tert-Butyl 4-(prop-1-en-2-yl)phenyl carbonate | 84775-27-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tert-Butyl 4-(prop-1-en-2-yl)phenyl carbonate
• 英文别名: tert-butyl (4-prop-1-en-2-ylphenyl) carbonate
• CAS: 84775-27-9
• 化学式: C₁₄H₁₈O₃
• 分子量: 234.29
• InChiKey: MLJSCNMYWNQUAR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  35.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  对羟基苯乙酮 、 potassium tert-butylate 、 二碳酸二叔丁酯 、 水 在 乙酸乙酯 、 甲基三苯基溴化膦 、 四氢呋喃 、 potassium tert-butylate 、 4-(tert-butoxycarbonyloxy)acetylbenzene 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.0h， 以to give 1.55 g (66%) of pure p-tert-butoxycarbonyloxy-α-methylstyrene的产率得到tert-Butyl 4-(prop-1-en-2-yl)phenyl carbonate
  参考文献：
  名称：

  Positive- and negative-working resist compositions with acid generating

  摘要：

  该文本的翻译如下： 一种抗UV、电子束和X射线辐射的抗阻剂，通过选择合适的显影剂，可以在正或负的调性下制备出具有反复悬挂基团的聚合物，如叔丁基酯或叔丁基碳酸酯，这些基团可以通过高效的酸解作用与极性（溶解性）同时发生变化，同时还添加了光引发剂，该剂可在辐射分解时产生酸性物质。还可以添加可改变波长灵敏度的敏化剂组分。

  公开号：

  US04491628A1

文献信息

• [EN] THIOXANTHONE DERIVATIVES, COMPOSITION COMPRISING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD COMPRISING SAID COMPOSITION<br/>[FR] DÉRIVÉS DE THIOXANTHONE, COMPOSITION LES COMPRENANT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS COMPRENANT LADITE COMPOSITION
  申请人：LINTFIELD LTD

  公开号：WO2020016389A1

  公开（公告）日：2020-01-23

  Latent photoinitiator compounds are described, as well as compositions containing such compounds and their uses in photoinitated methods for producing photoresist structures.

  描述了潜在的光引发剂化合物，以及含有这种化合物的组合物，以及它们在用于生产光刻胶结构的光引发方法中的用途。
• Photoacid generators, photoresist compositions containing the same and pattering method with the use of the compositions
  申请人：——

  公开号：US20030198889A1

  公开（公告）日：2003-10-23

  Photoacid generators comprising sulfonium salt compounds represented by the following general formula (2) wherein R 1 and R 2 represent each an alkyl group optionally having oxo, or R 1 and R 2 may be cyclized together to form an alkylene group optionally having oxo; R 3 , R 4 and R 5 represent each hydrogen or a linear, branched, monocyclic, polycyclic or crosslinked cyclic alkyl group; and Y − represents a counter ion. 1

  照片酸发生剂包括由下列通式（2）所代表的硫鎓盐化合物，其中R1和R2各代表一个可选择具有氧代的烷基或R1和R2可以环化在一起形成一个可选择具有氧代的烷基烃基；R3、R4和R5各代表氢或线性、支链、单环、多环或交联环烷基；而Y-代表一个反离子。
• (Meth) acrylate, polymer, photoresist composition, and pattern forming process making use of the composition
  申请人：NEC Corporation

  公开号：US20010031429A1

  公开（公告）日：2001-10-18

  A photoresist composition contains a photoacid generator and a polymer represented by the following formula: 1 wherein R 4 , R 6 and R 9 each represents a hydrogen atom or a methyl group, R 5 and R 7 each represents a C 17-23 divalent hydrocarbon group containing a bridged cyclic hydrocarbon group, R 8 represents an acid-decomposable group, R 10 represents a hydrogen atom or a C 1-12 hydrocarbon group, x+y+z equals to 1, and x, y and z stand for 0 to 1, 0 to 1, and 0 to 0.9, respectively, and having a weight average molecular weight of from 1,000 to 500,000. According to the present invention, a chemical modification photoresist composition having high transparency to radiation of 220 nm and shorter and improved in etching resistance can be provided.

  一种光阻组合物包含以下式子所表示的光酸发生剂和聚合物：1其中，R4、R6和R9分别表示氢原子或甲基基团，R5和R7分别表示含有桥环烃基的C17-23二价碳氢基团，R8表示酸分解基团，R10表示氢原子或C1-12碳氢基团，x+y+z等于1，其中x、y和z分别为0到1、0到1和0到0.9，并具有1,000到500,000的重均分子量。根据本发明，可以提供一种对220nm及以下辐射具有高透明度且具有改善的蚀刻抗性的化学修饰光阻组合物。
• Photoacid generator containing two kinds of sulfonium salt compound, chemically amplified resist containing the same and pattern transfer method
  申请人：——

  公开号：US20020182535A1

  公开（公告）日：2002-12-05

  A chemically amplified photo-resist contains a photoacid generator for changing the solubility of resin after exposure to 130-220 nanometer wavelength light, and the photoacid generator contains two kinds of sulfonium salt compound expressed by general formulae [1] and [2] 1 so that the chemically amplified photo-resist is improved in resolution, sensitivity and smoothness on side surfaces of a transferred pattern.

  一种化学增感光阻含有光酸发生剂，用于在暴露于130-220纳米波长的光线后改变树脂的溶解度，而光酸发生剂包含两种磺酸盐化合物，由一般式[1]和[2]1表示，因此，化学增感光阻在转移图案的侧面表面上提高了分辨率、灵敏度和光滑度。
• (Meth) acrylate derivative, polymer and photoresist composition having lactone structure, and method for forming pattern by using it
  申请人：——

  公开号：US20010026901A1

  公开（公告）日：2001-10-04

  There are here disclosed a photoresist material for lithography using a light of 220 nm or less which comprises at least a polymer represented by the following formula (2) and a photo-acid generator for generating an acid by exposure: 1 wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 5 are each a hydrogen atom or a methyl group; R 4 is an acid-labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has an acid labile group, an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group, or a hydrocarbon group having 3 to 13 carbon atoms, which has an epoxy group; R 6 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an alicyclic hydrocarbon group having 7 to 13 carbon atoms, which has a carboxyl group; x, y and z are optional values which meet x+y+z=1, 0

  本发明公开了一种用于使用220纳米或更短波长的光进行光刻的光阻材料，其包括至少一种由以下式（2）表示的聚合物和用于通过曝光产���酸的光酸发生剂： 其中，R1、R2、R3和R5分别为氢原子或甲基基团；R4为酸可裂解基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有酸可裂解基团、具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基，或具有3至13个碳原子的烃基团，其具有环氧基团；R6为氢原子、具有1至12个碳原子的烃基团，或具有7至13个碳原子的脂环烃基团，其具有羧基；x、y和z是可选的值，满足x+y+z=1，0≤x≤1，0≤y<1和0≤z<1；聚合物的重均分子量在2000至200000范围内，以及具有由式（3）表示的脂环内酯结构的（甲）丙烯酸酯单元的树脂： 其中，R8为氢原子或甲基基团，R9为具有脂环内酯结构的7至16个碳原子的烃基团。