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4-[4-(3-phenoxypropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole | 1192029-67-6

中文名称
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中文别名
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英文名称
4-[4-(3-phenoxypropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
英文别名
4-[4-(3-Phenoxypropoxy)phenyl]thiadiazole;4-[4-(3-phenoxypropoxy)phenyl]thiadiazole
4-[4-(3-phenoxypropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole化学式
CAS
1192029-67-6
化学式
C17H16N2O2S
mdl
——
分子量
312.392
InChiKey
BVWZWNDLGSSJCC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.4
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.18
  • 拓扑面积:
    72.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    5

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    4-[4-(3-bromopropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole苯酚potassium carbonate 、 potassium iodide 作用下, 以 丙酮 为溶剂, 反应 30.0h, 以64%的产率得到4-[4-(3-phenoxypropoxy)phenyl]-1,2,3-thiadiazole
    参考文献:
    名称:
    具有不饱和侧链的1,2,3-噻二唑;合成,聚合和光交联
    摘要:
    合成了在4位具有聚合功能的1,2,3-噻二唑作为潜在的负性光刻胶。聚合成可溶的成膜材料必须使杂环完整无缺,因为光交联反应需要它们才能产生不溶的材料。1,2,3-噻二唑1在照射时可消除N 2。将得到的1,3-双自由基2具有用于稳定进程导致炔烃的各种选项3或更高的杂环5 - 12。必须避免原子硫的产生及其在这些后续反应中的参与。因此,像模型化合物1a这样的系统,其中在此选择了1,3-二价形式2-亚甲基-1,3-二硫代(二硫富烯)9。优化最终产生了两种材料作为光致抗蚀剂。单体1c可以在三氟化硼的存在下聚合成可溶性1c',其在辐射下形成1c'作为交联的不溶性聚合物。此外,噻二唑1f连接于聚苯乙烯26。所得的可溶性聚合物1i '在辐射下产生不溶性材料1i''。 环二聚-环消除-杂环-光化学-光刻胶
    DOI:
    10.1055/s-0029-1216879
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文献信息

  • 1,2,3-Thiadiazoles with Unsaturated Side Chains; Synthesis, Polymerization, and Photocrosslinking
    作者:Mousa Al-Smadi、Herbert Meier、Norbert Hanold、Helga Kalbitz
    DOI:10.1055/s-0029-1216879
    日期:2009.8
    1,2,3-Thiadiazoles with polymerizable functionalities in the 4-position were synthesized as potential negative photoresists. The polymerization to soluble, film-forming materials must leave the heterocyclic rings intact, because they are needed for photocrosslinking reactions to give insoluble materials. 1,2,3-Thiadiazoles 1 cycloeliminate N2 on irradiation. The resulting 1,3-diradicals 2 have various
    合成了在4位具有聚合功能的1,2,3-噻二唑作为潜在的负性光刻胶。聚合成可溶的成膜材料必须使杂环完整无缺,因为光交联反应需要它们才能产生不溶的材料。1,2,3-噻二唑1在照射时可消除N 2。将得到的1,3-双自由基2具有用于稳定进程导致炔烃的各种选项3或更高的杂环5 - 12。必须避免原子硫的产生及其在这些后续反应中的参与。因此,像模型化合物1a这样的系统,其中在此选择了1,3-二价形式2-亚甲基-1,3-二硫代(二硫富烯)9。优化最终产生了两种材料作为光致抗蚀剂。单体1c可以在三氟化硼的存在下聚合成可溶性1c',其在辐射下形成1c'作为交联的不溶性聚合物。此外,噻二唑1f连接于聚苯乙烯26。所得的可溶性聚合物1i '在辐射下产生不溶性材料1i''。 环二聚-环消除-杂环-光化学-光刻胶
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