2,4-Bis[4-(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯丙烷和聚酮 - 直链 1,3-二芳基丙烷
• 英文名称: 2,4-Bis[4-(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one
• 英文别名: 2,4-bis[4-(2-hydroxypropan-2-yl)phenyl]-2,4-dimethylpentan-3-one
• 化学式: C₂₅H₃₄O₃
• 分子量: 382.5
• InChiKey: FSCFOALXJCFFCS-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.4
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.48
• 拓扑面积：
  57.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

文献信息

• RESIST COMPOSITION
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2911002A1

  公开（公告）日：2015-08-26

  A resist composition of the present invention is a resist composition containing a resist base material and a solvent. The resist base material contains a specific stereoisomer. A content of the specific stereoisomer in the resist base material is 50 to 100% by mass.

  本发明的抗蚀剂组合物是一种含有抗蚀剂基料和溶剂的抗蚀剂组合物。光刻胶基料含有特定的立体异构体。光刻胶基料中特定立体异构体的含量为 50%至 100%（按质量计）。
• US9354516B2
  申请人：——

  公开号：US9354516B2

  公开（公告）日：2016-05-31