3-Acetoxy-4,4,4-trifluoro-3-trifluoromethyl-butyric acid | 14686-22-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: 3-Acetoxy-4,4,4-trifluoro-3-trifluoromethyl-butyric acid
• 英文别名: 3-Acetyloxy-4,4,4-trifluoro-3-(trifluoromethyl)butanoic acid
• CAS: 14686-22-7
• 化学式: C₇H₆F₆O₄
• 分子量: 268.113
• InChiKey: PSSAHPBMBZSMHX-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.7
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.71
• 拓扑面积：
  63.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-Acetoxy-4,4,4-trifluoro-3-trifluoromethyl-butyric acid 在 硫酸 作用下， 生成 4,4,4-三氟-3-(三氟甲基)巴豆酸
  参考文献：
  名称：

  Reaction of hexafluoroacetone with acetic anhydride

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00848932

文献信息

• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20220127225A1

  公开（公告）日：2022-04-28

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition forms a pattern having minimal defects and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and DOF.

  提供一种化学式为(1)的盐类，作为酸扩散抑制剂，并提供一种化学增强型光刻胶组合物，其中包括该酸扩散抑制剂。当通过光刻技术进行加工时，该光刻胶组合物形成的图案具有最小的缺陷和出色的光刻性能因子，如CDU、LWR和DOF。