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sodium 4-chloro-3,5-dinitrobenzoate | 69644-63-9

中文名称
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中文别名
——
英文名称
sodium 4-chloro-3,5-dinitrobenzoate
英文别名
Sodium;4-chloro-3,5-dinitrobenzoate;sodium;4-chloro-3,5-dinitrobenzoate
sodium 4-chloro-3,5-dinitrobenzoate化学式
CAS
69644-63-9
化学式
C7H2ClN2O6*Na
mdl
——
分子量
268.545
InChiKey
ZNKGQRVAWAOSSU-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
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  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
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  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -2.48
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    132
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    sodium 4-chloro-3,5-dinitrobenzoatesodium hydroxide十六烷基三甲基溴化铵 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 生成 Sodium; 4-hydroxy-3,5-dinitro-benzoate
    参考文献:
    名称:
    胶束催化有机反应。第35部分。在存在添加剂的情况下动力学测定阳离子胶束的临界胶束浓度
    摘要:
    通过动力学方法测定十六烷基三甲基溴化铵和十四烷基三甲基溴化铵的临界胶束浓度。这涉及在广泛的洗涤剂浓度范围内确定某些活化的芳族底物的羟基脱卤速率。在含有大量添加的氢氧离子的溶液和本身是两亲的底物中进行测量。常规方法不能放心地应用于此类系统。研究了改变氢氧根离子浓度,添加溴化钠,改变芳香族底物(无论是中性还是带电)的性质,胶束抗衡离子的身份和温度的影响。伤口上添加了溴离子或氢氧根离子导致CMC降低,而温度升高导致CMC升高。胶束抗衡离子的性质(Br,F,OH,SO4)对CMC的影响很小。带电荷的芳族底物的存在导致CMC的显着降低,而所用的中性芳族底物几乎没有效果。
    DOI:
    10.1002/poc.610070808
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文献信息

  • Micellar catalysis of organic reactions. 27. Micellar bound Meisenheimer complexes
    作者:Trevor J. Broxton、Roland P. T. Chung
    DOI:10.1021/jo00299a035
    日期:1990.6
  • Micellar catalysis of organic reactions. Part 35. Kinetic determination of the critical micelle concentration of cationic micelles in the presence of additives
    作者:Trevor J. Broxton、John R. Christie、Anthony J. Dole
    DOI:10.1002/poc.610070808
    日期:1994.8
    substrate (whether neutral or charged), the identity of the micellar counterion and the temperature were investigated. It was wound that added bromide or hydroxyl ions resulted in a lower CMC whereas increased temperature led to an increase in the CMC. The nature of the micellar counterion (Br, F, OH, SO4) had little effect on the CMC. The presence of a charged aromatic substrate led to a considerable lowering
    通过动力学方法测定十六烷基三甲基溴化铵和十四烷基三甲基溴化铵的临界胶束浓度。这涉及在广泛的洗涤剂浓度范围内确定某些活化的芳族底物的羟基脱卤速率。在含有大量添加的氢氧离子的溶液和本身是两亲的底物中进行测量。常规方法不能放心地应用于此类系统。研究了改变氢氧根离子浓度,添加溴化钠,改变芳香族底物(无论是中性还是带电)的性质,胶束抗衡离子的身份和温度的影响。伤口上添加了溴离子或氢氧根离子导致CMC降低,而温度升高导致CMC升高。胶束抗衡离子的性质(Br,F,OH,SO4)对CMC的影响很小。带电荷的芳族底物的存在导致CMC的显着降低,而所用的中性芳族底物几乎没有效果。
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