1-ethyl-5-methyl-2,3-dihydro-pyrrole | 5370-56-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯啉
• 英文名称: 1-ethyl-5-methyl-2,3-dihydro-pyrrole
• 英文别名: 1-Aethyl-5-methyl-2,3-dihydro-pyrrol；1-Ethyl-2-methyl-2-pyrrolin；NoName_3018；1-ethyl-5-methyl-2,3-dihydropyrrole
• CAS: 5370-56-9
• 化学式: C₇H₁₃N
• 分子量: 111.187
• InChiKey: MOEZDHDBWWXTTG-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  73.5-74.5 °C(Press: 55 Torr)
• 密度：
  0.896 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  8
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-ethyl-5-methyl-2,3-dihydro-pyrrole 在 乙醇 、 镍 作用下， 生成 1-乙基-2-甲基-吡咯烷
  参考文献：
  名称：

  Structure of Monocrotaline. VII.¹ Structure of Retronecine and Related Bases

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01263a020
• 作为产物：
  描述：

  5-溴-2-戊酮 、 乙胺 在 乙醇 作用下， 生成 1-ethyl-5-methyl-2,3-dihydro-pyrrole
  参考文献：
  名称：

  Structure of Monocrotaline. VII.¹ Structure of Retronecine and Related Bases

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01263a020

文献信息

• Stabilized alkaline compositions for cleaning microlelectronic substrates
  申请人：——

  公开号：US20020077259A1

  公开（公告）日：2002-06-20

  The invention provides aqueous alkaline compositions useful in the microelectronics industry for stripping or cleaning semiconductor wafer substrates by removing photoresist residues and other unwanted contaminants. The compositions typically contain (a) one or more metal ion-free bases at sufficient amounts to produce a pH of about 10-13 and one or more bath stabilizing agents having at least one pKa in the range of 10-13 to maintain this pH during use; (b) optionally, about 0.01 % to about 5% by weight (expressed as % SiO 2 ) of a water-soluble metal ion-free silicate; (c) optionally, about 0.01% to about 10% by weight of one or more chelating agents; (d) optionally, about 0.01% to about 80% by weight of one or more water-soluble organic co-solvents; and (e) optionally, about 0.01% to about 1% by weight of a water-soluble surfactant.

  本发明提供了在微电子工业中用于剥离或清洗半导体晶片基片的碱性水溶液组合物，可去除光阻残留物和其他不需要的污染物。这些组合物通常含有：(a) 一种或多种不含金属离子的碱，其用量足以产生约 10-13 的 pH 值，以及一种或多种水浴稳定剂，其至少有一种 pKa 在 10-13 范围内，以便在使用过程中保持该 pH 值；(b) 可选地，按重量计约 0.01%至约 5%（以% SiO 2 (c) 可选地，按重量计约 0.01%至约 10%的一种或多种螯合剂； (d) 可选地，按重量计约 0.01%至约 80%的一种或多种水溶性有机助溶剂；以及 (e) 可选地，按重量计约 0.01%至约 1%的水溶性表面活性剂。
• Carmack et al., Journal of the American Chemical Society, 1946, vol. 68, p. 1224
  作者：Carmack et al.

  DOI：——

  日期：——
• STABILIZED ALKALINE COMPOSITIONS FOR CLEANING MICROELECTRONIC SUBSTRATES
  申请人：Mallinckrodt Baker, Inc.

  公开号：EP1326951A1

  公开（公告）日：2003-07-16
• ALKALINE, POST PLASMA ETCH/ASH RESIDUE REMOVERS AND PHOTORESIST STRIPPING COMPOSITIONS CONTAINING METAL-HALIDE CORROSION INHIBITORS
  申请人：MALLINCKRODT BAKER, Inc.

  公开号：EP1692572A2

  公开（公告）日：2006-08-23
• METHOD FOR THE MANUFACTURE OF POLY(ARYL ETHERS) USING AT LEAST ONE ORGANIC BASE
  申请人：Solvay Specialty Polymers USA, L.L.C.

  公开号：EP3209708A1

  公开（公告）日：2017-08-30