ω-(anthracene-9-yl)propanol | 22689-05-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 英文名称: ω-(anthracene-9-yl)propanol
• 英文别名: 3-(anthracen-9-yl) propan-1-ol；3-(anthracen-9-yl)propan-1-ol；9-(3-hydroxypropyl)anthracene；3-(9-Anthracenyl)-1-propanol；3-(9-anthracenyl)propanol；3-anthracen-9-propan-1-ol；9-Anthracenepropanol；3-anthracen-9-ylpropan-1-ol
• CAS: 22689-05-0
• 化学式: C₁₇H₁₆O
• 分子量: 236.313
• InChiKey: QSWUCIYIVJMUMB-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  97.5-98.5 °C
• 沸点：
  444.6±14.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.155±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  ω-(anthracene-9-yl)propanol 以 氢溴酸 为溶剂， 反应 72.0h， 以90%的产率得到3-(9-anthracenyl)propyl bromide
  参考文献：
  名称：

  三种新型发光四氮杂-四氧大环双环受体的合成、光物理性质和络合行为

  摘要：

  通过将光活性基团连接到四氮杂-四氧杂环亚基，合成了三种发光受体 1-3。这些多组分物质构成具有相同结合亚基的同质系列，其中发色团和间隔区发生变化。新化合物在乙腈中表现出吸收光谱和发光特性，主要由光活性组分控制，并受到氮冠亚基中氮的干扰。虽然结构相似，但化合物 1-3 表现出三种性质不同的光物理特性：2 从纯 π-π* (1La) 能级发射，3 从电荷转移 (CT) 能级和准分子物质发射，1 表现出发射从 CT 和 1La 水平。质子化后 1-3 的发光量子产率显着提高（最多两个数量级），这主要是由于从化合物中去除了 CT 激发态。虽然 Na+ 和 K+ 不会被发光受体复合，但 Ca2+ 和 Mg2+ 以 1:1 的方式强烈复合并显着影响发光特性。特别是发现了对 Ca2+ 的选择性。结果表明加合物的形成主要受静电相互作用的影响，连接光活性亚基和受体亚基的间隔物也在加合物的稳定中发挥积极作用。1

  DOI：

  10.1002/1099-0690(200102)2001:3<587::aid-ejoc587>3.0.co;2-w
• 作为产物：
  描述：

  9-氯甲基蒽 在 sodium hydroxide 、 lithium aluminium tetrahydride 、 硫酸 、 sodium hydride 作用下， 以 四氢呋喃 、 乙醚 、 乙醇 为溶剂， 反应 21.83h， 生成 ω-(anthracene-9-yl)propanol
  参考文献：
  名称：

  三种新型发光四氮杂-四氧大环双环受体的合成、光物理性质和络合行为

  摘要：

  通过将光活性基团连接到四氮杂-四氧杂环亚基，合成了三种发光受体 1-3。这些多组分物质构成具有相同结合亚基的同质系列，其中发色团和间隔区发生变化。新化合物在乙腈中表现出吸收光谱和发光特性，主要由光活性组分控制，并受到氮冠亚基中氮的干扰。虽然结构相似，但化合物 1-3 表现出三种性质不同的光物理特性：2 从纯 π-π* (1La) 能级发射，3 从电荷转移 (CT) 能级和准分子物质发射，1 表现出发射从 CT 和 1La 水平。质子化后 1-3 的发光量子产率显着提高（最多两个数量级），这主要是由于从化合物中去除了 CT 激发态。虽然 Na+ 和 K+ 不会被发光受体复合，但 Ca2+ 和 Mg2+ 以 1:1 的方式强烈复合并显着影响发光特性。特别是发现了对 Ca2+ 的选择性。结果表明加合物的形成主要受静电相互作用的影响，连接光活性亚基和受体亚基的间隔物也在加合物的稳定中发挥积极作用。1

  DOI：

  10.1002/1099-0690(200102)2001:3<587::aid-ejoc587>3.0.co;2-w

文献信息

• Intramolecular vibrational energy redistribution in bridged azulene-anthracene compounds: Ballistic energy transport through molecular chains
  作者：D. Schwarzer、P. Kutne、C. Schröder、J. Troe

  DOI：10.1063/1.1765092

  日期：2004.7.22

  experiments were performed in supercritical xenon where vibrational energy transfer to the bath is comparably slow. The intramolecular equilibration proceeds in two steps. About 15%-20% of the excitation energy leaves the azulene side within a short period of 300 fs. This component accompanies the intramolecular vibrational energy redistribution (IVR) within the azulene chromophore and it is caused by

  用时间分辨泵浦探针激光光谱研究了激发的桥联氮杂蒽化合物中的分子内振动能流。桥由分子链组成，类型为（CH（2））（m），m最多为6，以及（CH（2）OCH（2））（n）（n = 1,2）和CH （2）SCH（2）。在光吸收到Azulene S（1）波段并随后进行快速内部转换之后，形成了激发分子，其中振动能量位于Azulene侧。振动能量通过分子桥转移到蒽侧，最后转移到周围的介质中，然后在300 nm和/或蒽S（1）吸收带上探测氮杂S（3）吸收带的红色边缘。在400 nm 为了分开分子内和分子间能量转移的时间尺度，大部分实验都是在超临界氙气中进行的，在氙气中，振动能量转移到镀液中的速度相对较慢。分子内平衡分两个步骤进行。在300 fs的短时间内，约15％-20％的激发能离开了z青石一侧。该组分伴随着氮z生色团内的分子内振动能重新分布（IVR），它是由使有助于氮z烯侧的初始局部激发并延伸到分子的
• Non-conjugated bichromophoric systems. Part 4. Synthesis and photochemical study of bis-9-anthryls with a four-membered chain; influence of the replacement of methylene links by oxygen atoms or dimethylsilyl groups on the formation of intramolecular excimers and photocyclomers
  作者：Jean-Pierre Desvergne、Najib Bitit、Alain Castellan、Michael Webb、Henri Bouas-Laurent

  DOI：10.1039/p29880001885

  日期：——

  whereas the second, due to steric strain, leads to PSiC with a very low yield (φR 8 × 10–4;kRDca. 105 s–1). It was observed that the introduction of an oxygen atom instead of a CH2 group enhances the cycloaddition efficiency but the second oxygen did not show any further improvement. The presence of the bulky SiMe2 groups helped the excimer state to be reached (rate of formation at room temperature kDMca

  为了研究键的性质对光物理和光化学性质的影响，制备了结合了各种四元链的双发色体系（I CC，I OO，I O1，I O2和I Sic）。这些系统是双蒽[A]-Z–A，其中A = 9-蒽，Z =（CH 2）4（I CC），O（CH 2）2 O（I OO），O（CH 2）3（I O1） ，CH 2 O（CH 2）2（I O2）和SiMe 2（CH 2）2 SiMe 2（I SiC）。通过高稀释度的照射，这些化合物中的每一种都会产生一个通过一个环的9,10位和另一个环的9'，10'位连接的单个光环单体P XX，但在9个环之间形成键的I Sic除外。，10和1'，4'位置。在甲基环己烷中于365nm下测量反应量子产率。在相同的溶剂中，在固定条件下，不同温度下，通过瞬态动力学分析（单光子计数）检查了荧光。这些化合物中的三个（I CC，I OO，I O1）未显示任何分子内准分子荧光；热力学研究表明，S
• Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography
  申请人：——

  公开号：US20020095018A1

  公开（公告）日：2002-07-18

  Anti-reflective coating materials for ultraviolet photolithography include at least one organic light-absorbing compound incorporated into spin-on-glass materials. Suitable absorbing compounds are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, 193 nm and 157 nm that may be used in photolithography. A method of making absorbing spin-on-glass materials includes combining at least one organic absorbing compound with alkoxysilane or halosilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

  用于紫外光刻的防反射涂层材料包括至少一种有机吸光化合物，它被纳入旋涂玻璃材料中。适合的吸收化合物可以在365 nm、248 nm、193 nm和157 nm等可能用于光刻的波长范围内强烈吸收。制备吸收性旋涂玻璃材料的方法包括在旋涂玻璃材料的合成过程中将至少一种有机吸收化合物与烷氧基硅烷或卤代硅烷反应物结合。
• Spin-on anti-reflective coatings for photolithography
  申请人：Kennedy T Joseph

  公开号：US20050058929A1

  公开（公告）日：2005-03-17

  Anti-reflective coating materials for ultraviolet photolithography include at least one absorbing compounds and at least one pH tuning agent that are incorporated into spin-on materials. Suitable absorbing compounds are those that absorb around wavelengths such as 365 nm, 248 nm, 193 nm and 157 nm that may be used in photolithography. Suitable pH tuning agents not only adjust the pH of the final spin-on composition, but also influence the chemical performance and characteristics, mechanical performance and structural makeup of the final spin-on composition that is part of the layered material, electronic component or semiconductor component, such that the final spin-on composition is more compatible with the resist material that is coupled to it. More specifically, the pH tuning agent strong influences the polymeric characteristics, the structural makeup and the spatial orientation that results in increasing the surface properties of the anti-reflective coating for optimal resist performance. In other words, a pH tuning agent that merely adjusts the pH of the spin-on material without influencing the mechanical properties and structural makeup of the spin-on composition or the coupled resist material is not contemplated herein. A method of making absorbing and pH tuned spin-on materials includes combining at least one organic absorbing compound and at least one pH tuning agent with at least one silane reactant during synthesis of the spin-on materials and compositions.

  紫外光微影用的防反射涂层材料包括至少一个吸收化合物和至少一个pH调节剂，它们被并入旋涂材料中。适合的吸收化合物是那些在光刻中使用的波长范围内吸收的化合物，如365 nm、248 nm、193 nm和157 nm。适合的pH调节剂不仅可以调节最终旋涂组合物的pH值，还可以影响最终旋涂组合物的化学性能和特性、机械性能和结构构成，使最终的旋涂组合物更加兼容与其耦合的抗蚀材料、电子元件或半导体元件。更具体地说，pH调节剂强烈影响聚合物特性、结构构成和空间取向，从而增加防反射涂层的表面性能，以实现最佳的抗蚀性能。换句话说，仅仅调节旋涂材料的pH值而不影响旋涂组合物或耦合抗蚀材料的机械性能和结构构成的pH调节剂不在此范围内。制备吸收和pH调节旋涂材料的方法包括在旋涂材料和组合物的合成过程中将至少一个有机吸收化合物和至少一个pH调节剂与至少一个硅烷反应物结合。
• Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof
  申请人：Kennedy Joseph

  公开号：US20080206690A1

  公开（公告）日：2008-08-28

  Compositions for use in tri-layer applications are described herein, wherein the composition has a matrix and includes: a formulated polymer comprising at least one type of silicon-based moiety forming the matrix of the polymer, a plurality of vinyl groups coupled to the matrix of the polymer, and a plurality of phenyl groups coupled to the matrix of the polymer, at least one condensation catalyst, and at least one solvent. Tri-layer structures are also contemplated herein that comprise an organic underlayer (first layer), antireflective compositions and/or films contemplated herein (second layer) and a photoresist material (third layer) that are coupled to one another. Methods of producing a composition for tri-layer patterning applications includes: providing a formulated polymer comprising at least one type of silicon-based moiety forming the matrix of the polymer, a plurality of vinyl groups coupled to the matrix of the polymer, and a plurality of phenyl groups coupled to the matrix of the polymer, providing at least one condensation catalyst, providing at least one solvent, providing at least one pH modifier, blending the formulated polymer and part of the at least one solvent in a reaction vessel to form a reactive mixture; and incorporating the at least one pH modifier, the at least one condensation catalyst and the remaining at least one solvent into the reactive mixture to form the composition.

  本文描述了用于三层应用的组合物，其中该组合物具有一个基质，包括：一种经过配制的聚合物，该聚合物的基质包含至少一种硅基基团，与基质相偶联的多个乙烯基和多个苯基，至少一种缩合催化剂和至少一种溶剂。本文还考虑了三层结构，包括有机底层（第一层）、反射率组合物和/或膜（第二层）以及与其相偶联的光阻材料（第三层）。制备用于三层图案应用的组合物的方法包括：提供一种经过配制的聚合物，该聚合物的基质包括至少一种硅基基团，与基质相偶联的多个乙烯基和多个苯基，提供至少一种缩合催化剂，提供至少一种溶剂，提供至少一种pH调节剂，将经过配制的聚合物和至少一部分溶剂混合在反应容器中形成反应混合物；并将至少一种pH调节剂、至少一种缩合催化剂和剩余的至少一种溶剂混入反应混合物中形成组合物。