(叔丁氧基羰基甲氧基苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 | 180801-55-2

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: (叔丁氧基羰基甲氧基苯基)二苯基三氟甲磺酸盐
• 中文别名: 叔丁氧羰基-甲氧基苯基二苯锍三氟甲磺酸酯；叔丁氧羰基-甲氧基苯基二苯锍三氟甲磺酸盐
• 英文名称: diphenyl(4-t-butoxycarbonylmethoxyphenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate
• 英文别名: diphenyl-(4-t-butoxycarbonylmethoxyphenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate salt；(Tert-butoxycarbonylmethoxyphenyl)diphenylsulfonium triflate；[4-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethoxy]phenyl]-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
• CAS: 180801-55-2
• 化学式: CF₃O₃S*C₂₄H₂₅O₃S
• 分子量: 542.597
• InChiKey: KMJCYKNSIKZQFX-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  104-108 °C(lit.)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.55
• 重原子数：
  36
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  102
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

安全信息

• 危险品标志：
  Xi,C
• 危险类别码：
  R36/37/38
• WGK Germany：
  3
• 安全说明：
  S26

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (叔丁氧基羰基甲氧基苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 、 benzoyloxymethyldifluorosulfonic acid sodium salt 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 3.0h， 以94%的产率得到benzoic acid 2,2-difluoro-2-sulfoethyl ester diphenyl-(4-t-butoxycarbonylmethoxyphenyl)sulfonium salt
  参考文献：
  名称：

  Photoacid generator containing aromatic ring

  摘要：

  提供以下公式（1）所表示的酸发生剂：其中，X代表具有1至10个碳原子的烷基基团，-X1-O-X2-或从氮、硫和氟组成的杂原子中选择的一个；X1和X2各自独立地表示具有1至10个碳原子的烷基基团；Y表示含有5至30个碳原子并含有一个或多个芳香环的环状烃基团，环状烃基团的环上一个或多个氢原子可以被选择自-O-Y1、-CO-Y2、具有1至6个碳原子的烷基基团、具有1至6个碳原子的烷氧基团、具有1至4个碳原子的全氟烷基团、具有1至4个碳原子的全氟烷氧基团、具有1至6个碳原子的羟基烷基团、卤素原子、羟基团和氰基的一个或多个成员取代；Y1和Y2各自独立地表示具有1至6个碳原子的烷基基团；n表示0或5的整数；A+表示有机对离子。

  公开号：

  US20100113818A1

文献信息

• Acid generating agent for chemically amplified resist compositions
  申请人：Oh Jung-Hoon

  公开号：US20090234155A1

  公开（公告）日：2009-09-17

  An acid generating agent used for chemically amplified resist compositions is provided, which agent is represented by the following formula (1): wherein X represents a monocyclic or polycyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms, and having at least one hydrogen atom on the ring substituted by an alkyl or alkoxy group which and may be unsubstituted or substituted with a group selected from an ether group, an ester group, a carbonyl group, an acetal group, an epoxy group, a nitrile group and an aldehyde group, or by a perfluoroalkyl group, a hydroxyalkyl group, or a cyano group; R 6 is an alkyl group, an alkoxy group, or a heteroatom selected from the group consisting of N, S and F; m is an integer from 0 to 2; and A+ is an organic counterion.

  提供用于化学增强抗蚀配方的酸发生剂，该剂由以下式（1）表示：其中X代表具有3至30个碳原子的单环或多环碳氢基团，并且环上至少有一个氢原子被烷基或烷氧基取代，该基团可以未取代或者取代为从醚基团、酯基团、羰基团、缩醛基团、环氧基团、腈基团和醛基团中选择的基团，或者被全氟烷基团、羟基烷基团或氰基团取代；R6是烷基团、烷氧基团或从N、S和F组成的杂原子中选择的杂原子；m是从0到2的整数；A+是有机对离子。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1953593A1

  公开（公告）日：2008-08-06

  It is intended to provide a radiation-sensitive resin composition, which comprises a radiation-sensitive acid generator excellent in resolution performance, heat stability, and storage stability, suppresses fluctuations in line width and deterioration in pattern profile attributed to standing waves, and produces a resist pattern improved in nano edge roughness and LEF. The radiation-sensitive resin composition is characterized by (A) a radiation-sensitive acid generator comprising: a sulfonium salt compound typified by 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluorobenzenesulfonate, 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate, or the like; and a sulfonimide compound. It is preferred that the composition should further comprise (B) a resin typified by a 4-hydroxystyrene/4-t-butoxystyrene copolymer, a 4-hydroxystyrene/t-butyl (meth)acrylate, or the like.

  本发明的目的是提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含一种在分辨率、热稳定性和储 存稳定性方面都很出色的辐射敏感酸发生器，它能抑制驻波引起的线宽波动和图案轮廓的恶化， 并能产生在纳米边缘粗糙度和 LEF 方面都有所改善的抗蚀图案。辐射敏感树脂组合物的特征在于 (A) 辐射敏感酸发生器，包括：锍盐化合物，如 2,4,6-三甲基二苯基锍 2,4-二氟苯磺酸盐、2,4,6-三甲基二苯基锍 4-三氟甲基苯磺酸盐或类似物；以及磺酰亚胺化合物。组合物最好还包括 (B) 一种树脂，其类型为 4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/（甲基）丙烯酸丁酯或类似物。
• Positive resist composition and method of forming resist pattern
  申请人：Okubo Waki

  公开号：US20050042540A1

  公开（公告）日：2005-02-24

  A positive resist composition capable of improving the occurrence of standing waves on the side walls of a resist pattern, and a method of forming a resist pattern that uses such a positive resist composition. The positive resist composition comprises a resin component (A) that displays improved alkali solubility under the action of acid, and a photoacid generator component (B) that generates acid on exposure, wherein the component (A) comprises a structural unit (a1) derived from hydroxystyrene, and a structural unit (a2) derived from a (meth)acrylate ester represented by a general formula (I) shown below, and the component (B) comprises a diazomethane based photoacid generator as the primary component.

  一种能够改善抗蚀剂图案侧壁驻波发生的正向抗蚀剂组合物，以及一种使用这种正向抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。该正抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示出更好的碱溶解性的树脂成分（A）和在曝光时产生酸的光酸发生器成分（B），其中成分（A）包括衍生自羟基苯乙烯的结构单元（a1）和衍生自如下所示通式（I）代表的（甲基）丙烯酸酯的结构单元（a2），成分（B）包括作为主要成分的重氮甲烷基光酸发生器。
• Radiation-sensitive resin composition
  申请人：Suzuki Aki

  公开号：US20050158657A1

  公开（公告）日：2005-07-21

  A radiation-sensitive resin composition comprising (A) a photoacid generator such as 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluorobenzenesulfonate or 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate and (B) a resin having an acetal structure typified by a poly(p-hydroxystyrene) resin in which a part of hydrogen atoms of phenolic hydroxyl groups have been replaced by 1-ethoxyethyl groups, 1-ethoxyethyl groups and t-butoxycarbonyl groups, or 1-ethoxyethyl groups and t-butyl groups. The resin composition is sensitive to deep ultraviolet rays and charged particles such as electron beams, exhibits excellent resolution performance and pattern shape-forming capability, and suppresses a nano-edge roughness phenomenon to a minimal extent.

  一种辐射敏感树脂组合物，包括(A)光酸发生器，如 2,4,6-三甲基二苯基锍 2,4-二氟苯磺酸盐或 2,4、(B) 具有缩醛结构的树脂，例如聚（对羟基苯乙烯）树脂，其中酚羟基的部分氢原子被 1-乙氧基乙基、1-乙氧基乙基和叔丁氧基羰基或 1-乙氧基乙基和叔丁基取代。这种树脂组合物对深紫外线和带电粒子（如电子束）敏感，具有优异的分辨性能和图案成型能力，并能在最小程度上抑制纳米边缘粗糙度现象。
• US5679496A
  申请人：——

  公开号：US5679496A

  公开（公告）日：1997-10-21