9-芴甲基丙烯酸甲酯 | 46969-53-3

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 酯类
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 中文名称: 9-芴甲基丙烯酸甲酯
• 英文名称: 9-Fluorenyl methacrylate
• 英文别名: 9H-fluoren-9-yl 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 46969-53-3
• 化学式: C₁₇H₁₄O₂
• 分子量: 250.297
• InChiKey: IFAFXDPXPSZLKZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  60-65°C

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

SDS

1.1 产品标识符
: 9-Fluorenyl methacrylate
产品名称
1.2 鉴别的其他方法
FMA
9-FMA

1.3 有关的确定了的物质或混合物的用途和建议不适合的用途
仅供科研用途，不作为药物、家庭备用药或其它用途。

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模块2. 危险性概述
2.1 GHS分类
急性水生毒性 (类别1)
慢性水生毒性 (类别1)
2.2 GHS 标记要素，包括预防性的陈述
象形图
警示词警告
危险申明
H410对水生生物毒性极大并具有长期持续影响.
警告申明
预防
P273避免释放到环境中。
措施
P391收集溢出物。
处理
P501将内容物/ 容器处理到得到批准的废物处理厂。
2.3 其它危害物 - 无

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模块3. 成分/组成信息
3.1 物 质
: FMA
别名
9-FMA
: C17H14O2
分子式
: 250.29 g/mol
分子量
组分浓度或浓度范围
9-FLUORENYL METHACRYLATE
-
CAS 号46969-53-3

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模块4. 急救措施
4.1 必要的急救措施描述
一般的建议
请教医生。 出示此安全技术说明书给到现场的医生看。
吸入
如果吸入,请将患者移到新鲜空气处。 如果停止了呼吸,给于人工呼吸。 请教医生。
皮肤接触
用肥皂和大量的水冲洗。 请教医生。
眼睛接触
用水冲洗眼睛作为预防措施。
食入
切勿给失去知觉者从嘴里喂食任何东西。 用水漱口。 请教医生。
4.2 主要症状和影响，急性和迟发效应
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
4.3 及时的医疗处理和所需的特殊处理的说明和指示
无数据资料

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模块5. 消防措施
5.1 灭火介质
灭火方法及灭火剂
用水雾,耐醇泡沫,干粉或二氧化碳灭火。
5.2 源于此物质或混合物的特别的危害
碳氧化物
5.3 给消防员的建议
如必要的话,戴自给式呼吸器去救火。
5.4 进一步信息
无数据资料

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模块6. 泄露应急处理
6.1 人员的预防,防护设备和紧急处理程序
防止粉尘的生成。 防止吸入蒸汽、气雾或气体。 保证充分的通风。
6.2 环境保护措施
在确保安全的前提下，采取措施防止进一步的泄漏或溢出。 不要让产物进入下水道。
防止排放到周围环境中。
6.3 抑制和清除溢出物的方法和材料
收集、处理泄漏物，不要产生灰尘。 扫掉和铲掉。 存放进适当的闭口容器中待处理。
6.4 参考其他部分
丢弃处理请参阅第13节。

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模块7. 操作处置与储存
7.1 安全操作的注意事项
在有粉尘生成的地方,提供合适的排风设备。一般性的防火保护措施。
7.2 安全储存的条件,包括任何不兼容性
贮存在阴凉处。 容器保持紧闭，储存在干燥通风处。
建议的贮存温度： 2 - 8 °C
充气操作和储存
7.3 特定用途
无数据资料

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模块8. 接触控制和个体防护
8.1 容许浓度
最高容许浓度
没有已知的国家规定的暴露极限。
8.2 暴露控制
适当的技术控制
按照良好工业和安全规范操作。 休息前和工作结束时洗手。
个体防护设备
眼/面保护
请使用经官方标准如NIOSH (美国) 或 EN 166(欧盟) 检测与批准的设备防护眼部。
皮肤保护
戴手套取 手套在使用前必须受检查。
请使用合适的方法脱除手套(不要接触手套外部表面),避免任何皮肤部位接触此产品.
使用后请将被污染过的手套根据相关法律法规和有效的实验室规章程序谨慎处理. 请清洗并吹干双手
所选择的保护手套必须符合EU的89/686/EEC规定和从它衍生出来的EN 376标准。
身体保护
根据危险物质的类型，浓度和量，以及特定的工作场所来选择人体保护措施。,
防护设备的类型必须根据特定工作场所中的危险物的浓度和含量来选择。
呼吸系统防护
不需要保护呼吸。如需防护粉尘损害，请使用N95型（US）或P1型（EN 143)防尘面具。
呼吸器使用经过测试并通过政府标准如NIOSH（US）或CEN（EU）的呼吸器和零件。

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模块9. 理化特性
9.1 基本的理化特性的信息
a) 外观与性状
形状: 固体
b) 气味
无数据资料
c) 气味阈值
无数据资料
d) pH值
无数据资料
e) 熔点/凝固点
熔点/凝固点: 60 - 65 °C
f) 起始沸点和沸程
无数据资料
g) 闪点
无数据资料
h) 蒸发速率
无数据资料
i) 易燃性(固体,气体)
无数据资料
j) 高的/低的燃烧性或爆炸性限度 无数据资料
k) 蒸汽压
无数据资料
l) 蒸汽密度
无数据资料
m) 相对密度
无数据资料
n) 水溶性
无数据资料
o) n-辛醇/水分配系数
辛醇--水的分配系数的对数值: 4.441
p) 自燃温度
无数据资料
q) 分解温度
无数据资料
r) 粘度
无数据资料

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模块10. 稳定性和反应活性
10.1 反应性
无数据资料
10.2 稳定性
无数据资料
10.3 危险反应的可能性
无数据资料
10.4 应避免的条件
无数据资料
10.5 不兼容的材料
强氧化剂
10.6 危险的分解产物
其它分解产物 - 无数据资料

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模块11. 毒理学资料
11.1 毒理学影响的信息
急性毒性
无数据资料
皮肤刺激或腐蚀
无数据资料
眼睛刺激或腐蚀
无数据资料
呼吸道或皮肤过敏
无数据资料
生殖细胞突变性
无数据资料
致癌性
IARC:
此产品中没有大于或等于 0。1%含量的组分被 IARC鉴别为可能的或肯定的人类致癌物。
生殖毒性
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（一次接触）
无数据资料
特异性靶器官系统毒性（反复接触）
无数据资料
吸入危险
无数据资料
潜在的健康影响
吸入吸入可能有害。 可能引起呼吸道刺激。
摄入如服入是有害的。
皮肤如果通过皮肤吸收可能是有害的。 可能引起皮肤刺激。
眼睛可能引起眼睛刺激。
接触后的征兆和症状
据我们所知，此化学，物理和毒性性质尚未经完整的研究。
附加说明
化学物质毒性作用登记: 无数据资料

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模块12. 生态学资料
12.1 生态毒性
无数据资料
12.2 持久存留性和降解性
无数据资料
12.3 潜在的生物蓄积性
无数据资料
12.4 土壤中的迁移性
无数据资料
12.5 PBT 和 vPvB的结果评价
无数据资料
12.6 其它不利的影响
对水生生物毒性极大并具有长期持续影响.

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模块13. 废弃处置
13.1 废物处理方法
产品
将剩余的和未回收的溶液交给处理公司。 联系专业的拥有废弃物处理执照的机构来处理此物质。
与易燃溶剂相溶或者相混合，在备有燃烧后处理和洗刷作用的化学焚化炉中燃烧
受污染的容器和包装
作为未用过的产品弃置。

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模块14. 运输信息
14.1 联合国危险货物编号
欧洲陆运危规: 3077国际海运危规: 3077国际空运危规: 3077
14.2 联合国（UN）规定的名称
欧洲陆运危规: ENVIRONMENTALLY HAZARDOUS SUBSTANCE, SOLID, N.O.S. (9-FLUORENYL
METHACRYLATE)
国际海运危规: ENVIRONMENTALLY HAZARDOUS SUBSTANCE, SOLID, N.O.S. (9-FLUORENYL
METHACRYLATE)
国际空运危规: Environmentally hazardous substance, solid, n.o.s. (9-FLUORENYL METHACRYLATE)
14.3 运输危险类别
欧洲陆运危规: 9国际海运危规: 9国际空运危规: 9
14.4 包裹组
欧洲陆运危规: III国际海运危规: III国际空运危规: III
14.5 环境危险
欧洲陆运危规: 是国际海运危规 海运污染物: 是国际空运危规: 是
14.6 对使用者的特别提醒
进一步信息
危险品独立包装,液体5升以上或固体5公斤以上,每个独立包装外和独立内包装合并后的外包装上都必须有EHS
标识 (根据欧洲 ADR 法规 2.2.9.1.10, IMDG 法规 2.10.3),

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模块 15 - 法规信息
N/A

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模块16 - 其他信息
N/A

上下游信息

• 上游原料

  中文名称	英文名称	CAS号	化学式	分子量
  9-羟基芴	9-Fluorenol	1689-64-1	C13H10O	182.222

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  9-羟基芴 、 甲基丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 9-芴甲基丙烯酸甲酯
  参考文献：
  名称：

  Synthesis and self-assembly of polyhydroxylated and electropolymerizable block copolymers

  摘要：

  A facile synthetic strategy for preparing hydroxylated polymethacrylate amphiphilic block copolymers (PCzMMA-b-PBMMA, PFlMMA-b-PBMMA) incorporated with primary and secondary hydroxyl groups and electroactive moieties along the polymer backbone is reported. Full characterization, structure-property relationship and self-assembly of these polymers are discussed. Due to interplay of hydrophobic/hydrophilic interactions, PCzMMA-b-PBMMA formed a layered lattice and PFlMMA-b-PBMMA showed a vesicular morphology. Electropolymerization of the electroactive units led to the formation of cross-conjugated polymer network in solution and in thin films. The network structure was characterized with a range of spectroscopic techniques. Such highly processable polymers may be of interest to applications in which a conducting amphiphilic films with strong adhesion to various substrates are required. (C) 2014 Wiley Periodicals, Inc.

  DOI：

  10.1002/pola.27234

文献信息

• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, MONOMER, AND COPOLYMER
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20130309606A1

  公开（公告）日：2013-11-21

  A polymer is obtained from copolymerization of a recurring unit having a carboxyl and/or phenolic hydroxyl group substituted with an acid labile group and a recurring unit having formula (1) wherein R 1 is methyl, ethyl, propyl, methoxy, ethoxy or propoxy, R 2 is H or CH 3 , and m is 1 to 4. The polymer is used as a base resin to formulate a resist composition, which is improved in contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, acid diffusion control, resolution, and profile and edge roughness of a pattern after exposure.

  一种聚合物是通过共聚反应获得的，其中具有羧酸和/或酚羟基的重复单元被取代为酸易裂解基团，而具有公式（1）的重复单元的R1为甲基，乙基，丙基，甲氧基，乙氧基或丙氧基，R2为H或CH3，m为1到4。该聚合物用作基础树脂来制备抗蚀剂组合物，该组合物在曝光前后的碱溶解速率对比、酸扩散控制、分辨率以及曝光后图案的轮廓和边缘粗糙度方面得到改善。
• NOVEL SULFONIUM SALT, POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE POLYMER, RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20110189607A1

  公开（公告）日：2011-08-04

  There is disclosed a sulfonium salt represented by the following general formula (1). In the formula, X and Y each represents a group having a polymerizable functional group; Z represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 33 carbon atoms optionally containing a hetero atom; R 1 represents a divalent hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms optionally containing a hetero atom; and R 2 and R 3 each represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms optionally containing a hetero atom or R 2 and R 3 may be bonded with each other to form a ring together with a sulfur atom in the formula. There can be provided a sulfonium salt usable as a resist composition providing high resolution and excellent in LER in photolithography using a high energy beam such as an ArF excimer laser, an EUV light and an electron beam as a light source, a polymer obtained from the sulfonium salt, a resist composition containing the polymer and a patterning process using the resist composition.

  本发明公开了一种由下列通式（1）表示的烷基磺鎵盐。在该式中，X和Y分别表示具有可聚合官能团的基团；Z表示具有1至33个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R1表示具有1至36个碳原子的双价碳氢基团，可选地含有一个杂原子；R2和R3分别表示具有1至30个碳原子的单价碳氢基团，可选地含有一个杂原子，或者R2和R3可以与该式中的硫原子一起形成环。可以提供一种可用作抗蚀剂组分的烷基磺鎵盐，该抗蚀剂组分在使用高能束如ArF准分子激光、EUV光和电子束作为光源的光刻工艺中，提供高分辨率和优异的LER，以及从该烷基磺鎵盐得到的聚合物、包含该聚合物的抗蚀剂组分和使用该抗蚀剂组分进行图案化处理的方法。
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20100227274A1

  公开（公告）日：2010-09-09

  A positive resist composition comprising as a base resin a polymer having carboxyl groups whose hydrogen is substituted by an acid labile group of fluorene structure exhibits a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure, a high resolution, a good pattern profile and minimal LER after exposure, a significant effect of suppressing acid diffusion rate, and improved etching resistance.

  一种正性光刻胶组合物，包括以羧基团为基础的树脂，该树脂具有氢被芴结构的酸敏感基团取代的羧基团，其在曝光前后表现出高对比度的碱性溶解速率、高分辨率、良好的图案轮廓和曝光后极小的LER，具有显著抑制酸扩散速率的效果，并提高了蚀刻抗性。
• Photoacid Generators And Lithographic Resists Comprising The Same
  申请人：University Of North Carolina At Charlotte

  公开号：US20140315130A1

  公开（公告）日：2014-10-23

  The present invention provides photoacid generators for use in chemically amplified resists and lithographic processes using the same.

  本发明提供了用于化学增强型光刻胶和使用其的光刻工艺的光酸发生剂。