alpha hydroxybenzeneacetic acid (mandelic acid) | 105653-00-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: alpha hydroxybenzeneacetic acid (mandelic acid)
• 英文别名: 2-phenyl 2-hydroxyethanoic acid (mandelic acid)；2-(2-Hydroxy-2-phenylacetyl)oxy-2-phenylacetic acid
• CAS: 105653-00-7
• 化学式: C₁₆H₁₄O₅
• 分子量: 286.284
• InChiKey: RASCAYGBSQKNNI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  484.0±45.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.343±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.12
• 拓扑面积：
  83.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  alpha hydroxybenzeneacetic acid (mandelic acid) 生成 扁桃酸
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  乙醛酸 、 苯 生成 alpha hydroxybenzeneacetic acid (mandelic acid)
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Process for preparing optically active cyanohydrins and secondary products
  申请人：Clariant GmbH

  公开号：US20020052523A1

  公开（公告）日：2002-05-02

  The present invention relates to a process for preparing optically active cyanohydrins of the formula (II), 1 by reacting an aldehyde of the formula (I) 2 with HCN in a water-immiscible organic solvent in the presence of water, in the absence or presence of a buffer, in the presence of a (R)-hydroxynitrile lyase, where X, Y and Z in formula (II) have the same meaning as in formula (I), independently of each other are identical or different and are H, F, Cl, Br, I, OH, O(C 1 -C 4 -alkyl), OCOCH 3 , NHCOCH 3 , NO 2 or C 1 -C 4 -alkyl.

  本发明涉及一种制备光学活性氰醇的方法，该氰醇的化学式为（II），通过在水不相溶的有机溶剂中，在水的存在下，在缓冲剂的存在或缺失下，以及（R）-羟基腈酶的存在下，将化学式为（I）的醛与HCN反应，其中化学式（II）中的X、Y和Z与化学式（I）中的含义相同，独立于彼此相同或不同，并且为H、F、Cl、Br、I、OH、O（C1-C4-烷基）、OCOCH3、NHCOCH3、NO2或C1-C4-烷基。
• NOVEL NITRILE AND AMIDOXIME COMPOUNDS AND METHODS OF PREPARATION FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20110065622A1

  公开（公告）日：2011-03-17

  Semiconductor processing compositions comprising amidoxime compounds having two or more amidoxime functional groups and their use in semiconductor processing to remove photoresist, polymeric materials, etching residues and copper oxides from semiconductor substrates, particularly substrates comprising copper, low-k dielectric material, titanium nitride, and/or titanium oxynitride.

  半导体加工组合物包括具有两个或更多酰胺肟官能团的酰胺肟化合物，以及它们在半导体加工中的使用，以从半导体基板中去除光刻胶、聚合物材料、蚀刻残留物和氧化铜，特别是包括铜、低k介电材料、氮化钛和/或氧氮化钛的基板。
• Continuous Method For Producing Amides Of Aliphatic Hydroxycarboxylic Acids
  申请人：Krull Matthias

  公开号：US20110083957A1

  公开（公告）日：2011-04-14

  The invention relates to a continuous method for producing hydroxycarboxylic acid amides, according to which at least one hydroxycarboxylic acid of formula (I) HO—R 3 —COOH  (I) wherein R 3 is an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group comprising between 1 and 100 carbon atoms, is reacted with at least one amine of formula (II) HNR 1 R 2 (II) wherein R 1 and R 2 are independently hydrogen or a carbon group comprising between 1 and 100 C atoms, to form an ammonium salt, and said ammonium salt is then reacted to form a hydroxycarboxylic acid amide, under microwave irradiation in a reaction pipe, the longitudinal axis of the pipe being oriented in the direction of propagation of the microwaves of a monomode microwave applicator.

  本发明涉及一种连续生产羟基羧酸酰胺的方法，其中至少一种化学式为(I) HO-R3-COOH的羟基羧酸（其中R3是一个含有1至100个碳原子的可选取代的脂肪烃基），与至少一种化学式为(II) HNR1R2的胺反应，其中R1和R2分别是氢或含有1至100个C原子的碳基，形成一种铵盐，然后在反应管中通过微波辐射，在单模微波应用器的微波传播方向上，将所述铵盐反应生成羟基羧酸酰胺。
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  作者：KAKIMOTO TAKEHXIKO

  DOI：——

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• COMPOSITION COMPRISING SARSASAPOGENIN
  申请人：SEDERMA

  公开号：EP2046283B1

  公开（公告）日：2011-03-16