N-benzyloxymethylmaleimide | 102147-57-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯烷类
• 英文名称: N-benzyloxymethylmaleimide
• 英文别名: 1-(phenylmethoxymethyl)pyrrole-2,5-dione
• CAS: 102147-57-9
• 化学式: C₁₂H₁₁NO₃
• 分子量: 217.224
• InChiKey: QJLWGZCFHCIWFN-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.9
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.17
• 拓扑面积：
  46.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-benzyloxymethylmaleimide 、 Acetic acid 7,7'-dichloro-1H,1'H-[2,2']biindolyl-3-yl ester 反应 192.0h， 以22%的产率得到1,11-dichloro-12,13-dihydro-6-[(phenylmethoxy)methyl]-5H-indolo[2,3-a]pyrrolo[3,4-c]carbazole-5,7(6H)-dione
  参考文献：
  名称：

  Two synthetic approaches to rebeccamycin

  摘要：

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(00)89281-3
• 作为产物：
  描述：

  马来酰亚胺 、 苄基氯甲基醚 在 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以36%的产率得到N-benzyloxymethylmaleimide
  参考文献：
  名称：

  AZAQUINAZOLINE PAN-KRAS INHIBITORS

  摘要：

  The present invention relates to compounds that inhibit at least one of KRas G12A, KRas G12C, KRas G12D, KRas G12R, KRas G12S, KRas G12V, KRas G13D and KRas Q61H, pharmaceutical compositions comprising the compounds and methods of use therefor.

  公开号：

  WO2023244615A1

文献信息

• Positiv-Photoresist mit verbesserten Prozesseigenschaften
  申请人：OCG Microelectronic Materials Inc.

  公开号：EP0601974A1

  公开（公告）日：1994-06-15

  Polymere mit einem Molekulargewicht (Gewichtsmittel) Mw von 103 bis 106 enthaltend wiederkehrende Struktureinheiten der Formeln (I), (Ila) und (Ilb) worin R1 Wasserstoff oder Methyl bedeutet, Y für eine direkte Bindung oder einen zweiwertigen Rest der Formel (III) steht, worin Z eine an den Phenylkern gebundene C1-C6-Alkylengruppe bedeutet, OR2 einen säurespaltbaren Rest darstellt, worin R2 C4-C10-tert.-Alkyl, unsubstituiertes oder durch eine oder mehrere C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome substituiertes Allyl, Cyclohex-2-enyl, C6-C14-Aryl oder C7-C16-Aralkyl, Trialkylsilyl, oder eine Gruppe der Formeln (IV)-(VII) darstellt worin R8 C1-C6-Alkyl oder unsubstituiertes oder durch eine oder mehrere C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome substituiertes C6-C14-Aryl oder C7-C16-Aralkyl bedeutet, R3 und R4 unabhängig voneinander für Wasserstoff, C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome stehen, R5 und R6 unabhängig voneinander Wasserstoff oder Methyl bedeuten, X für C1-C6-Alkylen und R7 für C1-C6-Alkyl, unsubstituiertes oder durch eine oder mehrere C1-C6-Alkylgruppen, C1-C6-Alkoxygruppen oder Halogenatome substituiertes C6-C14-Aryl oder C7-C16-Aralkyl oder für -CO-R8 steht, worin R8 die gleiche Bedeutung wie in Formel (IV) hat, eignen sich in zur Verwendung in DUV-Positiv-Photoresists, die stark reduzierte delay time-Effekte zeigen und sich durch hohe thermische Stabilität und hohes Auflösungsvermögen auszeichnen.

  分子量（平均重量）Mw 为 103-106 的聚合物，含有式 (I)、(Ila) 和 (Ilb) 的重复结构单元 其中 R1 为氢或甲基，Y 为直接键或式（III）的二价基、 其中 Z 代表与苯基核键合的 C1-C6 亚烷基，OR2 代表可被酸裂解的基、 其中 R2 是 C4-C10 叔烷基、未被取代或被一个或多个 C1-C6 烷基、C1-C6-烷氧基或卤素原子取代的烯丙基、环己-2-烯基、C6-C14 芳基或 C7-C16 芳基、三烷基硅烷基、 或式 (IV)-(VII) 的基团 其中 R8 是未被取代或被一个或多个 C1-C6 烷基、C1-C6 烷氧基或卤素原子取代的 C1-C6 烷基或 C6-C14 芳基或 C7-C16 芳基、 R3 和 R4 各自代表氢、C1-C6 烷基、C1-C6 烷氧基或卤素原子、 R5 和 R6 各自代表氢或甲基、 X 是 C1-C6 烷基，R7 是未被取代或被一个或多个 C1-C6 烷基、C1-C6 烷氧基或卤素原子取代的 C1-C6 烷基、C6-C14 芳基或 C7-C16 芳基，或者是 -CO-R8，其中 R8 与式（IV）中的含义相同、 适用于 DUV 阳性光刻胶，可大大降低延迟时间效应，并具有高热稳定性和高分辨率的特点。
• Maleinimidcopolymere, insbesonder für Photoresists
  申请人：OCG Microelectronic Materials Inc.

  公开号：EP0659781A2

  公开（公告）日：1995-06-28

  Beschrieben werden neue Maleinimidcopolymere, die neben Struktureinheiten, die sich von bestimmten, in der vorliegenden Patentanmeldung näher definierten Maleinimidderivaten ableiten, wiederkehrende Struktureinheiten ausgewählt aus den Struktureinheiten der Formeln (la) und (Ib) enthalten, wobei in den Formeln (la) und (Ib) A eine direkte Einfachbindung oder eine zweiwertige Gruppe der Formel -O- bedeutet ; Ro und R1 unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, eine C1-C6-Alkylgruppe oder eine Arylgruppe mit 6 bis 14 Ringkohlenstoffatomen darstellen ; R2 einen Rest der Formel darstellt, worin R für einen tert.-Alkylrest mit 4 bis 19 Kohlenstoffatomen, [T] für eine C1-C6-Alkylengruppe oder für eine Arylengruppe mit 6 bis 14 Ringkohlenstoffatomen und p für eine der Zahlen 2,3 oder 4 stehen ; oder A zusammen mit R2 eine Gruppe der Formel darstellt, wobei weiterhin R3 sowie R4 unabhängig voneinander jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine C1-C6-Alkylgruppe oder eine C1-C6-Alkoxygruppe darstellen und die weiteren Reste spezifische in der vorliegenden Anmeldung näher definierte Bedeutungen haben. Die Polymere können die Basis von chemisch verstärkten Positivphotoresists bilden, die unter anderem ausgezeichnetes Kontrastverhalten, eine geringe Schrumpfungstendenz an den bestrahlten Partien und keine nennenswerten delay time-Effekte zeigen.

  所述的新型马来酰亚胺共聚物除了含有本专利申请中更详细定义的某些马来酰亚胺衍生物的结构单元外，还含有选自式（la）和（Ib）结构单元的重复结构单元 式（la）和（Ib）中 A 表示直接单键或式 -O- 的二价基团； Ro 和 R1 各自独立地代表氢原子、C1-C6 烷基或具有 6 至 14 个环碳原子的芳基； R2 是式 其中 R 代表具有 4 至 19 个碳原子的叔烷基、 [T] 代表具有 6 至 14 个环碳原子的 C1-C6 烯基或芳基，p 代表数字 2、3 或 4 之一；或 A 与 R2 一起代表式中的一个基团 其中 R3 和 R4 各自独立地代表氢原子、卤素原子、C1-C6-烷基或 C1-C6- 烷氧基，其他基团的具体含义在本申请中有更详细的定义。这些聚合物可以构成化学放大正向光刻胶的基础，除其他外，这些光刻胶具有优异的对比度，在辐照区域具有较低的收缩趋势，并且没有明显的延迟时间效应。
• US5369200A
  申请人：——

  公开号：US5369200A

  公开（公告）日：1994-11-29
• US5397680A
  申请人：——

  公开号：US5397680A

  公开（公告）日：1995-03-14
• US5558978A
  申请人：——

  公开号：US5558978A

  公开（公告）日：1996-09-24