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N,N-双十二烷基丙烯酰胺 | 86291-70-5

中文名称
N,N-双十二烷基丙烯酰胺
中文别名
——
英文名称
N,N-didodecylacrylamide
英文别名
2-Propenamide, N,N-didodecyl-;N,N-didodecylprop-2-enamide
N,N-双十二烷基丙烯酰胺化学式
CAS
86291-70-5
化学式
C27H53NO
mdl
——
分子量
407.724
InChiKey
IXSXIMCFYLTCMM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    518.5±19.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.860±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    11.5
  • 重原子数:
    29
  • 可旋转键数:
    23
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.89
  • 拓扑面积:
    20.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

安全信息

  • 海关编码:
    2924199090

SDS

SDS:b80723c7d373541ae8ea5f4388015b46
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反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    N,N-双十二烷基丙烯酰胺三乙烯四胺 反应 120.0h, 生成 4,7,13-tris(3-(didodecylamino)-3-oxopropyl)-N1,N1,N16,N16-tetradodecyl-4,7,10,13-tetraazahexadecanediamide 、 4,7,10-tris(3-(didodecylamino)-3-oxopropyl)-N1,N1,N16,N16-tetradodecyl-4,7,10,13-tetraazahexadecanediamide 、 4,7,10,13-tetrakis(3-(didodecylamino)-3-oxopropyl)-N1,N1,N16,N16-tetradodecyl-4,7,10,13-tetraazahexadecanediamide
    参考文献:
    名称:
    WO2008/42973
    摘要:
    公开号:
  • 作为产物:
    描述:
    双十二烷基胺丙烯酰氯N,N-二异丙基乙胺 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 反应 4.33h, 以100%的产率得到N,N-双十二烷基丙烯酰胺
    参考文献:
    名称:
    WO2008/42973
    摘要:
    公开号:
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文献信息

  • LIPID CONTAINING FORMULATIONS
    申请人:Manoharan Muthiah
    公开号:US20090023673A1
    公开(公告)日:2009-01-22
    Compositions and methods useful in administering nucleic acid based therapies, for example association complexes such as liposomes and lipoplexes are described.
    本文介绍了用于管理基于核酸的治疗的组合物和方法,例如关联复合物,如脂质体和脂质复合物。
  • Lipid containing formulations
    申请人:Alnylam Pharamaceticals, Inc.
    公开号:US08034376B2
    公开(公告)日:2011-10-11
    Compositions and methods useful in administering nucleic acid based therapies, for example association complexes such as liposomes and lipoplexes are described.
    本文描述了在给予基于核酸的治疗方面使用的组合物和方法,例如关联复合物,如脂质体和脂质复合物。
  • Preparation process of acrylic acid ester polymer
    申请人:KURARAY CO., LTD.
    公开号:EP0945470A1
    公开(公告)日:1999-09-29
    Described is a process for the preparation of an acrylic acid ester polymer, which comprises carrying out polymerization of an acrylic acid ester or block copolymerization of an acrylic acid ester and another (meth)acrylic monomer in the presence of an organolithium compound and an organoaluminum compound represented by the following formula:         AlR1R2R3 wherein R1 represents an alkyl group having at least 3 carbon atoms, an alkoxy group having at least 3 carbon atoms or an aryloxy group, R2 and R3 each independently represents an aryloxy group or may be coupled together to form an arylenedioxy group, which process makes it possible to heighten the reaction rate and living properties upon polymerization and heighten the block formation efficiency upon block copolymerization.
    描述了一种制备丙烯酸酯聚合物的工艺,该工艺包括在有机锂化合物和有机铝化合物存在下,进行丙烯酸酯的聚合或丙烯酸酯和另一种(甲基)丙烯酸单体的嵌段共聚: AlR1R2R3 其中 R1 代表具有至少 3 个碳原子的烷基、具有至少 3 个碳原子的烷氧基或芳基氧基,R2 和 R3 各自独立地代表芳基氧基或可连接在一起形成芳二氧基,该工艺可提高聚合时的反应速度和活 性,并提高嵌段共聚时的嵌段形成效率。
  • POLISHING AGENT FOR SILICON OXIDE, LIQUID ADDITIVE, AND METHOD OF POLISHING
    申请人:Hitachi Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP1956642A1
    公开(公告)日:2008-08-13
    The polishing slurry of the invention is a polishing slurry for polishing a silicon oxide film on polysilicon, which contains an abrasive, polysilicon polishing inhibitor, and water. As the polishing inhibitor, it is preferable to use (1) a water-soluble polymer having a N-monosubstituted or N,N-disubstituted skeleton substituted by any member selected from the group consisting of acrylamide, methacrylamide, and α-substitutedderivatives thereof, (2) polyethylene glycol, (3) an oxyethylene adduct of an acetylene-based diol, (4) a water-soluble organic compound having an acetylene bond, (5) an alkoxylated linear aliphatic alcohol, or (6) a copolymer containing polyvinyl pyrrolidone or vinyl pyrrolidone. There is provided a polishing method which is capable of polishing a silicon oxide film on a polysilicon film at a high speed, and inhibiting the progress of polishing of a polysilicon film in exposed parts in the manufacturing method for a semiconductor.
    本发明的抛光浆料是一种用于抛光多晶硅上的氧化硅膜的抛光浆料,它含有研磨剂、多晶硅抛光抑制剂和水。作为抛光抑制剂,最好使用 (1) 具有被选自丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺及其 α-取代衍生物的任一成员取代的 N-单取代或 N,N-二取代骨架的水溶性聚合物、(2) 聚乙二醇;(3) 乙炔基二醇的氧乙烯加合物;(4) 具有乙炔键的水溶性有机化合物;(5) 烷氧基化线性脂肪醇;或 (6) 含有聚乙烯基吡咯烷酮或乙烯基吡咯烷酮的共聚物。本发明提供了一种抛光方法,它能够高速抛光多晶硅薄膜上的氧化硅薄膜,并能抑制半导体制造方法中暴露部分多晶硅薄膜的抛光进程。
  • Physically crosslinked copolymer compounds and related compositions and methods for electrophoretic separation
    申请人:Northwestern University
    公开号:EP2420520A1
    公开(公告)日:2012-02-22
    Linear acrylamide copolymer compounds which can comprise monomeric components comprising at least one N-substituted moiety capable of physical cross-linking, and related compositions and methods of use.
    线性丙烯酰胺共聚物化合物,其单体成分中至少包含一个能进行物理交联的 N-取代基,以及相关的组合物和使用方法。
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