3,6-Endoxo-hexahydrophthalsaeure-dimethylester | 4695-49-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 3,6-Endoxo-hexahydrophthalsaeure-dimethylester
• 英文别名: 3,6-Epoxy-hexahydrophthalsaeure-dimethylester；7-oxa-bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid dimethyl ester；Endothal dimethyl ester；dimethyl 7-oxabicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylate
• CAS: 4695-49-2
• 化学式: C₁₀H₁₄O₅
• 分子量: 214.218
• InChiKey: HGUPYDNRFPCLSC-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.2
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  61.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,6-Endoxo-hexahydrophthalsaeure-dimethylester 、 氢化铝锂 生成 2,3-bis-hydroxymethyl-7-oxa-bicyclo[2.2.1]heptane
  参考文献：
  名称：

  ANDREU, CECILIA;MARCO, J. ALBERTO;ASENSIO, GREGORIO, J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS. PT 1,(1990) N1, C. 3209-3210

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  7-氧杂双环[2.2.1]庚-2,5-二烯-2,3-二甲酸二甲酯 生成 3,6-Endoxo-hexahydrophthalsaeure-dimethylester
  参考文献：
  名称：

  ANDREU, CECILIA;MARCO, J. ALBERTO;ASENSIO, GREGORIO, J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS. PT 1,(1990) N1, C. 3209-3210

  摘要：

  DOI：

文献信息

• A half-sandwich 1,2-azaborolyl ruthenium complex: synthesis, characterization, and evaluation of its catalytic activities
  作者：Zicheng Liu、Junjie Xu、Wenqing Ruan、Chen Fu、Hui-Jun Zhang、Ting-Bin Wen

  DOI：10.1039/c3dt51177d

  日期：——

  A half-sandwich 1,2-azaborolyl (Ab) ruthenium complex, (Ab–CCPh)RuCl(PPh3)2 (1), has been synthesized by treating RuCl2(PPh3)3 with lithium 1,2-azaborolide L-1, or by treating either RuCl2(PPh3)3 or RuHCl(PPh3)3 directly with 1,2-azaborole LH-1. It is evaluated as a suitable precatalyst in [2 + 2] cycloadditions of norbornene derivatives with DMAD and in atom transfer radical additions of halogenated compounds with olefins.

  通过将 RuCl2(PPh3)3 与 1,2-氮杂硼酸锂 L-1 一起处理，或将 RuCl2(PPh3)3 或 RuHCl(PPh3)3 直接与 1,2-氮杂硼酸 LH-1 一起处理，合成了一种半夹心 1,2-氮杂硼酸（Ab）钌配合物 (Ab-CCPh)RuCl(PPh3)2 (1)。在降冰片烯衍生物与 DMAD 的[2 + 2]环加成反应中，以及卤代化合物与烯烃的原子转移自由基加成反应中，它被评估为一种合适的前催化剂。
• PHOTOACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：LI Mingqi

  公开号：US20110250538A1

  公开（公告）日：2011-10-13

  New methods are provided for synthesis of photoacid generator compounds (“PAGs”), new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such PAG compounds. In a particular aspect, sulfonium-containing (S+) photoacid generators and methods of synthesis of sulfonium photoacid generators are provided.

  提供了合成光酸发生剂化合物（“PAGs”）的新方法，新的光酸发生剂化合物和包含此类PAG化合物的光刻胶组合物。在特定方面，提供了含砜基（S +）光酸发生剂和砜基光酸发生剂的合成方法。
• Photoacid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：EP2360153A2

  公开（公告）日：2011-08-24

  New methods are provided for synthesis of photoacid generator compounds ("PAGs"), new photoacid generator compounds and photoresist compositions that comprise such PAG compounds. In a particular aspect, sulfonium-containing (S+) photoacid generators and methods of synthesis of sulfonium photoacid generators are provided.

  提供了合成光酸发生器化合物（"PAGs"）、新型光酸发生器化合物和包含此类 PAG 化合物的光刻胶组合物的新方法。在一个特定方面，提供了含锍 (S+) 的光酸发生器和锍光酸发生器的合成方法。
• ZALUPSKY P.; FISERA L.; HRICOVA D., CHEM. PAP., 40,(1986) N 5, 707-715
  作者：ZALUPSKY P.、 FISERA L.、 HRICOVA D.

  DOI：——

  日期：——
• US9255079B2
  申请人：——

  公开号：US9255079B2

  公开（公告）日：2016-02-09