine. In particular, the invention relates to compounds for modulating SCD activity.

  本发明涉及公式（I）的取代三唑化合物及其药学上可接受的盐，含有它们的药物组合物以及它们在医学上的应用。具体而言，该发明涉及用于调节SCD活性的化合物。
• Preparation of 2,3,3',4' -biphenyltetracarboxylic acid tetraester
  申请人：Tsuji Tetsuro

  公开号：US20050090683A1

  公开（公告）日：2005-04-28

  2,3,3′,4′-Biphenyltetracarboxylic acid tetraester is predominantly produced by a process in which a phthalic acid diester is subjected to oxidative-coupling reaction in the presence of molecular oxygen and a catalyst comprising a rhodium-containing compound,.

  2,3,3′,4′-联苯四羧酸四酯主要是通过一种过程生产的，该过程中邻苯二甲酸二酯在分子氧和含铑化合物催化剂存在下进行氧化偶联反应。
• Process for production of 2, 3, 3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride
  申请人：Nakayama Tatsushi

  公开号：US20060247445A1

  公开（公告）日：2006-11-02

  A process for producing 2,3,3′,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (a-BPDA), comprising dehydrating 2,3,3′,4′-biphenyltetracarboxylic acid in an inert gas atmosphere under heating at 180 to 195° C is disclosed. This process produces high-purity a-BPDA which is suitable for production of a polyimide.

  生产2,3,3′,4′-联苯四羧酐（a-BPDA）的方法包括在惰性气氛下，在180至195°C的加热下脱水2,3,3′,4′-联苯四羧酸。该过程生产适用于聚酰亚胺生产的高纯度a-BPDA。